7.1 概述 7.2 溶液中各级络合物型体的分布 7.3 副反应系数及条件稳定常数 7.4 EDTA滴定条件及其影响因素 7.5 络合滴定指示剂 7.6 终点误差和准确滴定的条件 7.7 提高络合滴定选择性的方法 7.8 络合滴定的方式和应用

用火焰原子吸收法测定了包头铌精矿和冶金炉渣中氧化钙.选用盐酸介质，镧作释放剂，用EDTA＋三乙醇胺消除干扰.比较了酸溶及碱熔试样处理方法，测定了酸不溶残渣中氧化钙.试验结果为：回收率100%～102%，RS.D<2%

用电化学方法研究添加剂聚二硫二丙烷磺酸钠(SPS)对乙二胺四乙酸(EDTA)/四羟丙基乙二胺(THPED)二元络合化学镀铜过程的影响,测量体系的混合电位-时间关系,加入SPS后混合电位负移,负移过程较平缓,无突跃现象;采用线性扫描伏安法研究体系,表明SPS促进了阴阳两极的极化,但主要是影响甲醛氧化的阳极极化过程.SPS也因此一定程度上提高了过程的沉积速率.通过扫描电镜、能谱仪和X射线衍射仪对结构的分析,镀层铜纯净度较高,无氧化铜等夹杂,镀层细致平滑,发现SPS有促进(200)晶面择优取向的作用

11.1 配位滴定法概述 11.2 影响金属EDTA配合物稳定性的因素 11.3 配位滴定的基本原理(单一金属离子的滴定) 11.4 金属离子指示剂 11.5 提高配位滴定选择性的方法 11.6 配位滴定的方式和应用

一、配位滴定曲线 用EDTA标准溶液滴定金属离子M，随着标准溶液 的加入，溶液中M浓度不断减小，金属离子负对数 pM逐渐增大。当滴定到计量点附近时，溶液pM值 产生突跃（金属离子有副反应时，pM’产生突跃）， 通过计算滴定过程中各点的pM值，可以绘出一条 曲线

一、选择性滴定可能性判断 当M与N两种金属离子共存时，它们均可与EDTA配 位，要准确滴定M，而N离子不干扰。经推导计算 ，得： lgK5 (CM>CN) 若不能满足条件，要采用方法提高滴定的选择性

11.1 配位滴定法概述 11.2 影响金属EDTA配合物稳定性的因素 11.3 配位滴定的基本原理(单一金属离子的滴定) 11.4 金属离子指示剂 11.5 提高配位滴定选择性的方法 11.6 配位滴定的方式和应用

配位滴定法是以配位反应为基础的滴定分析方法它是用配位剂作为标准溶 液直接或间接滴定被测物质。在滴定过程中通常需要选用适当的指示剂来指示滴 定终点。本章重点介绍以乙二胺四乙酸(EDTA)为滴定剂的配位滴定分析方法

4.5.1各种滴定方式 4.5.2EDTA标准溶液的配制与标定（自学）

1范围 本方法测硒的最低检出浓度为2.5ig/L。测定上限为50ig/L。 本方法已用于各种天然水、饮用水及炼油、硫酸制造、特种玻璃等工业废水中总硒的测 定。 水中常见离子一般不干扰本法测定硒,若存在较大量的铁、铜、钼及钒等重金属离子时, 对本法有干扰,可用Na2EDTA消除。强氧化剂能将3,3-二氨基联苯胺试剂氧化产生棕 红色,因此水样用混合酸液消解时一定要加热至大量硝酸被赶掉,少量的强氧化剂可用盐酸 羟胺消除