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等离子喷涂制备铁基非晶-纳米复合涂层
文档格式:PDF 文档大小:603.39KB 文档页数:4
以一种多元素铁基非晶合金粉末(含C,Si,B,Cr,W,Mo,Ni,Fe等)作为喷涂材料,用大气等离子喷涂在316L不锈钢基体上制备涂层.用X射线衍射仪检测涂层的晶型结构,扫描电镜观察涂层的形貌,透射电镜观察涂层的微观组织结构,显微硬度仪测量涂层的显微硬度,纳米压痕仪测量涂层的硬度及弹性模量,并用谢乐公式计算了晶粒尺寸.结果表明:所制备的涂层均匀致密,与基体结合良好;涂层含有非晶和纳米颗粒;这种非晶-纳米复合涂层具有很高的硬度和弹性模量
高碳钢中的铈碳化物
文档格式:PDF 文档大小:294.95KB 文档页数:3
通过电解分离,X射线衍射等实验,探讨了铈在高碳钢中形成铈碳化物应满足的成分条件.结果表明:只有当铈含量和碳含量均较高时,才能够形成铈碳化物.本实验中,Ce:0.25%、C:1.22%的试样即出现Ce2C3
红土镍矿含碳团块直接还原生产镍铁粒工艺
文档格式:PDF 文档大小:801.94KB 文档页数:6
以红土镍矿和煤粉复合团块为原料,利用高温直接还原制备镍铁粒.讨论了焙烧温度、焙烧时间、C/O摩尔比和熔剂加入量对镍、铁品位和回收率以及对镍铁粒质量的影响.当焙烧温度为1350℃、C/O=1.4、焙烧时间为60 min以及石灰石加入量为20%时,镍、全铁品位分别为9.4%和87.5%,镍、铁回收率分别为96.6%和97.9%.X射线衍射、扫描电镜及能谱分析表明,镍铁粒中镍、铁基本以合金态存在,碳基本固溶在合金中
铁尾矿的机械力化学活化及制备高强结构材料
文档格式:PDF 文档大小:551.71KB 文档页数:5
以北京密云铁矿尾矿为原料,采用机械力化学方法对其进行活化,并采用粒度分析、X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)及红外光谱(IR)分析机械力化学效应对尾矿活性的影响.以铁尾矿为主要原料制备出抗压强度达到89MPa、尾矿总体掺量达到70%的尾矿高强结构材料
羧甲基纤维素钠提高赤铁矿原矿含碳球块强度的机理
文档格式:PDF 文档大小:1.1MB 文档页数:6
采用红外光谱、X射线光电子能谱、接触角测定等方法对添加羧甲基纤维素钠的原矿压球所得含碳球块强度提高机理进行了研究.发现黏结剂羧甲基纤维素钠中羧基(—COOH)和羟基(—OH)在原矿颗粒表面产生了化学吸附作用,使矿石颗粒表面的亲水性下降;而羧甲基纤维素钠中有机碳链与煤粒表面作用,使煤的疏水性下降.原矿和煤粒依靠羧甲基纤维素钠高分子有机链结合起来,通过黏结剂颗粒间的黏附能力形成具有一定强度的\连接桥\网状结构.因此加入羧甲基纤维素钠后原矿含碳球块强度得到大幅提高
《大学物理学》课程电子教案(PPT教学课件)第十九章 量子物理(19.3)康普顿效应
文档格式:PPT 文档大小:419KB 文档页数:24
康普顿效应是说明光的粒子性的另 一个重要的实验。 1922-1933年间康普顿(A.H.Compton )观察X射线通过物质散射时, 发现散射的波长发生变化的 现象
氟化物熔体中电解共沉积硼化钛的阴极过程
文档格式:PDF 文档大小:360.39KB 文档页数:4
采用循环伏安法首次研究了LiF-NaF-K2TiF6-KBF4熔盐体系中钛离子和硼离子在铂、钼电极上电化学还原及电合成硼化钛的阴极过程机理。对恒电位电解的沉积物进行了X射线衍射分析。结果表明,当体系中硼钛摩尔比B/Ti大于2时,钛与硼可在同一电位下实现电解共沉积并反应生成硼化钛
利用冶炼渣回收铁及生产微晶玻璃建材制品的实验研究
文档格式:PDF 文档大小:322.64KB 文档页数:4
利用正交实验设计方法,进行了利用冶炼渣回收铁及生产微晶玻璃建材制品的实验室研究.探讨了不同原料配比时渣铁分离的效果.通过光学显微镜、X射线衍射分析、物理化学性能测试等手段确定了微晶玻璃试样的物相组成及性能特征.提出了可供工业实验的原料配比及工艺制度
基体温度对碳氮薄膜成分和结构的影响
文档格式:PDF 文档大小:449.9KB 文档页数:4
采用微波等离子体化学气相沉积法,N2/CH4作反应气体,在Si(100)基体上沉积β-C3N4化合物.使用X射线光电子能谱(XPS)研究了基体温度对碳氮薄膜的成分和结构的影响,结果表明:随着温度的提高,N/C原子比迅速提高,α-和β-C3N4在薄膜中的比例随之提高,超过一定的温度后,N/C原子比将会降低.傅立叶变换红外光谱(FT-IR)和喇曼(Raman)谱结果支持C-N键的存在
大规模集成电路导电薄膜的织构效应
文档格式:PDF 文档大小:450.28KB 文档页数:4
利用X射线技术检测了普通工艺和改进工艺制备的内联导电铝膜的织构.分析表明,高体积量且锋锐的{111}面织构可以大幅度降低大规模集成电路芯片的失效率.讨论了失效的原因及{111}织构的有利作用.指出了新一代内联导电铜膜相应织构问题的重要性
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