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(一)原电池 1. 原电池中的化学反应 2. 原电池的热力学 (二)电极电势 1. 标准电极电势 2. 电极电势的能斯特方程 (三)电动势与电极电势在化学上的应用 1. 氧化剂和还原剂相对强弱的比较 2. 氧化还原反应方向的判断 3. 氧化还原反应进行程度的衡量 (四)电解 1. 分解电压和超电势 2. 电解池中两极的电解产物 3. 电解的应用 (五)金属的腐蚀及防止
文档格式:DOC 文档大小:140.5KB 文档页数:13
化学直发早在20世纪初就已出现,主要用于控制过度卷 曲的头发。最早的直发剂是用钾碱(草木灰)、碱液、马铃薯 和猪油制成的。拉直的过程也被称为“直发”。这些成份混合 到一起,就会形成一种很粗糙的混合物,功效之强足以使过 幻灯片2度卷曲的头发产生化学变化而变为直发。灰汁在单纯形态下 是一种有腐蚀性的化学物,酸碱度为14。它能够腐蚀头发的 表皮层,使之变软、变直,从而更易控制。由于这种混合物 是由家庭物质成份自制而成,所以它是一种不稳定的公式, 产生的效果也不可预测。常常会因为它的功效太强而导致脱 发及严重的头皮灼伤。然而,尽管如此,人们还是愿意冒此 风险大胆使用,只为获得理想中的效果
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本文使用连续称重装置和非连续称重装置对Fe25Cr20Ni2.4Si合金在H2S-H2气氛中的高温硫化行为进行了研究。结果表明:这种合金的硫化动力学行为遵循抛物线规律。腐蚀产物有三层:最外层(称OL-Ⅱ层)由Fe-Ni-S系统组成;中间层(称OL-I层)由Fe-Cr-S系统组成;内硫化层(Subscale)由一些弥散的硫化物相组成。标记实验的结果表明:合金在硫化过程中,腐蚀产物的最外两层的生长是由金属离子向外扩散控制,而内硫化层的生长是由分解机理控制
文档格式:PDF 文档大小:4.6MB 文档页数:7
采用电化学测试手段(开路电位、交流阻抗谱及动电位极化曲线测试), 结合接触角测试及体视显微镜微观形貌观察探究在80 g·L-1 NaCl溶液中拉应力对L80-13Cr马氏体不锈钢钝化膜溶解与再修复机制的影响.结果表明, 拉应力大小与L80-13Cr的钝化特性存在正相关关系.随着外加拉应力的增大, L80-13Cr马氏体不锈钢的开路电位负移, 电子转移电阻减小, 线性极化电阻减小, 反应速率随着拉应力的增大而增大.而L80-13Cr马氏体不锈钢在高电位下再钝化形成的钝化区会缩短, 自腐蚀电位降低, 维钝电流密度增加.接触角测试和体视显微镜微观形貌观察发现, 拉应力使得表面接触角减小, 不锈钢表面容易发生点蚀.外加拉应力使得L80-13Cr马氏体不锈钢的表面能增加, 促进钝化膜的溶解, 并且抑制钝化膜的再生, 导致材料耐蚀性降低
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通过采用一步纳米金属颗粒辅助化学刻蚀法(MACE)成功制备了多孔硅纳米线, 并主要研究了硅片掺杂浓度、氧化剂AgNO3浓度以及HF浓度对硅纳米线阵列形貌结构的影响规律. 研究结果表明: 较高的掺杂浓度更有利于刻蚀反应的发生和硅纳米线阵列的形成, 这是由于高掺杂浓度在硅片表面引入了更多的杂质和缺陷, 同时高掺杂浓度的硅片与溶液界面形成的肖特基势垒更低, 更容易氧化溶解形成硅纳米线阵列; 在一步金属辅助化学刻蚀法制备多孔硅纳米线阵列的过程中, 溶液中AgNO3浓度对于其刻蚀形貌和结构起到主要作用, AgNO3浓度过低或过高时, 硅片表面会形成腐蚀凹坑或坍塌的纳米线簇, AgNO3浓度为0.02 mol·L-1时, 硅纳米线会生长变长, 最终形成多孔硅纳米线阵列. 随着硅纳米线的增长, 纳米线之间的毛细应力会使得一些纳米线顶部出现团聚现象; 且当HF溶液浓度超过4.6 mol·L-1时, 随着HF酸浓度的增加, 硅纳米线的长度随之增加. 同时, 硅纳米线的顶部有多孔结构生成, 且硅纳米线的孔隙率随HF浓度的增加而增多, 这是由于纳米线顶部大量的Ag+随机形核, 导致硅纳米线侧向腐蚀的结果. 最后, 根据实验现象提出相应模型对多孔硅纳米线的形成过程进行了解释, 归因于银离子的沉积和硅基底的氧化溶解
文档格式:DOC 文档大小:140.5KB 文档页数:13
化学直发早在20世纪初就已出现,主要用于控制过度卷 曲的头发。最早的直发剂是用钾碱(草木灰)、碱液、马铃薯 和猪油制成的。拉直的过程也被称为“直发”。这些成份混合 到一起,就会形成一种很粗糙的混合物,功效之强足以使过 幻灯片2度卷曲的头发产生化学变化而变为直发。灰汁在单纯形态下 是一种有腐蚀性的化学物,酸碱度为14。它能够腐蚀头发的 表皮层,使之变软、变直,从而更易控制。由于这种混合物 是由家庭物质成份自制而成,所以它是一种不稳定的公式, 产生的效果也不可预测
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研究了燃气旧管道Q235管线钢焊接接头各个微观区域在土壤模拟溶液中的电化学行为.测量了各个微区的极化曲线,测定了相关的电化学参数.结果表明,各区域的Ecorr由低至高和icorr由大至小的顺序依次为:熔合线,不完全正火区,过热区,正火区,回火区,母材,焊缝区.同一个焊接接头的七个不同热经历区域暴露于同一电解质时,也将构成一个多电极体系.其中,熔合线和不完全正火区将成为复杂多电极体系形成的原电池中的阳极,最可能遭受到优先的腐蚀溶解;焊缝区和母材区则是原电池中的阴极,腐蚀敏感性低且在一定程度上受到阴极保护
文档格式:DOC 文档大小:19.5KB 文档页数:1
1、腐蚀 2、钝化 问答题: 1、试述缓蚀剂的类型与缓蚀原理。 2、试述阻垢剂的类型及阻垢原理
文档格式:PDF 文档大小:597KB 文档页数:5
借助光学显微镜、扫描电镜、能谱分析、X衍射分析和力学性能检测设备及腐蚀性能检测仪器等手段,结合奥氏体不锈钢的设计思路以及Fe-Ni-Si和Fe-Mn-Si三元相图,分析了普通高硅铁基合金的性能和组织,设计并研究了含镍或锰奥氏体高硅铁基合金的组织、力学性能和耐蚀性能.结果表明:普通高硅铁基合金的基体均为铁素体,主要是长程有序的Fe3Si相,这种相有低温脆性现象同时是合金产生硅脆的根本原因.在合金中加入18%的镍,能使合金中出现奥氏体相,其冲击韧性达到5.52J·cm-2,比普通高硅铁基合金提高7倍以上,腐蚀率和普通高硅铁基合金相当
文档格式:PDF 文档大小:434KB 文档页数:5
氢气氛下区熔拉制的鼓棱无位错硅单晶,原生晶体经化学腐蚀,观察不到缺陷,包括微缺陷。但当块状热处理后,经腐蚀常常观察到尺度mm数量级的氢致缺陷(φ型缺陷、麻坑)和微缺陷氢沉淀。为了消除这些缺陷,原生单晶需片状供应,片厚应小于1mm,或中照后的区熔(氢)硅单晶,片状,940℃、0.5h退火,均能消除之。在电力电子器件的应用中,管芯等级合格率可保持在80%以上
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