用电化学方法研究添加剂聚二硫二丙烷磺酸钠(SPS)对乙二胺四乙酸(EDTA)/四羟丙基乙二胺(THPED)二元络合化学镀铜过程的影响,测量体系的混合电位-时间关系,加入SPS后混合电位负移,负移过程较平缓,无突跃现象;采用线性扫描伏安法研究体系,表明SPS促进了阴阳两极的极化,但主要是影响甲醛氧化的阳极极化过程.SPS也因此一定程度上提高了过程的沉积速率.通过扫描电镜、能谱仪和X射线衍射仪对结构的分析,镀层铜纯净度较高,无氧化铜等夹杂,镀层细致平滑,发现SPS有促进(200)晶面择优取向的作用

12.6.1程序功能 12.6.2数据准备 12.6.3变量说明 12.6.4输入输出文件说明 12.6.5主要算法和数据结构 12.6.6程序框图 12.6.7边角网平差算例

• 明确全站测量技术的技术原理与方法， • 明确全站仪的基本结构、功能和现代全站测量技术的作用和意义， • 掌握几种全站仪基本应用和地面点定位的速测技术手段

采用水热法，以Na2WO4·2H2O为原料，NaCl为添加剂，直接在氧化铟锡透明导电基底上制备了有序WO3纳米棒阵列.利用X射线衍射、扫描电子显微镜、透射电子显微镜和高分辨透射电子显微镜等手段对制备的纳米棒进行了表征，考察了pH值对产物形貌、尺寸和取向性的影响.结果表明：单根WO3纳米棒具有六方单晶结构，随着前驱液pH值的增大，平行于基底生长的WO3纳米棒捆逐渐转变为垂直于基底生长的纳米棒阵列.另外，对制备得到的两种不同取向的WO3纳米棒结构进行了光催化降解甲基蓝溶液的研究，发现相比于WO3纳米棒捆结构，纳米棒阵列的光催化性能更高

针对由一阶智能体和二阶智能体组成的离散异质多智能体系统,研究其一致性问题.设计无通信时延和具有有界通信时延时的分布式一致性协议,通过将系统转化为自治的离散时间线性时不变系统,运用矩阵理论和代数图论方法,分析得到系统实现一致性的充分条件.获得的充分条件与采样周期、控制参数和系统的拓扑结构有关.证明了系统的一致性不受有界通信时延影响.数值仿真结果验证了理论结果的正确性

以除去喹啉不溶物的煤沥青为原料,在自制的载磁反应釜中制备针状焦.通过改变体系聚合反应最大压力及最高温度,对针状焦制备过程中施加磁场后中间相形成阶段的温度、体系最大压力等工艺条件进行了探讨,研究了不同条件下制备的针状焦的结构与电化学性能.采用扫描电子显微镜、X射线衍射仪表征产物的结构特点;采用循环伏安法及电化学阻抗等分析方法表征了不同条件下制备的针状焦的电化学性能.在磁场作用下,体系最大压力为0.4 MPa、体系最高聚合温度为520℃时制备的针状焦具有最佳的结构及电化学性能

采用溶胶-凝胶法制备非晶态和结晶态两种相结构的SiO2/Al2O3纳米复合粉体,通过X射线衍射、透射电子显微镜等手段对纳米复合粉体结构和形貌进行表征,并利用傅里叶变换红外光谱仪研究纳米复合粉体的红外隐身性能.结果表明：两种相结构的SiO2/Al2O3纳米复合粉体均呈不规则颗粒状,其中结晶态SiO2/Al2O3纳米复合粉体的平均晶粒尺寸约为18 nm；结晶态SiO2/Al2O3纳米复合粉体在2.5~25μm波长范围内的红外发射率均低于非晶态复合粉体,3~5μm内发射率平均值为45.65%,8~14μm内发射率平均值为46.19%,是一种低发射率的红外隐身复合纳米材料

1.了解软件复用的概念、过程和意义。 2.了解软件复用的类型、复用的目标和内容。 3.了解针对复用的过程模型和论域工程。 4.了解可复用构件的构造原则和质量标准。 5.了解可复用构件库的组织,包括可复用构件的3C模型。 6.了解软件的分层式体系结构

本文采用快速收敛的ADC[1]法,k-ε双方程湍流模型和雷诺方程,计算了连铸结晶器熔池内的三维流场,计算结果与实验测定相一致,取得了快速收敛节省机时的突出效果,并且在流场结构及特性上得出了较二维计算更为真实全面的结果。在湍流计算中得出C2的新经验值,保证了计算的稳定性

本文研究了Ta-Cl2-H2体系在45钢表面化学气相沉积钽涂层工艺,讨论了钽的沉积速度与温度、五氯化钽和氢气压力之间的关系。本文还扼要介绍了用金相、x射线衍射和电子探针分析等方法测定涂层结构的研究结果。腐蚀试验结果表明,涂层样品在37.7%HCl,63%H2SO4介质中具有很高的抗蚀能力,其腐蚀速率比未涂层的可降低2～3个数量级