对于中规模、大规模和某些VLSI的IC，前面介绍的基本光刻工艺完全适用，然而 ，对于ULSI/VLSI IC 这些基本工艺已经明显力不能及。在亚微米工艺时代，某些光刻工艺在0.3µm以下明显显示出它的局限性。存在地问题主要包括：光学设备的物理局限；光刻胶分辨率的限制；晶园表面的反射现象和高低不平现象等

一、光的偏振性 ---- 光波的振动效应 二、光的干涉性 ---- 光波的相位效应 三、光的色散性 ---- 光波的频率效应

第四节 光的衍射

概念: 显微外科(Microsurgery)是利用光学 放大镜,使用显微器材对细小组织进行 精细手术的学科,同时它作为一门技术, 已广泛应用于手术学科的各个专业

§22-1 光的衍射和惠更斯 - 菲涅耳原理 §22-2 单缝的夫朗和费衍射 §22-3 光学仪器的分辨本领 §22-4 细丝和细粒的衍射 §22-6 衍射光栅 §22-6 光栅光谱 §22-7 x射线衍射

围绕光是横波这一事实,研究光在各向异性介质中的传播规律和应用

以惠更斯菲涅耳原理为基础,研究光的衍射现象和规律

1、光速及其测定方法; 2、以光的量子性为基础,介绍光电效应和康普顿效应; 3、光的波粒二象性

一、电磁波的基本性质 1.电磁波的种类:

一、教学方案 ①了解分散体系的定义和分类;理解溶胶的三大特性。 ②了解胶体分散体系的光学性质和动力学性质。 ③理解电泳、电渗现象以及胶粒带电的原因;掌握胶粒的双电教学目的和层结构和胶团结构式