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采用扫描电子显微镜(SEM)、电子背散射衍射分析技术(EBSD)和透射电子显微镜(TEM)等实验手段,研究了不同淬火-回火热处理工艺制度对X80管件钢组织性能的影响.结果表明:一次930℃淬火后,随着回火温度的升高,实验钢屈服强度先升高后降低,在630℃达到最大值588MPa;抗拉强度随回火温度升高持续下降,680℃时降至630MPa.二次两相区淬火,经630℃回火后,X80管件钢有最佳的综合力学性能,-50℃冲击韧性显著提高,Ak达到210J.这是由于二次淬火温度在860℃两相区时,组织中奥氏体晶粒大幅细化,经630℃回火后,细晶马氏体组织中出现位错亚结构的回复软化、板条边界钝化和块状M-A组元分解产生的析出强化机制综合作用的结果
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因子分析( Factor Analysis)是多元统讣分析技术的一个分支,其主要目的 是浓缩数据。它通过研究众多变量之间的内部依赖关系,探求观测数据中的基本 结构,并用少数几个假想变量来表示基本的数据结构。这些假想变量能够反映原 来众多的观测变量所代表的主要信息,并解释这些观测变量之间的相互依存关 系,我们把这些假想变量称之为基础变量,即因子( Factors)。因子分析就是研 究如何以最少的信息丢失把众多的观测变量浓缩为少数几个因子 因子分析是由心理学家发展起来的,最初心理学家借助因子分析模型来解释 人类的行为和能力,1904年查尔斯·斯皮尔曼( Charles spearman)在美国心理学 杂志上发表了第一篇有关因子分析的文章,在以后的三四十年里,因子分析的理 论和数学基础逐步得到了发展和完善,它作为一个一般的统计分析工具逐渐被人 们所认识和接受
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一、概述 治疗药物监测 ( therapeutic drug mornitoring,TDM),是在药代动力学原 理的指导下,应用现代先进的分析技术, 测定血液中或其他体液中药物浓度,用于 药物治疗的指导与评价。对药物治疗的指 导,主要是指设计或调整给药方案。因此, 又 称 为 临 床 药 代 动 力 学 监 测 ( clinical pharmacokinetic mornitoring,CPM)
文档格式:PDF 文档大小:475.34KB 文档页数:8
研究了多个执行机构的系数无界Lurie间接控制系统零解的绝对稳定性.首先,把研究对象看作大系统,利用大系统分解技术,把系统分解为一些孤立子系统,通过子系统的Lyapunov函数构造出Lurie间接控制系统的Lyapunov函数,进而得到系统绝对稳定性的多个判别准则.这些判别准则既适用于多个执行机构的系数无界Lurie间接控制系统,又适用于系数有界的这类系统,还适用于常系数的这类系统.同时,将有关结果成功推广应用于多个执行机构的系数无界Lurie间接控制大系统
文档格式:DOC 文档大小:536.5KB 文档页数:50
一、复习要求 1.了解软件过程的概念、软件过程框架和软件过程模型。 2.了解软件项目管理的过程。 3.了解软件度量的种类,面向规模和面向功能的度量以及质量度量的种类。 4.掌握LOC估算和FP估算的方法,分解技术和工作量估算方法。 5.了解软件成本估算的概念,掌握 COCOMO成本估算方法
文档格式:DOC 文档大小:147KB 文档页数:24
一、概述 治疗药物监测(therapeutic drug mornitoring,TDM),是在药代动力学原理的指导下,应用现代先进的分析技术,测定血液中或其他体液中药物浓度,用于药物治疗的指导与评价
文档格式:PPT 文档大小:467KB 文档页数:84
一、了解信息系统的发展过程及主要的信息系统; 二、掌握数据分析技术的发展过程及主要手段; 三、认识信息系统对组织结构与社会的影响; 四、掌握信息资源管理的概念及内容; 五、认识和理解信息道德概念及主要内容
文档格式:PPT 文档大小:2.43MB 文档页数:101
食品中的有毒有害物质 食品中内源性有害成分(过敏原、有害糖苷类、凝集素、皂素等)食品中外源性有害成分(重金属、农药残留、二噁英、兽药等)食物中的真菌毒素 农药、兽药、毒素
文档格式:PDF 文档大小:1.07MB 文档页数:6
本文利用透射电子显微镜及物理化学相分析技术研究了中碳硅-锰钢中回火马氏体脆性(TME)的微观机制,着重探讨了回火过程中析出的碳化物对TME的作用。结果发现,对应于40Si2Mn2钢中TME产生的回火温度区间,存在有由碳化物向渗碳体的转变,析出了细小弥散的颗粒状渗碳体。这种对应现象在40Si2Mn2Mo钢中也得到证实。40Si2Mn2Mo钢的TME产生的回火温度和弥散渗碳体的析出温度都要高于40Si2Mn2钢。由此得出:在回火过程中大量细小弥散渗碳体的析出是中碳硅-锰钢中TME产生的一个重要原因
文档格式:PPT 文档大小:1.38MB 文档页数:50
1. 一个电子对X射线的散射 2. 一个原子对X射线的散射 3. 一个单胞对X射线的散射 4. 一个小晶体对X射线的散射 5. 粉末多晶体的HKL面的衍射强度
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