 1 理想介质中的均匀平面波  2 平面波的极化  3 有耗媒质中的均匀平面波  4 均匀平面波对平面分界面的垂直入射  5 均匀平面波对理想导体表面的斜入射  6 均匀平面波对理想介质表面的斜入射

 1 库仑定律和电场强度  2 真空中的高斯定理  3 电位  4 介质极化与高斯定理的一般形式  5 静电场的基本方程和边界条件  6 电容  7 静电场的能量

3.1 烯烃的结构 3.2 烯烃的命名与同分异构 3.3 烯烃的物理性质 3.4 烯烃的化学反应 1. 加成反应：1)催化加氢；2)亲电加成；3)自由基加成反应；4) 氧化反应； 5)聚合反应 2. α-氢的卤代反应 3.5 烯烃的制备

1、 点源函数法回顾； 2、 格林函数的引入； 3、 格林函数与函数； 4、 一维格林函数； 5、 三维格林函数； 6、 格林函数在电磁学中的应用； 7、 并矢格林函数；

§2—1 偏摩尔量与化学势 §2—2 多组分系统组成的表示 §2—3 理想气体和非理想气体的化学势 §2—4 拉乌尔定律和亨利定律 §2—5 理想溶液和理想稀溶液 §2—6 非理想溶液和非理想稀溶液的化学势

 1 理想介质中的均匀平面波  2 平面波的极化  3 有耗媒质中的均匀平面波  4 均匀平面波对平面分界面的垂直入射  5 均匀平面波对理想导体表面的斜入射  6 均匀平面波对理想介质表面的斜入射

§14-1 自然光和偏振光 §14-2 起偏和检偏 马吕斯定律 §14-3 反射与折射时光的偏振 §14-4 散射光的偏振 §14-5 光的双折射 *§14–6 偏振光的干涉 人为双折射现象 *§14-7 旋光现象

4.1 多晶硅半导体的物理基础 4.2 LTPS TFT的工作原理与特性 4.3 LTPS TFT中的关键材料技术 4.3.1 多晶硅薄膜制备技术 4.3.2 绝缘层技术 4.3.3 掺杂与激活 4.4 非晶硅晶化技术

1、 点源函数法回顾； 2、 格林函数的引入； 3、 格林函数与函数； 4、 一维格林函数； 5、 三维格林函数； 6、 格林函数在电磁学中的应用； 7、 并矢格林函数

2 多步法和隐式法 1 简单方法 3 Runge-Kutta方法 4 稳定性问题 54 动力学中的有序和混沌