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溶胶-凝胶法制备不锈钢基Ag-SiO2抗菌膜及其结构性能表征
文档格式:PDF 文档大小:1.04MB 文档页数:6
采用溶胶-凝胶法和浸渍提拉法在不锈钢板上制备了含银的二氧化硅薄膜.利用X射线衍射仪(XRD)分析了膜层的组成,通过测试接触角研究了薄膜的亲水性,测试了薄膜对质量分数10%的FeCl3溶液的耐腐蚀性能,并对覆膜不锈钢的抗菌性和附着性进行了测定.结果表明:采用溶胶-凝胶法可在不锈钢基板上制得含银的SiO2抗菌膜,经过10min氧化处理和5次提拉,并经热处理后,抗菌膜与不锈钢结合牢固,亲水性和耐蚀性提高,对金黄色葡萄球菌抑菌率达到100%
掺铅TiO2薄膜的制备及光催化性能
文档格式:PDF 文档大小:396.05KB 文档页数:3
以钛酸四丁酯为前驱体,采用溶胶-凝胶法在玻璃板表面制得均匀的TiO2,并利用浸渍法镀Pb2+得到掺铅的TiO2,用紫外漫反射、荧光光谱分析等手段对其进行了表征.研究结果表明,掺杂铅离子使TiO2的荧光峰明显增强,吸收带边发生红移,在紫外光区和可见光区的吸收明显增强.以紫外灯为光源,通过对甲基橙的光催化降解研究,发现掺铅TiO2薄膜的光催化活性明显大于掺Ag,Bi及纯TiO2薄膜,这是提高TiO2光催化活性的有效方法
北京科技大学材料科学学院:《薄膜材料与纳米技术 Thin Film Materials & Nanotechnology》第八讲 薄膜材料的图形化 Patterning of thin films(主讲:唐伟忠)
文档格式:PPT 文档大小:1.3MB 文档页数:51
一、薄膜图形化的光刻技术 二、光刻使用的等离子体刻蚀技术 三、等离子体刻蚀机制 四、 未来的纳米光刻技术
北京科技大学材料科学学院:《薄膜材料与纳米技术 Thin Film Materials & Nanotechnology》第五讲 薄膜材料制备的CVD方法 Preparation of thin films by CVD methods
文档格式:PPT 文档大小:706.5KB 文档页数:74
一、 CVD过程中典型的化学反应 二、 CVD过程的热力学 三、 CVD过程的动力学 四、CVD过程的数值模拟技术 五、 CVD薄膜沉积装置
《材料科学》课程教学资源(PPT课件讲稿)微系统薄膜材料的制备方法
文档格式:PPT 文档大小:2.25MB 文档页数:51
1 薄膜材料的物理汽相沉积-热蒸发 2 离子溅射镀膜 3 高温扩散和离子注入 4 薄膜材料的化学汽相沉积---CVD法 5溶胶凝胶
《工程科学学报》:自支撑二维Ti3C2Tx(MXene)薄膜电化学性能(北京科技大学)
文档格式:PDF 文档大小:1.73MB 文档页数:9
采用LiF‒HCl混合溶液刻蚀法刻蚀Ti3AlC2得到Ti3C2Tx(MXene)胶体溶液,通过真空抽滤法抽滤MXene胶体溶液得到柔性MXene薄膜.使用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、能量色散谱(EDS)和X射线光电子能谱(XPS)等方法表征MXene的物相、形貌及化学元素,并采用循环伏安、恒电流充放电、交流阻抗法等电化学测试手段研究MXene薄膜电极的电化学性能
长春理工大学:《薄膜光学》课程教学资源(PPT课件讲稿)第二讲 薄膜光学的基础理论
文档格式:PPT 文档大小:428KB 文档页数:36
一、电磁场的基本性质 二、光学薄膜系统特性计算 三、对称膜系等效折射率分析方法 四、介绍麦克劳德的导纳轨迹图解技术
北京科技大学材料科学学院:《薄膜材料与纳米技术 Thin Film Materials & Nanotechnology》第八讲 薄膜材料的图形化 Patterning of thin films
文档格式:PPT 文档大小:1.3MB 文档页数:51
一、薄膜图形化的光刻技术 二、光刻使用的等离子体刻蚀技术 三、等离子体刻蚀机制 四、未来的纳米光刻技术
新型传感器原理及应用:《现代传感技术》(PPT课件)第14讲 薄膜传感器、薄膜应变片
文档格式:PPT 文档大小:723.5KB 文档页数:17
在基底材料上用物理或化学的方法制成敏感材料薄层(几百nm~几µm)。薄膜热传感器、应变片、气敏传感器
淮北煤炭师范学院:《光学题库》第一章 光的干涉(4)
文档格式:DOC 文档大小:185KB 文档页数:3
一.选择题: 1.如图所示,折射率为 n2 、厚度为 e 的透明介质薄膜的 上方和下方的透明介质的折射率分别为 n1 和 n3,以知 n1< n2 < n3 , 若用波长为 λ 的单色光垂直入射到该薄膜 上,则从薄膜上、下两表面反射的光束①与②的光程差是 [ ]
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