正电子概况Ⅲ 正电子技术及其发展 叶邦角 核固体物理研究室 Laboratory of Nuclear Solid State Physics,USTC PDF文件使用"pdfFactory”试用版本创建耀w.fineprint.cn
正电子技术及其发展 叶邦角 核固体物理研究室 Laboratory of Nuclear Solid State Physics, USTC 正电子概况III
内容提要 ▣常规正电子技术 ■其它正电子技术 ■正电子技术发展趋势 PDF文件使用"pdfFactory”试用版本创建替fineprint.cn
内容提要 n常规正电子技术 n其它正电子技术 n正电子技术发展趋势 PDF 文件使用 "pdfFactory" 试用版本创建 ÿ替Ì www.fineprint.cn ÿ
一、正电子技术 口正电子湮灭寿命谱 ▣正电子多普勒展宽谱 口正电子双多普勒关联 口正电子一维和二维角关联 口正电子寿命-幅度关联 口正电子寿命-动量关联 PDF文件使用"pdfFactory”试用版本创建ww.fineprint.cn
一、正电子技术 q正电子湮灭寿命谱 q正电子多普勒展宽谱 q正电子双多普勒关联 q正电子一维和二维角关联 q正电子寿命-幅度关联 q正电子寿命-动量关联 PDF 文件使用 "pdfFactory" 试用版本创建 ÿwww.fineprint.cn
二、其它正电子技术 ▣正电子俄歇谱 口正电子微束技术 口正电子极化技术 PDF文件使用"pdfFactory”试用版本创建www.fineprint.cn
q正电子俄歇谱 q正电子微束技术 q正电子极化技术 二、其它正电子技术 PDF 文件使用 "pdfFactory" 试用版本创建 www.fineprint.cn
三、正电子技术发展 口数字化 口大型综合化 口平台化 PDF文件使用"pdfFactory”试用版本创建ww.fineprint.cn
三、正电子技术发展 q数字化 q大型综合化 q平台化 PDF 文件使用 "pdfFactory" 试用版本创建 ÿwww.fineprint.cn
一、正电子湮灭寿命谱技术 PDF文件使用"pdfFactory”试用版本创建耀.fineprint.cn
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Effect of Positron Trapping in Crystal Lattice Defects e source thermalization 0O100 o000O diffusion typical diffusion length: 入=100nm trapping PDF文件使用"pdfFactory”试用版本创建iw.fineprint.cn
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Three Methods of Positr Annihilation Birth y-ray 1.27 MeV △t 1.Positron lifetime 2.Angular correlation Sample Px.y x.V moc positron source ● 22-Na diffusion (100 nm) 100μm Thermalization (1ps) 3.Doppler broadening 0.511MeV±AE,AE=Pzc2 PDF文件使用"pdfFactory”试用版本创建iw.fineprint.cn
Three Methods of Positron Annihilation PDF 文件使用 "pdfFactory" 试用版本创建 ÿwww.fineprint.cn ÿ
正©子技术与其它技术比较 10 ST M/AF M S T M/AF M 10 N 100 口d OM TEM 10 nS 01 XRS TEM XRS nS 100 100 10 目1 o sitron Spertroscony 0.1 sitron troscopy 0.11101001 10100110 0.1110100110100110 nm m mm nm m mm Depth Depth OM:Optical Microscopy nS:neutron Scattering TEM:Transmission Electron Microscopy XRS:X-Ray Scattering STM:Scanning Tunneling Microscopy AFM:Atomic Force Microscopy PDF文件使用"pdfFactory”试用版本创建替fineprint.cn
OM: Optical Microscopy nS: neutron Scattering TEM: Transmission Electron Microscopy XRS: X-Ray Scattering STM: Scanning Tunneling Microscopy AFM: Atomic Force Microscopy 正电子技术与其它技术比较 PDF 文件使用 "pdfFactory" 试用版本创建 ÿ替Ì www.fineprint.cn ÿ
1.寿命谱技术。 SCA 22Na Source 1.27 MeV y Start PM Start MCA 1.27 MeV Sample TAC Stop PM 511 keV 511 keV SCA Scintillator 511 keV PDF文件使用"pdfFactory”试用版本创建耀.fineprint.cn
1.寿命谱技术 PDF 文件使用 "pdfFactory" 试用版本创建 ÿ耀www.fineprint.cn
