在真空密封造型工艺(V法)的基础上,提出压力下真空密封造型铸造工艺(P-V法),并对P-V法中铸型抗压强度、抗剪强度、抗拉强度、硬度、薄膜烧失、浇注时型腔压力、金属液充型流动等工艺参数进行系统的基础研究

利用简单的低温液相技术,通过氢氟酸(HF)调控反应溶液的pH值,制备了真空紫外光响应的疏水-超亲水快速可逆转变的ZnO薄膜.该薄膜具有类似于芋头叶表面的特征,表面分布着具有纳米级亚结构的ZnO微米球,因而具有超疏水特征(水接触角为151°).在真空紫外光(VUV)照射30min后,薄膜表面显示了超亲水特征(水接触角小于5°);将VUV光照后的薄膜放置在暗室中6d后,薄膜表面又恢复到超疏水特征.VUV的使用及薄膜表面具有的独特微纳米阶层结构,加快了超疏水-超亲水之间的转变.这种快速转变特性,可促进ZnO薄膜在微流体器件上的应用

在稳态膜渗透的基础上提出了一种新的非稳态渗透流程.该流程是一种循环操作过程,每一周期包含加压、抽真空以及排空三个阶段.实验研究了加压时间、抽真空时间和排空时间对空气分离制氮的产品平均纯度、产率和回收率的影响,并与稳态渗透实验结果进行了比较.结果表明,随着加压时间的延长,富氮气体的平均纯度、产率以及氮气回收率均会上升;延长抽真空时间可以提高富氮气体平均纯度,但会降低富氮产率和氮气回收率;适当延长排空时间可以提高富氮气体平均纯度、产率和氮气回收率,但排空时间过长将会导致富氮产率和氮气回收率下降.本文提出的变压渗透过程能够得到比稳态渗透更高的富氮纯度,但富氮产率和回收率要低

在RE2O3-NH4HF2系中,以稀土氧化物和氟化氢铵为原料,分别在常压和真空状态下,研究了该体系的各步反应,提出了新的合成REF3反应规律.粉状La2O3,Gd2O3与NH4HF2在低温下开始反应,产物为RENH4F4(RE=La,Gd),NH4F,NH3和H2O,高温下RENH4F4分解为REF3和NH4F,伴有NH4F的挥发和分解;整个过程包括合成、分解和脱铵三个步骤;真空可以降低反应的起止温度.制备稀土氟化物应采用\常压低温合成-真空高温分解、脱铵\工艺

第一节 真空蒸发浓缩设备 一、蒸发器 二、真空蒸发浓缩系统的辅助设备 三、典型真空浓缩系统 第二节 冷冻浓缩设备 一般情形 基本原理 冷冻浓缩的特点 冷冻浓缩相关设备 一、冷却结晶设备 二、冰与浓缩液的分离设备 三、冷冻浓缩设备的装置系统

亥姆霍兹定理告诉我们:矢量场的散度和旋度决定其性质,因此,静电场的基本方程即为电场的散度、旋度计算式。 一、真空中静电场的散度高斯定理 真空中静电场的散度

（1)在单效蒸发器内,将NaOH稀溶液浓缩至50%,蒸发器内液面高度为20m,溶液密度为 1500kg/m3,加热蒸汽绝对压强为300kPa冷凝器真空度为90kPa,问蒸发器的有效传热温度差为多少?若 冷凝器真空度降为30kpa,其它条件不变,有效传热温度差有何变化?[32℃

1、流体力学进样压力 利用流体力学进样的技术通常有虹吸进样法, 样品毛细管进样端加压法,和真空尾端抽真空进样法三种形式。进样量大小的样品 控制是通过改变毛细管进出两管口之间位差或压差虹吸样品 ,以及作用时间来实现的

第一节 防潮包装技术 第二节 真空包装与充气包装技术 第三节、脱氧包装技术 第四节 食品无菌包装技术

第九章电相互作用真空中的静电场 9.1电荷的相互作用 9.2静电场、电场强度 9.3静电场的高斯定理 9.4静电场力作功 9.5电位差和电位 9.6电荷在外电场中的静电位能