Usability Gateway Gateway Palettes Visualization Settings Templates Materials and Textures Snap Point Geometry Tools ·Cut,Copy, and paste Directory Selection Tool Delete Key Accelerator Mouse Wheel Settings · Set to wcs 面板增强 NX2有下列增强 建立几种不同类型的面板一打开,书签,推断的,主模型,主 Studio,非 主模型图,一般的,或可视化的 通过拖拽和落下或剪切和粘贴方法对象可以从一UGNX2作业添加 到一面板。 面板项面可以按预览,列表,图标,瓦片或姆指甲被观看 利用MB3建立一新面板 在面板中利用MB3添加模板到它 利用MB3修改面板特性 利用MB3编辑一面板条目。 可视化设置模板 现在可以建立一面板去存贮与存取可视化设置。 你可以捕捉和编辑下列项目
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日区 Visualization Part M Color Settings Z Lights Part 白 y Shading M Tolerances Part 区 y Analysis Part M Drafting E Mo E Sketcher -E Session Preferences Part M Visualization Session 陈列室环境 新的陈列室环境功能是一对开发环境立方体某些重包装功能的接合,新的界面 帮助建立与编辑用户定义的环境。 口从cdtn子目录打开部件文件 cdtn valve assm. prt 口选择View→ Visualization- Showroom environment. 口利用MB3→ Display mode→ Studio然后MB3→F,去看陈列室立方体与 环境 如果默认和用户陈列室环境对话已被显示,关掉它们之后你将看到它们将怎样 从资源条被调用
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角③t 地Bck E工3翼翼3 陈列室环境操纵环境 利用以下工具可以操纵环境立方体 1.在立方体拐角处的定位手柄 2.动态的再定位轴 选择右下定位手柄并向内拖拽它建立一较小的环境立方体。在立方体是在大约 30处,释放手柄
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⑧t Size30 BEck 口按需使用Fit和Zoom尺寸显示到你的爱好 ¤选择在Ⅹ-Y平面中轴旋转球并绕Z轴试验旋转环境立方体。 口确使你旋转立方体回到它的原来位置。(如果需要使用Edit→ Undo)。 在一类似方式在轴中心的再定位手柄将移动立方体 陈列室环境改变默认环境显示 默认环境面板如其它资源条元素一样可以被定位;如滑出,钉住或不钉住或显 示为一分离窗口或入坞到屏幕的边缘 口双击在资源条中的默认环境( Default environment)键巴面板作为 分离窗口 显示默认环境面板,默认以 Previews显示。有五种显示类型 预览 清单 ,图符 瓦片 Tiles 圆·姆指甲 Thumbnails
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口利用显示下拉莱单选择Ti1 Back UG Default Environment UG Default environment UG Default Environment reflection. Ist C UG Default Environment 陈列室环境改变默认环境 口在面板中选择水 water环境并拖拽它到图形显示落下它到立方体内侧。 双击一环境样板也将作用环境到立方体。 陈列室环境_利用转盘模式 在图形区中选择 View Turntable图符⑧ 出现 Turntable Set Up对话框 口改变Type下拉菜单到 Part rotate 口改变 Speed到Fast 口选择 Run turntab1e 口当你要停止旋转时在 Stop rotation question对话框中选择OK 口在视图工具条中选择 Restore图标 或在图形区中MB3→ Restore 返回阀到它的原来位置。 口改变Type下拉选项到 Walk around 口再次选择 Run turntable。 注意:指定到环境立方体的图象旋转。透视角取决于环境立方体怎样显示在图 形窗口。如果环境立方体愈近,透视角将是小的锐角;如果环境立方体是在显 示更后面,透视角将是更多的锐角。 口当你要停止旋转时在 Stop rotation question对话框中选择OK
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a在视图工具条中选择 Restore图标 或在图形区中M3→ Restore返回阀到它的原来位置 Cancel Turntable Set Up对话框。 口利用MB3→Fit重建原来的显示。 陈列室环境建立用户定义环境 默认环境对话框将仍然显示。 口双击在资源条中的 User showroom environment小键 口放光标在默认环境对活框中的1 etter.lst瓦片上,利用MB3-Copy 口移动光标至 User Showroom Environment对话框并利用MB3→ Paste 口在 User Showroom Environment对话框中,利用显示下拉选项选择 个系统生成的名字指定到这个复制的环境。 User Showroom Environmen Filter Back UG User Showroom Environment Filter BackUGDefault Environment UG Default Environmet UG Default environment a UG Default environment water, Ist 复制的环境将被给定一与你的名字相关的随机I.D号
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陈列室环境 定制你的用户陈列室环境 口首先在用户陈列室环境选择你的环境并拖拽和下落它到图形区。 在图形窗口中选择 Ed图标周 口在 Environment Cube Image Edit对话框的上部选样Back样本。 环境名( Environment Name)域高亮 口选择 TIFF Palette选项。 口在 TIFF palette中选择 Paper选项。 口选择在第二行最后的纸样本 0K选择 口对其余的Top, Front,Left, Right和 Bottom样本重复以上过程。 口在环境名域中键入my_ first env,然后按 Enter 旦你加入新的环境名,用户陈列室环境反映名字改变 放光标在用户陈列室环境对活框任一空白区,然后利用MB3→ Refresh 更新样本。 Filter UG User Showroom Environment 口拖拽和下落 my first env.lst样本到在图形区的环境立方体的样本以刷 新显示
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+个 在一类似方式,一个TIFF图象可以作用到立方值的各个壁。 口关闭所有部件。 材料和纹理 改进的材料纹理存挡库功能 正工作的和存贮的面板功能 对用材料/纹理工作新的材料编辑器 口从cdtn子目录打开部件文件 cdtn putter. prt 通正利用在资源条上 Materials in Part小键可以检查在一部件中任一存在 的材料和纹理 a双击资源条上 Materials in Part小键巴回看作为一分离窗口的在部件 中的材料面板。 Materials in Part Filter Clear Untextured Untextured
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口双击 Steel面板条目 材料/纹理工具条出现在图形区 归③+√x 材料/纹理工具条也可以通过利用 View→ Visualization→ Materials,/ Textures 或通过从可视化形状工具条 Materials,/ Textures图标-进入 捕捉视图 这是一新的键盘功能允许快速捕捉视图方位到TFR-ISO,TFR-TRI或最靠近的正 交视图 Home快速捕捉视图方位到 TFR-TRI视图。 End快速捕捉视图方位到 TER-ISO视图。 F8快速捕捉视图方位到最靠近的正交视图 口利用MB2旋转视图,然后试用这些新功能。 此功能再定位当前视图一它不代替它 [练习 口从cgtn目录,打开部件文件 cgtn plate assy.prt 利用该部件练习NX2 Gateway新功能
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捕咬点工具条 无论什么情况下,尽可能用 Snap point工具条代替点构造器对话框 Snap Point 同⊙O+ Snap point工具条仅当需要此功能时才显示。也可以通过使用在 Unigraphics NX背景处MB3控制它是否显示。 在此工具条上最后一个图符允许存取点构造器对话框一如果你需要它。 几何工具 增强是: 口在矢量构造器上和嵌入的矢量工具菜单提供-XC、-YC和-ZC选项。 口提供一步设置WCS到绝对CSYS; 在平面对话框中一步规定Ⅹ、Y和Z常值 利用它们快速规定矢量,坐标系或平面 Vector Constructor Inferred Vector 么起 B r CSYS Constructor Absolute CSYS 由xvf zc‖x< x bsolute Csys 0.0000 「0.000 Delta-X 1.0000 Delta-Y 0.000000 C Cartesian C Spherical Delta-Z Show/Edit Orientation Options Back Cance Cancel
ᤩ⚍Ꮉᴵ ᮴䆎ҔМᚙމϟˈሑৃ㛑⫼ 6QDS3RLQWᎹᴵҷ᳓⚍ᵘ䗴఼ᇍ䆱ḚDŽ 6QDS3RLQWᎹᴵҙᔧ䳔㽕ℸࡳ㛑ᯊᠡᰒ⼎DŽгৃҹ䗮䖛Փ⫼ 8QLJUDSKLFV 1; 㚠᱃໘ 0% ࠊᅗᰃ৺ᰒ⼎DŽ ℸᎹᴵϞ᳔ৢϔϾヺܕ䆌ᄬপ⚍ᵘ䗴఼ᇍ䆱ḚབᵰԴ䳔㽕ᅗDŽ Ꮉԩ ᔎᰃ1 ⶶ䞣ᵘ䗴఼Ϟጠܹⱘⶶ䞣Ꮉ㦰ऩᦤկ,2ǃ,32 ,42 䗝乍DŽ ᦤկϔℹ䆒㕂 52 ࠄ㒱ᇍ 23˗ ᑇ䴶ᇍ䆱ḚЁϔℹ㾘ᅮ ǃ3 4 ᐌؐ ߽⫼ᅗӀᖿ䗳㾘ᅮⶶ䞣ˈതᷛ㋏ᑇ䴶