教学目的： 1. 了解氧化还原平衡及反应进行的程度；明确氧化还原反应的实质，能运用能斯特方程计算电极电位，并据此判断反应进行的方向及进行的程度。理解对称电对、对称反应。 2. 理解标准电极电位与条件电极电位的意义和它们之间的区别，掌握影响条件电位的因素，会计算特定介质中的条件电位。 3. 了解影响氧化还原反应速度的各种因素。掌握平衡常数的计算。 4. 掌握氧化还原滴定过程中电极电位和离子浓度的变化规律及计算方法，影响突跃范围的因素，指示剂的选择。 5. 掌握 KMnO4 法、K2Cr2O7法及碘量法的原理、条件、步骤、应用及有关标准溶液的配制，掌握分析结果的计算。 6. 了解氧化还原预处理的重要性及预处理常用的氧化剂和还原剂 教学重点： 1. 氧化还原平衡体系中有关电对的电极电位的计算， 2. 反应方向及进行程度的判断，平衡常数的计算，滴定过程中电极电位的计算， 3. 指示剂的选择和氧化还原滴定法的应用。 教学难点：条件电极电势概念的理解；非对称型滴定反应的相关计算

6.1 氧化还原反应平衡 6.2 氧化还原反应进行的程度 6.3 氧化还原反应的速率与影响因素 6.4 氧化还原滴定曲线及终点的确定 6.5 氧化还原滴定的预处理 6.6 KMnO4法 6.7 重铬酸钾法 6.8 碘量法 6.9 其他氧化还原滴定法 6.10 氧化还原滴定的计算

氧化还原平衡 氧化还原反应速率 氧化还原滴定曲线 氧化还原滴定中的指示剂 氧化还原滴定前的预处理 常用的氧化还原滴定法 氧化还原滴定结果的计算

§６-1 氧化还原反应平衡 §６-2 氧化还原反应进行的程度 §６-3 氧化还原反应的速度与影响反应速度的因素 §６-4 氧化还原滴定曲线及终点的确定 §６-5 氧化还原滴定法中的预处理 §６-6 高锰酸钾法 §６-7 重铬酸钾法 §６-8 碘量法 §６-9 其他氧化还原滴定法 §６-10 氧化还原滴定结果的计算

重点要求掌握掌握氧化还原反应的基本概念;熟 练判断氧化还原反应的方向及平衡常数的计算;掌握 原电池的表达方式；重点掌握能斯特（Nernst）方 程式及其应用，熟练进行有关计算 11.1 基本概念 11.2 氧化还原反应方程式的配平 11.3 电极电势 11.4 电势图解及其应用 11.5 电解 11.6 化学电源简介

油气藏的破坏和油气再分布:是指已经处在物理、化学上的稳定性和平衡状态的油 气藏在各种地质、物理、化学因素的作用下,油气圈闭或油气本身的物理化学稳定性 遭到部分或全部破坏,致使油气在新的条件下发生再运移和再聚集的过程。 油气藏破坏的结果使油气部分或全部散失因各种微生物降解或氧化作用产生变 质,失去工业价值;油气再分布的结果使原来较大的油气藏分散成若干小油气藏,或 者若干小油气藏富集成一个较大的油气藏

6.1 氧化还原反应平衡 6.2 氧化还原反应进行的程度 6.3 氧化还原反应的速率 6.4 滴定曲线及终点确定 6.5 氧化还原滴定法中的预处理 6.6 高锰酸钾法 6.7 重铬酸钾法 6.8 碘量法 6.9 其它氧化还原滴定法 6.10 氧化还原滴定

采用同时平衡和质量守恒原理对全液相常温常压法制备CuInSe2(CIS)粉体过程中Cu+-In3+-Se2--NH3-L2--Cl--H2O体系的热力学平衡进行分析,并绘制一系列的浓度对数lgc-pH值曲线.依据平衡图,发现溶液中[NH3]T的变化主要影响溶液中[Cu+]T在体系中的浓度变化,[L2-]T的变化主要影响的是体系中[In3+]T的浓度变化,而[Cl-]T的变化对[Cu+]T和[In3+]T的浓度变化均有影响,并可发现在pH7.0~8.5时沉淀率最高.依据Cu+-In3+-Se2--NH3-L2--Cl--H2O体系的同时平衡和质量守恒原理,采用全液相常温常压法,在pH7.0~8.5条件下制备出粒径在20~50nm且基本符合标准化学计量比的CIS纳米粉体

一、氧化还原反应平衡 Redox equilibrium 二、氧化还原反应进行的程度 Reaction completeness 三、氧化还原反应的速率与影响因素 Rate of reaction and influencing factors 四、氧化还原滴定指示剂 Redox indicators 五、氧化还原滴定原理 Oxidimetric principle 六、氧化还原滴定前的预处理 Pretreatment 七、常用的氧化还原滴定法 Common used titration

一、氧化还原反应平衡 Redox equilibrium 二、氧化还原反应进行的程度 Reaction completeness 三、氧化还原反应的速率与影响因素 Rate of reaction and influencing factors 四、氧化还原滴定指示剂 Redox indicators 五、氧化还原滴定原理 Oxidimetric principle 六、氧化还原滴定前的预处理 Pretreatment 七、常用的氧化还原滴定法 Common used titration