测定了五孔喷头射流速度的衰减速率。测定结果表明,由于中孔射流和边孔射流的边界条件不同,因而它们的速度衰减速率不同。当中孔和边孔的直径相等时,在正常的枪位下,射流速度中孔比边孔大一倍。为了充分地利用五孔喷头的射流对熔池的有效和均匀的搅拌作用,要求作用于熔池面时,中孔射流的速度应等于或略大于边孔射流的速度,为此设计五孔喷头时应使中孔面积（A中）小于每个边孔面积（A边）。测定结果得出A中/A边应为0.6～0.8

1纯弯曲 2纯弯曲时的正应力 3横力弯曲时的正应力 4弯曲切应力 5*关于弯曲理论的基本假设 6提高弯曲强度的措施

一。填空题 1,受力大、一个联接不能钻通孔的螺纹联接,应只联接:受惯向荷,面一拴直较小时,应用螺朕 2.设计滚子航传动时,链节数应取数轮齿数最好数 3、传中蜗的螺旋线方与蜗的螺旋线方向的模数为标准数,轮的小力角为标准压力 角:蜗杆径为标准直径

1概述 2动静法的应用 3强迫振动的应力计算 4杆件受冲击时的应力和变形 5冲击韧性

针对溶液雾化氧化法制备四氧化三钴粉末过程,研究了工程实验条件下反应温度、雾化压力和氯化钴溶液流量等参数对钴氧化率、粉末粒度和粉末松装密度的影响.在反应温度750℃、氯化钴溶液质量浓度120 g·L-1、压缩空气压力0.23 MPa、氯化钴溶液压力0.15 MPa以及氯化钴溶液流量40 L·h-1条件下,制备的氧化钴再经750℃热处理2 h后,钴氧化率达到100%,钴质量分数为73.04%,松装密度为0.48 g·cm-3,平均粒径为7.61μm.工程实验研究结果表明溶液雾化氧化法可以高效快速制备高品质四氧化三钴粉末,过程简单、清洁,具有产业化应用前景

第一节快速反应(QR) 第二节有效客户反应(ECR) 第三节协同规划、预测和连续补货( CPFR)

第20章晶闸管及其应用 20.1晶闸管 20.2可控整流电路 20.3晶闸管的保护 20.4单结晶体管触发电路 20.5应用举例

为了研究逆转变奥氏体在应力和低温条件下的稳定性,通过透射电子显微镜对淬火+回火(QT)和淬火+两相区淬火+回火(QLT)处理9Ni钢中逆转变奥氏体进行形貌观察.结果发现QT处理钢中逆转变奥氏体以块状形态存在;QLT处理钢中逆转变奥氏体以块状和薄膜状存在,薄膜状逆转变奥氏体分布在板条边界上.通过X射线衍射对液氮浸泡前后逆转变奥氏体含量和其碳含量的变化进行测量,发现QLT工艺处理后在液氮中稳定存在的逆转变奥氏体的含量要高于QT工艺.通过三点弯曲试验、单轴拉伸和压缩试验研究其机械稳定性,发现拉应力和压应力均能促使逆转变奥氏体转变,大部分残留奥氏体分布在晶内

二、回答下列问题,并作简要的说明(每小题5分,共30分) 1.根据我压形事诉讼法的明文规定,哪些情形不应追究州事责任? 2.公民在法律面前一律平等的含是什么? 3.般侵权行为的成,应具备要件? 4.根据我压仲法的规定,仲裁应当遵循哪些基本原则?

《应用随机过程教程》教学资源（参考资料）与在算法和智能计算中的应用——第14章 在精算与风险模型中的应用