一、PN结及其单向导电特性 1.PN结的形成 在P型半导体和N型半导体交界处,随着扩散运动的进行,在P区一侧留下不能移动的负离子,在N区一侧留下不能移动的正离子,这个区域称为空间电荷区,如图1-6

一、选择题(共13题20分) 1.2分(4086)4086对于德拜休克尔理论,下述哪一点说法是正确的?确() (A)认为离子严格讲不是独立单元 (B)只适用于饱和溶液 (C)只适用于过渡元素的离子 (D)只适用于水溶液

在室温条件下对钛铁矿进行了注入H2+离子实验,结合透射电镜观察,研究了钛铁矿还原过程中的微观机理.实验发现,注入H2+离子后,[1

一、本章基本要求: 掌握EDTA与金属离子配位的特点,配位滴定法的基本原理、分析计算和应用。理解金属离子被准确滴定的条件及金属指示剂的作用原理

采用循环伏安法首次研究了LiF-NaF-K2TiF6-KBF4熔盐体系中钛离子和硼离子在铂、钼电极上电化学还原及电合成硼化钛的阴极过程机理。对恒电位电解的沉积物进行了X射线衍射分析。结果表明,当体系中硼钛摩尔比B/Ti大于2时,钛与硼可在同一电位下实现电解共沉积并反应生成硼化钛

采用动电位极化测量技术测定了4种航空用钛合金材料(TC4,TC11,TA7和TA12)在6种醇类溶液介质中的极化曲线和它们的电化学参数.重点考察了醇类溶液中H2O或Cl-离子的影响.结果表明:醇类溶液中含一定量的H2O可适当改善材料的耐点蚀性能;而醇类溶液中的Cl-离子将严重损害材料的耐点蚀性能,明显使钛合金材料从自钝化状态转变为活化状态

利用电化学阻抗谱等电化学方法及扫描电镜(SEM)技术,研究了反应等离子喷涂TiN涂层在模拟海水中的电化学腐蚀行为.研究结果表明:TiN涂层的自腐蚀电位高于基体,涂层对基体能起到良好的腐蚀屏蔽作用;腐蚀介质通过涂层的通孔、微裂纹等缺陷渗入涂层与基体的界面腐蚀基体,从而使涂层电阻下降、电容增加,所产生的腐蚀产物在一定程度上可以抑制腐蚀反应的进行,但不会阻止基体局部腐蚀的继续进行.涂层的孔隙是造成涂层电化学腐蚀的主要原因

11.1 配位滴定法概述 11.2 影响金属EDTA配合物稳定性的因素 11.3 配位滴定的基本原理(单一金属离子的滴定) 11.4 金属离子指示剂 11.5 提高配位滴定选择性的方法 11.6 配位滴定的方式和应用

化学键（Chemical band）是指分子或晶体中 相邻两个或多个原子或离子之间的强烈作用 力。根据作用力性质的不同，化学键可分为 离子键、共价键和金属键等基本类型。不同 的分子或晶体具有不同的化学组成和不同的 化学键结合方式，因而具有不同的微观结构 和不同的化学性质

采用等离子束作为热源,在16Mn钢上熔覆一层铁基合金涂层.分析了涂层的组织结构;并通过对等离子熔覆热循环的特点和冶金过程的探讨,着重对钢基体的热影响区进行了测试分析;将热影响区划分为过热区、完全相变区和不完全相变区.过热区显微组织粗大,有魏氏体产生,硬度下降;完全相变区晶粒细化,硬度较高;不完全相变区组织只有部分发生转变,晶粒大小不均匀.过热区魏氏体组织的产生,使热影响区有脆化的倾向