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本章在分析弯曲变形过程及弯曲件质量影响因素的基 础上，介绍弯曲工艺计算、工艺方案制定和弯曲模设计。 涉及弯曲变形过程分析、弯曲半径及最小弯曲半径影响因 素、弯曲卸载后的回弹及影响因素、减少回弹的措施、坯 料尺寸计算、工艺性分析与工艺方案确定、弯曲模典型结 构、弯曲模工作零件设计等

几何构造分析的目的主要是分析、判断一个体系是否几 何可变,或者如何保证它成为几何不变体系,只有几何不变体 系才可以作为结构

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一.填空题:(每空1分,共35分) 1.写出下列各体系的质子条件式 (1)(mol/L)NH4 H2PO4 (2)(mol/L)NaAc+ C2(mol/L)H3BO3 2符合朗伯比尔定律的有色溶液,当有色物质的浓度增大时,其最大吸收波长,透射比

两种方法分析: 一、基数效用论——边际效用分析法 二、序数效用论——无差异曲线分析法

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4.1 引言 4.2 溶液组成的表示法 4.3 偏摩尔量与化学势 4.4 稀溶液中的两个经验定律 4.5 混合气体中各组分的化学势 4.6 液体混合物 4.7 稀溶液中各组分的化学势 4.8 稀溶液的依数性 4.9 Duhem-Margules公式 4.10 非理想溶液 4.11 分配定律

光电器件主要分成外光电效应(光电发射效应, 分表面效应和体效应,金属和金属氧化物)和内光电效应(光电导效应和光生伏特效应,半导体) 就光电器件而言,最重要的参数是:灵敏度、驰豫时间和光谱分布。其次是温度特性、噪声特性等