一、 等离子体的一般性质 二、等离子体辅助CVD的机理和特点 三、等离子体辅助的CVD方法

一、 CVD过程中典型的化学反应 二、 CVD过程的热力学 三、 CVD过程的动力学 四、CVD过程的数值模拟技术 五、 CVD薄膜沉积装置

一、离子镀方法的原理和特点 二、各种各样的离子镀方法 三、其他制备薄膜的PVD方法

一、薄膜的形核理论 二、连续薄膜的形成 三、薄膜微观结构的形成 四、非晶薄膜、薄膜织构和外延薄膜 五、薄膜的应力和附着力

一、实验目的 每位同学以自己选择的英文文献为线索 ，通过阅读文献和其他的相关材料，达到较 深入地了解薄膜材料制备技术领域某一具体 课题的目的

一、等离子体的一般性质 二、等离子体辅助CVD的机理和特点 三、等离子体辅助的CVD方法

一、CVD过程中典型的化学反应 二、CVD过程的热力学 三、 CVD过程的动力学 四、CVD过程的数值模拟技术 五、CVD薄膜沉积装置

一、 薄膜材料 二、 薄膜材料的应用 三、 薄膜技术所研究的内容 四、 薄膜材料与纳米技术 ◆ 气体分子运动论的基本概念 ◆ 真空获得的手段 ◆ 真空度的测量

一、薄膜的形核理论 二、连续薄膜的形成 三、薄膜微观结构的形成 四、非晶薄膜、薄膜织构和外延薄膜 五、薄膜的应力和附着力

本文简要回顾了高熵非晶合金当前的研究进展,提出高熵非晶合金领域目前仍需解决的科学问题