一、EDTA(性质、与金属离子配位特点) 二、影响EDTA配合物稳定性的因素 三、配位滴定曲线 四、金属指示剂 五、提高配位滴定选择性的方法 六、配位滴定法的应用

主要内容 12.1位运算符和位运算 12.2位运算举例 12.3位段

4-1概述 4-2配位平衡 4-3副反应系数和条件形成常数 4-4配位滴定法基本原理 4-5金属离子指示剂 4-6提高配位滴定选择性的途径 4-7配位滴定方式及其应用

9-1概述 9-2等截面直杆的转角位移方程 9-3位移法的基本未知量和基本结构 9-4位移法的典型方程及计算步骤 9-5直接由平衡条件建立位移法基本方程 9-6对称性的利用

6.1 结构布置 6.2 剪力墙结构平面协同工作分析 6.3 整截面墙的内力和位移计算 6.4 双肢墙的内力和位移计算 6.5 多肢墙的内力和位移计算 6.6 整体小开口墙的内力和位移计算 6.7 壁式框架的内力和位移计算 6.8 剪力墙分类的判别 6.9 剪力墙截面设计和构造要求

„ 结构布置（熟悉） „ 剪力墙结构平面协同工作分析（重点） „ 整截面墙的内力和位移计算（熟悉） „ 双肢墙的内力和位移计算（重点） „ 多肢墙的内力和位移计算（熟悉） „ 整体小开口墙的内力和位移计算 „ 壁式框架的内力和位移计算（熟悉） „ 剪力墙分类的判别（重点） „ 剪力墙截面设计和构造要求（了解）

11.1 配位滴定法概述 11.2 影响金属EDTA配合物稳定性的因素 11.3 配位滴定的基本原理(单一金属离子的滴定) 11.4 金属离子指示剂 11.5 提高配位滴定选择性的方法 11.6 配位滴定的方式和应用

10.1 配位化合物的基本概念 10.2 配位化合物的价键理论 10.3 配位平衡 10.4 配位化合物的应用

7-1概述 7-2变形体系的虚功原理 7-3位移计算的一般公式 7-4静定结构在荷载作用下的位移计算 7-5图乘法 7-6静定结构温度变化时的位移计算 7-7静定结构支座移动时的位移计算 7-8线弹性结构的互等定理

1.条件电位和标准电位有什么不同？影响电位的外界因素有哪些？ 答：标准电极电位 E′是指在一定温度条件下（通常为 25℃）半反应中各物质都处于标准状 态，即离子、分子的浓度（严格讲应该是活度）都是 1mol/l（或其比值为 1）（如反应中有气体物 质，则其分压等于 1.013×105Pa，固体物质的活度为 1）时相对于标准氢电极的电极电位