本章将讨论薄膜淀积的原理、过程和所需的设备，重点讨论SiO2和Si3N4等绝缘材料薄膜以及多晶硅的淀积。 通过本章的学习，将能够： 1. 描述出多层金属化。叙述并解释薄膜生长的三个阶段。 2. 提供对不同薄膜淀积技术的慨况。 3. 列举并描述化学气相淀积（CVD）反应的8个基本步骤，包括不同类型的化学反应。 4. 描述CVD反应如何受限制，解释反应动力学以及CVD薄膜掺杂的效应。 5. 描述不同类型的CVD淀积系统，解释设备的功能。讨论某种特定工具对薄膜应用的优点和局限。 6. 解释绝缘材料对芯片制造技术的重要性，给出应用的例子。 7. 讨论外延技术和三种不同的外延淀积方法。 8. 解释旋涂绝缘介质

针对浙江华能玉环电厂脱硝工程,应用有限元分析方法对烟道结构进行小变形弹性和大变形弹性模拟,对钢结构烟道在实际荷载作用下的力学性能进行了分析,探讨了烟道长度变化对烟道结构应力和变形的影响.考虑大变形影响时,烟道的应力分布均匀,其应力值较不考虑大变形的应力值小5%~50%,烟道长度的变化对应力值的影响不超过20%.结合现场监测验证了数值模拟的可靠性

本讲要点： 双轴应力状态的概念； 双轴莫尔圆及其物理意义； 有关应变的一些基本概念； 应变椭球体及其地质意义；

§11.1 化学动力学的任务和目的 §11.2 化学反应速率的表示法 §11.3 化学反应的速率方程 §11.4 具有简单级数的反应 §11.5 几种典型的复杂反应 *§11.6 基元反应的微观可逆性原理 §11.7 温度对反应速率的影响 *§11.8 关于活化能 §11.9 链反应 *§11.10 拟定反应历程的一般方法

13.1供应链管理概述 13.2供应链的构建 13.3供应链管更换实施 13.4电子商务与供应链管理

第一节 化学动力学的基本概念 第二节 化学反应的速率方程 第三节 具有简单级数反应的动力学 第四节 典型的复杂反应分析 第五节 温度对反应速率的影响 第六节 双分子碰撞理论 第七节 过渡状态理论 第八节 催化反应动力学 第九节 光化学反应动力学

4.1 细胞反应的计量学 4.2 细胞反应的碳平衡 4.3 细胞反应的氧平衡和ATP平衡 4.4 细胞反应的能量平衡

一、 酶——具有催化活性的大分子生物物质，其物质组成是蛋白质。 二、在多数酶促反应的生产过程中，酶以游离状态参与催化反应。——均相的酶促反应，且多数是在液相中进行反应

第一节 α-羟烷基、卤烷基、氨烷基化反应 第二节 β -羟烷基、β-羰烷基化反应 第三节 亚甲基化反应 第四节 α、β-环氧烷基化（Darzens反应） 第五节 环加成反应

一、研究高分子化学反应的意义: 扩大高分子的品种和应用范围在理论上研究和验证高分子的结构研究影响老化的因素和性能变化之间的关系研究高分子的降解,有利于废聚合物的处理。 二、高分子化学反应的分类聚合度基本不变的反应,侧基和端基变化聚合度变大的反应:交联、接枝、嵌段、扩链聚合度变小的反应:降解,解聚