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工业纯铁与共析碳钢表面渗硼层先在炉中处理,以获得共晶组织,然后以高能密度激光束扫描;被激光熔化的金属在冷基底的吸热作用下,以非常高的速度冷却并凝固。实验表明,炉内处理后Fe-B合金层的共晶由α-Fe+Fe2B二相组成,FeC-B合金层的共晶由α-Fe+Fe3(C、B)二相组成;共晶中Fe2B为方棒状和Fe3(C、B)为片层状。激光熔化激冷后,共晶中的相组成及形貌无改变,但棒间距和片间距相应减小了40及100倍。共晶组织的硬度大幅度增高,每个合金系的共晶组织的硬度与尺寸的关系服从Hall-Petch公式
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本课程期末考试共100分,包括如下三中题型: 一、名词解释(共4小题,每题5 分,共20分) 二、简答题(共3小题,每题10 分,共30分) 三、论述题(共2题,每题25分 ,共50分
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一、共混的目的及方法 二、聚合物共混的几个基本概念 三、聚合物共混的形态结构 四、共混原则 五、共混体系的类型及特征 六、共混过程对外力场的要求
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7 1. 烯烃 715 烯烃的羟汞化——脱 7.1.1 烯烃的离子型亲电加 7.1.5 烯烃的羟汞化 脱 汞反应 成反应 712 烯烃的自由基加成反 7.1.6 烯烃的催化加氢反应 7.1.2 烯烃的自由基加成反 717 烯烃的聚合反应 应-——过氧化物效应 7.1.7 烯烃的聚合反应 7.1.8 烯烃的氧化反应 7.1.3 烯烃的亲核加成反应 烯烃的硼氢化 氧 7.1.9 烯烃的α-H反应 7.1.4 烯烃的硼氢化——氧 化反应 7 2. 炔烃 7.2.1 炔烃的加成反应 7.2.2 炔烃的氧化反应 723 . . 炔烃的聚合反应 炔烃的聚合反应 7.2.4 炔烃的顺反异构 7 3. 共轭二烯烃 7.3.1 二烯烃的分类及结构 7.3.5 共轭二烯烃和聚合 反应 7.3.2 共轭二烯烃的催化加 氢和还原反应 7.3.3 共轭二烯烃的亲电加 7 3 4 Diels 7.3.4 Diels-Alder反应 (双烯合成)— 共轭二烯 烃的1 4, -环加成反应 7.4 脂环烃 7.4.1 脂环烃的分类 7.4.2 环烷烃的化学性质 7.4.3 环烯烃的化学性质
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1.1 有机化合物和有机化学 有机化合物和有机化学 二、苯的分子结构 一 、有机化合物和有机化学 1 4 电子效应 二、有机化合物的表示方法 1.4 电子效应 一、诱导效应 ——结构式 1 2 有机化合物的分子结构 二、共轭效应 1.2 有机化合物的分子结构 三 超共轭效应 一、共价键的形成 三、超共轭效应 1.5 有机化合物的分类 二、共价键的性质 1 3 共轭分子 一、按碳骨架分类 1.3 共轭分子 二 按官能团分类 一、1,3-丁二烯的分子结 二、按官能团分类 三、有机化合物分类 构及共轭π键
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硼钢碳氮共渗工艺控制不当时,容易在共渗层中出现表层和过渡区两类非马氏体黑色组织,它们的出现是渗层相应部位上淬透性不足的表现。这两类黑色组织产生的原因不同,因而工艺因素的影响也不尽相同。前者主要是由于合金元素的内氧化以及碳、氮化合物形成所引起的;后者是由于硼在渗层中发生了再分布以及硼的存在状态发生明显变化所引起的。综合考虑避免硼钢碳氮共渗层的两类黑色组织,较合理的工艺是:采用较高的共渗温度,后期通氨,共渗期油量高些、氨量低些,渗后尽快冷却
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采用溶胶-凝胶法制备了系列Eu3+和Y3+双稀土离子共掺杂的TiO2纳米粉体,通过X射线衍射(XRD)、BET、扫描电子显微镜(SEM)、UV-Vis漫反射和荧光光谱分析等对样品的微观结构和性能进行了表征.结果表明:Eu3+和Y3+双稀土离子共掺杂比Eu3+或Y3+单组分掺杂更能有效地抑制TiO2纳米晶体的晶型转变,提高其比表面积;UV-Vis漫反射曲线均有一定的蓝移现象;Eu3+和Y3+双稀土离子共掺杂TiO2纳米体系中均能得到Eu3+特征发射光谱;以少量Y3+替代Eu3+时,Eu3+发光性能变得更强.以甲基蓝溶液为目标污染物,考察了Eu3+和Y3+双稀土离子共掺杂TiO2纳米粉体的光催化活性.结果表明,Eu3+和Y3+双稀土离子共掺杂比单组分掺杂更能有效地提高TiO2纳米粉体的光催化活性,并且Eu3+和Y3+稀土离子的最佳掺杂配比为1:4
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通过生产及模拟试验,并根据金相和扫描电镜观察,证明大断面球铁铸件中的黑斑是共晶晶粒或称共晶团。光学显微镜观察表明,黑斑中的石墨类似D型分布的厚片状石墨,但深腐蚀试样的扫描电镜观察证明,这种短小的厚片状石墨既不属于一般的片状石墨,也不是孤立的石墨碎块,而是相互联结成一体的珊瑚状石墨。进一步试验表明,每个黑斑内大都有一个星状的石墨核心,珊瑚状石墨从这个核心朝各方向辐射生长。黑斑内的基体组织为铁素体,它是高温相奥氐体的转变产物。珊瑚状石墨在高温时与奥氐体共同由液体中结晶为共晶团,冷却时虽经固态转变,但共晶组织的特征仍基本保留下来。环绕黑斑周围的组织为珠光体加球状或不规则状石墨,它使共晶球团组织衬托得分外明显
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4.1 半导体三极管(BJT) 4.1.1 BJT的结构简介 4.1.2 BJT的电流分配与放大原理 4.1.3 BJT的特性曲线 4.1.4 BJT的主要参数 4.2 共射极放大电路 1. 电路组成 4. 简化电路及习惯画法 2. 简单工作原理 3. 放大电路的静态和动态 4.3 图解分析法 4.4 小信号模型分析法 4.4.1 BJT的小信号建模 4.4.2 共射极放大电路的小信号模型分析 1. H参数的引出 2. H参数小信号模型 3. 模型的简化 4. H参数的确定 • 利用直流通路求Q点 • 画小信号等效电路 • 求放大电路动态指标 4.5 放大电路的工作点稳定问题 • 温度变化对ICBO的影响 • 温度变化对输入特性曲线的影响 • 温度变化对 的影响 • 稳定工作点原理 • 放大电路指标分析 • 固定偏流电路与射极偏置电路的比较 4.5.1 温度对工作点的影响 4.5.2 射极偏置电路 4.6 共集电极电路和共基极电路 • 电路分析 • 复合管 • 静态工作点 • 动态指标 • 三种组态的比较 4.6.1 共集电极电路 4.6.2 共基极电路 4.7 放大电路的频率响应 4.7.1 单时间常数RC电路的频率响应 4.7.2 单级放大电路的高频响应 • RC低通电路的频率响应 • RC高通电路的频率响应 4.7.4 单级放大电路的低频响应 4.7.4 多级放大电路的频率响应 • 多级放大电路的增益 • 多级放大电路的频率响应 • 低频等效电路 • 低频响应
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3.5 放大电路的工作点稳定问题 • 温度变化对ICBO的影响 • 温度变化对输入特性曲线的影响 • 温度变化对 的影响 • 稳定工作点原理 • 放大电路指标分析 • 固定偏流电路与射极偏置电路的比较 3.5.1 温度对工作点的影响 3.5.2 射极偏置电路 3.6 共集电极电路和共基极电路 • 电路分析 • 复合管 • 静态工作点 • 动态指标 • 三种组态的比较 3.6.1 共集电极电路 3.6.2 共基极电路
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