1.薄膜干涉 2.迈克耳孙干涉仪 3.光波场的时间相干性

复旦大学：《设计性研究性物理实验》学生论文_改建CVD系统制备金刚石薄膜

主要内容 一、相干光 二、杨氏双缝干涉实验 三、双镜劳埃德境 四、光程薄膜干涉 五、劈尖牛顿环 六、迈克尔孙干涉仪

5.1 IGZO金属氧化物半导体的物理基础 5.1.1 IGZO的结构与能带 5.1.2 a-IGZO中的电子态 5.1.3 CAAC-IGZO中的电子态 5.1.4 IGZO中的载流子传输机制 5.2 IGZO-TFT的工作原理与特性 5.3 金属氧化物 TFT 中的关键材料 5.4 金属氧化物半导体薄膜的制备工艺 5.4.1 磁控溅射法 5.4.2 溶液法 5.5 金属氧化物TFT 结构、制造工艺与性能 5.6 金属氧化物TFT的稳定性

4.1 多晶硅半导体的物理基础 4.2 LTPS TFT的工作原理与特性 4.3 LTPS TFT中的关键材料技术 4.3.1 多晶硅薄膜制备技术 4.3.2 绝缘层技术 4.3.3 掺杂与激活 4.4 非晶硅晶化技术

晶体的缺陷 金属 半导体/超导体 薄膜/界面/多孔材料 多聚物/Ps化学 纳米材料/巨磁阻/量子点

17-3 光程 薄膜干涉 17-4 劈尖 牛顿环 17-5 迈克耳孙干涉仪

高等教育出版社：《物理学教程》教材电子教案（PPT课件，马文蔚第四版）第十七章 波动光学 17-03 光程、薄膜干涉

《普通物理学》课程教学资源（PPT课件）第十二章 几何光学 12-5 薄膜干涉

上海交通大学：《大学物理教程》课程电子教案（课件讲稿）第20章 光的干涉和衍射 20.3 薄膜干涉