第一节 酸碱溶液的pH计算 第二节 酸碱指示剂 第三节 酸碱滴定法的基本原理 第四节 滴定终点误差 第五节 非水滴定法

§ 5.1 酸碱质子理论概述 § 5.2 水的解离平衡和溶液的pH § 5.3 弱酸、弱碱的解离平衡 5.3.1 一元弱酸、弱碱的解离平衡 5.3.2 多元弱酸的解离平衡 5.3.3 盐溶液的酸碱平衡 § 5.4 缓冲溶液 5.4.1 同离子效应 5.4.2 缓冲溶液 5.4.3 缓冲溶液pH的计算 * 5.4.4 缓冲范围和缓冲能力 § 5.5 酸碱指示剂 § 5.6 酸碱电子理论 § 5.7 配位化合物 § 5.8 配位反应与配位平衡 5.8.1 配合物的解离常数和稳定常数 *5.8.2 配体取代反应和电子转移反应 *5.8.3 配合物稳定性

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第1节 WAP概述 7.1.1 WAP的概念 7.1.2 WAP产生背景 7.1.3 WAP的设计目标 7.1.4 WAP的特点 7.1.5 WAP论坛 7.1.6 WAP体系结构 第2节 WAP的网络结构 • WAP通信过程 • WAP服务的技术实现方案 第3节 WAP协议体系 7.3.1 WAP1.2协议栈 7.3.2 WAP2.0协议栈 第4节 WAP的安全问题 7.4.1 WAP中的安全问题 7.4.2 WIM体系结构概述 7.4.3 WAP安全操作 7.4.4 WIM服务接口定义* 7.4.5 WTLS中的WIM操作 7.4.6智能卡实现 第5节 WAP PUSH技术概述 • PUSH概述 • PUSH代理网关PPG • PUSH访问协议PAP • PUSH空中协议OTA • 业务指示 • 业务加载 • 客户端基础结构 • 安全考虑 第6节 WML/WML Script • WML简介 • WML语法 • WML Script介绍 第7节 WAP网站建设初步 1. WAP网站建设的准备工作 2. WAP网站建设的中期开发 3. WAP网站建设的后期测试

氧化还原平衡 氧化还原反应速率 氧化还原滴定曲线 氧化还原滴定中的指示剂 氧化还原滴定前的预处理 常用的氧化还原滴定法 氧化还原滴定结果的计算

第一部分 ICETEK–VC5509-AE 评估板硬件使用指导 第一章 ICETEK–VC5509-AE 评估板技术指标. 第二章 ICETEK–VC5509-AE 原理图和实物图 . 第三章 接插件位置和拨档开关设置. 第四章 二次开发扩展总线（P1，P2，P3，P4）的定义与应用 第五章 TMS320VC5509 的存储空间和评估板的存储器映射 第六章 ICETEK–VC5509-AE评估板 I/O 寄存器的设计和使用. 第二部分 ICETEK-VC5509-AE 教学系统软件使用指导 实验设备安装 一．开发环境 . 二．ICETEK-DSP 教学实验箱的硬件连接 . 三．构造 DSP 开发软件环境 . 四．启动和设置 CCS 一．CCS 软件应用实验 实验 1 ：Code Composer Studio 入门 . 实验 2 ：编写一个以 C 语言为基础的 DSP 程序 . 实验 3 ：编写一个以汇编(ASM)语言为基础的 DSP 程序 实验 4 ：编写一个汇编和 C 混合的 DSP 程序 . 二．基于 DSP 芯片的实验 . 实验 ：DSP 数据存取实验 三．基于 DSP 系统的实验 . 实验 ：指示灯实验 . 实验 ：拨码开关控制实验 . 第三部分 ICETEK-VC5509-AE 教学实验指导 . 实验 ：单路，多路模数转换（AD） . 实验 ：外中断 . 实验 ：DSP 的定时器

7.1 概述 7.2 溶液中各级络合物型体的分布 7.3 副反应系数及条件稳定常数 7.4 EDTA滴定条件及其影响因素 7.5 络合滴定指示剂 7.6 终点误差和准确滴定的条件 7.7 提高络合滴定选择性的方法 7.8 络合滴定的方式和应用

第一章 在竞争激烈时代胜出的经营方法 第二章 经营走向全球化标准之路 第三章 经营者与战略方向性的指示方法 第四章 杰出领导的精髓 第五章 重视方针的管理与程序管理 第六章 员工满意与人才开发 第七章 顾客关系管理的理想状态 第八章 信息的有效利用和基准化 第九章 飞利浦提高经营质量的工具