§5-1 极谱分析的基本原理 §5-2 扩散电流方程式—极谱定量分析基础 §5-3 半波电位—极谱定性分析原理 §5-4 干扰电流及其消除方法 §5-5 极谱分析的特点 §5-6 极谱催化波 §5-7 单扫描极谱法和循环伏安法 §5-8 方波极谱法 §5-9 脉冲极谱分析 §5-10 溶出伏安法 §5-11 伏安滴定

由Na2O·nSiO2和Mg(NO3)2经沉淀法合成了三硅酸镁,用450℃煅烧或酸化方法对合成的样品进行改性.采用XRD、IR、TG/DTA和BET等表征手段,考察了原料加入顺序、酸化和煅烧过程对样品的结晶度和表面织构的影响规律,并对其影响机理进行了探讨.结果表明,不同滴定顺序和不同活化方法制得的样品均为非晶态物质.TG/DTA分析显示不同滴定顺序样品的组成相同.pH对样品的表面织构有明显的影响.BET分析表明,Mg(NO3)2滴加入泡花碱溶液合成的样品为微孔材料,以1~3nm和0.7~0.9nm的微孔为主,比表面积达568.93m2·g-1,水合硅酸镁含量较高.泡花碱滴加入Mg(NO3)2合成的样品为大孔材料,比表面积为179.40m2·g-1,水合硅酸镁含量降低.煅烧和酸处理增加样品的结晶度,减少样品比表面积,并改变样品的孔径分布.煅烧使中孔含量增加,形成中孔材料.酸处理使Mg2+被H+取代,表面形成硅羟基基团,材料以中孔为主

一、膜电位产生的原理 二、电位法测定pH的原理 三、离子选择电极的类型 四、离子选择电极性能的重要参数:检测限、响应斜率、响应时间和电位选择性系数。 四、常用的离子选择电极的定量方法:直接比较法、校正曲线法、标准加入法 五、电位滴定反应的类型及其指示电极的选择

五、影响沉淀纯净的因素 Influencing factors on the purity of precipitate 1．共沉淀现象 Coprecipitation 2．后沉淀 Postprecipitation 3．提高沉淀纯度措施 Techniques for improving the purity of precipitate 六、沉淀条件的选择 Choice of precipitation conditions 1．晶形沉淀 Crystalline precipitation 2．无定形沉淀Amorphous precipitation 3．均匀沉淀法 Homogeneous precipitation 七、沉淀剂

第一章 定量分析的误差和数据处理 第二章 滴定分析概述 第三章 酸碱滴定法 第四章 沉淀滴定法 第五章 配位滴定法 第六章 氧化还原滴定法 第七章 吸光光度法

第一节 氧化还原平衡 第二节 氧化还原反应进行的程度 第三节 速率与影响因素 第四节 滴定曲线 第五节 指示剂 第六节 预处理 第七节 高锰酸钾法 第八节 重铬酸钾法 第九节 碘量法

1、条件电极电位及相关计算 2、氧化还原滴定法的原理 3、常见的几种氧化还原滴定方法，特别是碘量法

1、条件电极电位及相关计算 2、氧化还原滴定法的原理 3、常见的几种氧化还原滴定方法，特别是碘量法

1范围 本法适用于天然水中硫酸盐含量为10-200mg/L范围。但经过稀释或浓缩,可以扩大适用 范围。凡影响镁离子测定的金属离子均干扰本法对硫酸盐的滴定,消除干扰的方法见钙、镁 的EDTA滴定法(HZ-hj-SZ-0015,水质一钙和镁总量的测定一EDTA滴定法)

3.9.1 酸碱标准溶液的配制与标定（自学） 3.9.2 酸碱滴定法的应用实例 混合碱的测定（双指示剂法） 混合碱的测定（BaCl2 法） 纯碱的测定 未知成分混合碱的测定 混合酸的测定 氮含量的测定 磷的测定（自学） 硅的测定 (自学 ）