绪论 一、单片机的概念 全称为“单片微型计算机”,简称为“单片机”、“单 片微机”或“微控制器”。 在一块半导体芯片上集成有CPU、ROM、RAM、 I/O接口、定时器/计数器、中断系统等功能部件,构成了完整的数字电子计算机。 片内甚至还集成有HSI/O、A/D、电压比较器等功 能部件

主要内容: 1、I/O端口及其编址方式 2、简单接口芯片及其应用 3、基本输入输出方法 4、中断的基本概念及工作过程 5、中断控制器8259

所谓中断,就是指当CPU正在执行 的程序时,外设(或其它中断源)向CPU 发出请求,CPU暂停当前程序的执行 ,转向该外设服务(或称中断服务) 原序,当中断服务程序运行结束后 ,返回原程序继续执行的过程

• 内模控制的基本思想 • 内模控制的基本结构 • 内模控制基本原理 • 内模控制的性质 • 内模控制器的设计 • 内模控制与预测控制

从事通信电源、电脑周边产品、数码产品、汽车电子产品、网络终端机、工控机、自动化产品、家用电器控制器的生产,年产量均增加至120万件

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北京大学：《计算机组织与体系结构》课程教学资源（讲义，下）设计多周期控制器微程序和中断

第一章 概 述 . 1 一、 PLC 的分类及特点. 1 二、 PLC 的结构与工作原理. 3 三、 S7-200 PLC 的硬件组成及指令系统. 5 四、 PLC 控制系统的设计与故障诊断. 7 五、 PLC 的应用及展望. 7 第二章 PLC 基本技能实验. 9 实验一 PLC 认知实验. 9 实验二 典型电动机控制实操 . 13 实验三 数码显示控制 . 16 实验四 抢答器控制 . 19 实验五 音乐喷泉控制 . 23 实验六 装配流水线控制 . 26 实验七 十字路口交通灯控制 . 30 实验八 水塔水位控制 . 33 实验九 天塔之光控制 . 36 实验十 自动配料装车系统控制 . 39 实验十一 四节传送带控制 . 43 实验十二 多种液体混合装置控制 . 47 实验十三 自动售货机控制 . 51 实验十四 自控轧钢机控制 . 55 实验十五 邮件分拣机控制 . 59 实验十六 自控成型机控制 . 63 实验十七 机械手控制 . 66 实验十八 加工中心控制 . 70 实验十九 三层电梯控制 . 75 实验二十 四层电梯控制 . 79 实验二十一 自动洗衣机控制 . 84 实验二十二 电镀生产线控制 . 88 第三章 PLC 实物控制实验 . 92 实验二十三 直线运动位置检测、定位控制 . 92 实验二十四 步进电机控制 . 95 实验二十五 直流电机控制 . 99 实验二十六 温度 PID 控制 . 102 实验二十七 变频器功能参数设置与操作 . 105 实验二十八 外部端子点动控制 . 110 实验二十九 变频器控制电机正反转 . 112 实验三十 多端速度选择变频器调速 . 114 实验三十一 变频器无级调速 . 117 附 录 S7-200 PLC 指令集. 119

8.1 发酵过程控制概述 8.1.1 发酵过程控制的重要性 8.1.2 发酵过程控制的一般步骤 8.1.3发酵过程的参数检测 8.1.3.1 物理参数 8.1.3.2 化学参数 8.1.3.3 生物参数 8.1.3.4 间接参数 8.2 主要状态参数的监测与控制 8.2.1 温度对发酵的影响及其控制 8.2.2 pH对发酵的影响及其控制 8.2.3 溶解氧对发酵的影响及其控制 8.2.3.1 影响发酵过程中溶解氧（DO）变化的因素 8.2.3.2 溶解氧对发酵的影响 8.2.3.3 溶解氧在发酵过程控制中的重要作用 8.2.3.4 发酵过程中溶解氧的控制 8.2.4 CO2和呼吸商对发酵的影响及其控制 8.2.4.1 呼吸商定义 8.2.4.2 CO2对发酵的影响 8.2.4.3 发酵过程中CO2释放率的变化 8.2.5 基质浓度对发酵的影响及补料控制 8.2.5.1 基质浓度对发酵的影响 8.2.5.2 补料控制 8.2.6 泡沫对发酵的影响及其控制 8.2.6.1 泡沫产生的原因 8.2.6.2 影响泡沫产生的因素 8.2.6.3 泡沫对发酵的影响 8.2.6.4 泡沫的控制方法 8.3 发酵过程先进的控制技术 8.3.1 基本的自动控制系统(control loop) 8.3.1.1 前馈控制 8.3.1.2 反馈控制 8.3.1.3 自适应控制 (adaptive control) 8.3.2 发酵自控系统的硬件组成 8.3.3 发酵过程常见控制系统