正电子概况Ⅲ 正电子技术及其发展 叶邦角 核固体物理研究室 Laboratory of Nuclear Solid State Physics,USTC PDF文件使用"pdfFactory”试用版本创建耀w.fineprint.cn
正电子技术及其发展 叶邦角 核固体物理研究室 Laboratory of Nuclear Solid State Physics, USTC 正电子概况III
内容提要 ▣常规正电子技术 ■其它正电子技术 ■正电子技术发展趋势 PDF文件使用"pdfFactory”试用版本创建替fineprint.cn
内容提要 n常规正电子技术 n其它正电子技术 n正电子技术发展趋势 PDF 文件使用 "pdfFactory" 试用版本创建 ÿ替Ì www.fineprint.cn ÿ
一、正电子技术 口正电子湮灭寿命谱 ▣正电子多普勒展宽谱 口正电子双多普勒关联 口正电子一维和二维角关联 口正电子寿命-幅度关联 口正电子寿命-动量关联 PDF文件使用"pdfFactory”试用版本创建ww.fineprint.cn
一、正电子技术 q正电子湮灭寿命谱 q正电子多普勒展宽谱 q正电子双多普勒关联 q正电子一维和二维角关联 q正电子寿命-幅度关联 q正电子寿命-动量关联 PDF 文件使用 "pdfFactory" 试用版本创建 ÿwww.fineprint.cn
二、其它正电子技术 ▣正电子俄歇谱 口正电子微束技术 口正电子极化技术 PDF文件使用"pdfFactory”试用版本创建www.fineprint.cn
q正电子俄歇谱 q正电子微束技术 q正电子极化技术 二、其它正电子技术 PDF 文件使用 "pdfFactory" 试用版本创建 www.fineprint.cn
三、正电子技术发展 口数字化 口大型综合化 口平台化 PDF文件使用"pdfFactory”试用版本创建ww.fineprint.cn
三、正电子技术发展 q数字化 q大型综合化 q平台化 PDF 文件使用 "pdfFactory" 试用版本创建 ÿwww.fineprint.cn
一、正电子湮灭寿命谱技术 PDF文件使用"pdfFactory”试用版本创建耀.fineprint.cn
一、正电子湮灭寿命谱技术 PDF 文件使用 "pdfFactory" 试用版本创建 ÿ耀www.fineprint.cn
Effect of Positron Trapping in Crystal Lattice Defects e source thermalization 0O100 o000O diffusion typical diffusion length: 入=100nm trapping PDF文件使用"pdfFactory”试用版本创建iw.fineprint.cn
PDF 文件使用 "pdfFactory" 试用版本创建 ÿwww.fineprint.cn ÿ
Three Methods of Positr Annihilation Birth y-ray 1.27 MeV △t 1.Positron lifetime 2.Angular correlation Sample Px.y x.V moc positron source ● 22-Na diffusion (100 nm) 100μm Thermalization (1ps) 3.Doppler broadening 0.511MeV±AE,AE=Pzc2 PDF文件使用"pdfFactory”试用版本创建iw.fineprint.cn
Three Methods of Positron Annihilation PDF 文件使用 "pdfFactory" 试用版本创建 ÿwww.fineprint.cn ÿ
正©子技术与其它技术比较 10 ST M/AF M S T M/AF M 10 N 100 口d OM TEM 10 nS 01 XRS TEM XRS nS 100 100 10 目1 o sitron Spertroscony 0.1 sitron troscopy 0.11101001 10100110 0.1110100110100110 nm m mm nm m mm Depth Depth OM:Optical Microscopy nS:neutron Scattering TEM:Transmission Electron Microscopy XRS:X-Ray Scattering STM:Scanning Tunneling Microscopy AFM:Atomic Force Microscopy PDF文件使用"pdfFactory”试用版本创建替fineprint.cn
OM: Optical Microscopy nS: neutron Scattering TEM: Transmission Electron Microscopy XRS: X-Ray Scattering STM: Scanning Tunneling Microscopy AFM: Atomic Force Microscopy 正电子技术与其它技术比较 PDF 文件使用 "pdfFactory" 试用版本创建 ÿ替Ì www.fineprint.cn ÿ
1.寿命谱技术。 SCA 22Na Source 1.27 MeV y Start PM Start MCA 1.27 MeV Sample TAC Stop PM 511 keV 511 keV SCA Scintillator 511 keV PDF文件使用"pdfFactory”试用版本创建耀.fineprint.cn
1.寿命谱技术 PDF 文件使用 "pdfFactory" 试用版本创建 ÿ耀www.fineprint.cn