以SiO2有序大孔材料制备作为研究对象,系统考察了胶晶模板法中影响前驱物填充率的诸因素,包括填充方法、填充时间和填充次数.研究表明,直接浸渍法易导致大孔结构的收缩、脱落和表面覆盖.本文提出的在模板表面添加盖片再填充的方法有效解决了上述问题.当填充时间为5 min、填充次数为两次时,SiO2有序大孔材料的骨架填充率较高.扫描显微镜(SEM)和分光光度计的表征结果证实,实验成功制备了填充率高达22.53%的大面积SiO2有序大孔材料

利用等离子体浸没离子注入技术在多晶硅基底上制备了黑硅材料,利用扫描电镜、分光光度计和微波光电导衰减测试仪对黑硅的组织结构、光吸收率和少数载流子寿命进行了测试分析,发现黑硅呈现多孔组织,在可见光波段的平均吸收率大于94%,其平均少数载流子寿命为5.68μs.研究了注入工艺参数对黑硅的影响,发现工作气体SF6和O2流量比对黑硅的组织性能影响最大,当其为2.80时制备的黑硅组织性能最好

一、紫外可见吸收光谱 二、光的吸收定律 三、紫外可见分光光度计 四、紫外-可见分光光度法的应用

10.1 概述 10.2 吸光光度法基本原理 10.3 分光光度计 10.4 显色反应及影响因素 10.5 光度分析法的设计 10.6 吸光光度法的误差 10.7 常用的吸光光度法 10.8 吸光光度法的应用

一、电磁辐射及其与物质的相互作用 二、光学分析法及其分类 三、光谱法仪器——分光光度计

一、荧光分析法的基本原理 二、荧光定量分析方法 三、 荧光分光光度计

一、概述 二、紫外可见吸收光谱 三、分子吸收光谱与电子跃迁 四、光的吸收定律 四、紫外可见分光光度计 五、紫外-可见分光光度法的应用

第一节 概述 第二节 光吸收的基本定律 第三节 化合物电子光谱的产生 第四节 紫外-可见分光光度计 第五节 紫外-可见分光光度法的应用

第一节 紫外—可见吸收光谱 第二节 化合物紫外—可见光谱的产生 第三节 紫外-可见分光光度计 第四节 紫外-可见分光光度法应用

内蒙古大学：《仪器分析化学》课程教学资源（PPT课件）第十七章 紫外吸收光谱分析法 第二节 紫外可见分光光度计