21-1杨氏双缝干涉 21-2相千光 21-3光程 21-4薄膜干涉 21-5迈克尔逊干涉仪

第二十一章光的干涉 21—1相千光 21—2双缝干涉 21—3薄膜干涉 21—4迈克耳逊干涉仪

17-3 光程 薄膜干涉 17-4 劈尖 牛顿环 17-5 迈克耳孙干涉仪

第二十一章光的干涉 21—1相干光 21—2双缝干涉 21—-3薄膜干涉 21-4迈克耳逊干涉仪

主要内容 一、相干光 二、杨氏双缝干涉实验 三、双镜劳埃德境 四、光程薄膜干涉 五、劈尖牛顿环 六、迈克尔孙干涉仪

上海交通大学：《大学物理教程》课程电子教案（课件讲稿）第20章 光的干涉和衍射 20.3 薄膜干涉

本文综述了近年来ITO薄膜在微结构特性、能带结构、光电性能及力学性能等方面的研究进展,简略探讨了ITO薄膜的研究发展方向

§20-1 光的相干性 §20-2 双缝干涉 空间相干性 §20-3 薄膜的等倾干涉 §20-4 薄膜的等厚干涉 §20-5 干涉仪 相干长度 §20-6 偏振光的干涉

§20-1 光的相干性 § 20-2 双缝干涉 空间相干性 § 20-3 薄膜的等倾干涉 § 20-4 薄膜的等厚干涉 § 20-5 干涉仪 相干长度 §20-6 偏振光的干涉

一、薄膜制备工艺 二、光刻工艺 三、刻蚀工艺（Etch Process） 四、掺杂工艺 五、氧化工艺 六、其它工艺 • CMP(chemical mechanical planarization) • SOI (silicon on insulator) • 铜互连 • 硅片键合与背面腐蚀技术 • 注氧隔离技术(SIMOX) • 智能剥离技术