研究了合金中M6C,M23C6及MC的晶体结构、化学组成、形态、分布及数量,它们的溶解析出规律及互相转化

使用石灰干化污泥作为水泥原料的部分代替品制备水泥,石灰干化污泥质量分数变化范围在0-30%时探讨了石灰干化污泥的加入对水泥各项性能的影响.结果表明:石灰干化污泥以15%的加入量掺入生料后,可以明显改善水泥熟料的煅烧性能、矿物相晶体结构及形貌,并且能够显著增强水泥强度.当石灰干化污泥掺量继续增加后,其对于水泥性能的改善作用逐渐下降,当添加量达到30%时制得的水泥性能与未加入污泥的水泥已相差不大.毒性浸出实验结果显示:加入石灰干化污泥后,熟料和水泥的重金属含量较未加入污泥时高,但浸出量很低,浸出液中Cu、Zn、Pb、Cr和Ni的质量浓度均在lmg·L-1以下,远低于国家标准GB5085.3-2007,不会产生二次污染

采用磁控溅射方法制备分别以Ta和NiFeCr为缓冲层的Ta(NiFeCr)/NiFe/Ta薄膜材料.对于相同厚度的NiFe薄膜,与传统材料Ta相比,用NiFeCr作缓冲层薄膜的各向异性磁电阻有显著的提高.X射线衍射结果表明,与Ta缓冲层相比NiFeCr缓冲层可以诱导更强的NiFe(111)织构.高分辨透射电子显微镜结果表明,NiFeCr缓冲层和NiFe层的晶格匹配非常好,NiFe沿着NiFeCr外延生长,以NiFeCr为缓冲层的NiFe薄膜具有良好的晶体结构.对薄膜进行热处理,以NiFeCr缓冲层为缓冲薄膜的各向异性磁电阻值在350℃以下基本保持不变,当退火温度超过350℃后,其值会明显下降.以NiFeCr缓冲层的薄膜在350℃以下退火具有良好的热稳定性

利用光电子能谱XPS研究CeO2包覆TiO2后氧化还原性能.TEM照片证明实验中制备出包覆材料;Ce3d谱线说明加入TiO2后CeO2非常容易还原,吸氧时它能够再氧化.由于CeO2的晶体结构发生畸变,CeO2的活化能降低,有利于氧空位移动,所以CeO2容易还原氧化

用碳离子注入到金属Fe和Ni中形成六方相。在Co中第一次形成了六方碳化物,晶格常数为a=0.268nm,c=0.433nm。同常规热处理方法比较,离子注入更倾向于形成简单晶体结构相、非晶相,而不容易形成复杂结构相。这一规律可以指导一般的离了注入实验并预期其他新相的形成

用嵌入原子势(EAM)表达的晶体结构力学稳定性判据肯定了AVoter等人给出的铝原子的嵌入原子势的可靠性,计算了铝单晶体的力学性质,铝单晶沿[100]方向受单轴外力作用,当外力为压应力时,其结构发生转变,产生两个不稳定的新结构相BCC和BCT;外力为张应力时,铝单晶产生均匀形变,其形变达14.42%时材料断裂,相应的理论拉伸强度为0.64×104MPa。由计算结果确定了与铝原子EAM势的适用范围相对应的α1取值范围为0.358~0.473nm

利用X射线衍射方法,研究了304L不锈钢中电解充氢过程和随后时效过程中的氢致奥氏体结构变化和氢致马氏体相变。结果表明,电解充氢可导致奥氏体晶格膨胀和马氏体相变,α’相和ε相同时出现,并且在室温时效过程中并不能消失

用锌粉氧化的方法,通过控制反应器内的气相过饱和度,合成出纯度高、晶体结构完整、尺度可控的四针状氧化锌晶须(T-ZnO晶须).制备的T-ZnO晶须为长尾晶须,针长为5~30 μm,针体的根部尺寸为1~2μm,尾部约100nm.晶须的生长机理为气-固(VS)机理.控制反应器内的反应气相过饱和度是制备高品质T-ZnO晶须的关键因素

采用静电辅助的气溶胶化学气相沉积的方法成功地在Si(100)衬底上制备了Y2O3薄膜,利用X射线衍射(XRD)、场发射扫描电镜(FE-SEM)、原子力显微镜(AFM)和X射线光电子能谱(XRP)对薄膜进行了表征.SEM分析结果显示,薄膜的颗粒为纳米级的,并且薄膜致密、平整.AFM分析结果表明,薄膜的粗糙度为11nm.由XPS分析可知,薄膜为基本上符合化学计量比的氧化物.附着力测试表明,Y2O3薄膜与Si衬底的附着力为4.2N.X射线衍射分析结果表明,沉积得到的Y2O3薄膜在热处理前为非晶结构,热处理之后薄膜具有立方晶体结构,并且沿(111)面择优生长

在氮化镓中添加其他元素,有可能使其宽禁带变窄,从而提高其作为光催化剂的光利用效率.在1123K的氮化温度下,用氧化镓(Ga2O3)和氧化锌(ZnO)粉末与流动的NH3反应900min制备出黄色的氮化镓与氧化锌的固溶体Ga1-xZnxNO.探讨了制备工艺对所得粉体的影响,通过X射线衍射(XRD),扫描电镜(SEM)以及紫外可见吸收光谱(UV-Vis)研究Ga1-xZnxNO的晶体结构和光学性能.所得Ga1-xZnxNO的粉末呈六角纤锌矿结构,紫外可见吸收光谱表明该物质的吸收峰位于可见光范围内