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低碳冲压钢板桔皮缺陷的成因
文档格式:PDF 文档大小:1.01MB 文档页数:6
利用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)和电子背散射衍射(EBSD)技术,针对SPCD冷轧板冲压制品中的桔皮缺陷的成因进行分析,探讨了晶粒取向可能对桔皮产生的影响.结果表明:铁素体晶粒过度粗大是导致冲压件表面产生桔皮缺陷的根源;{111}织构强度较弱和较大冲压量是加剧桔皮产生的两个因素.桔皮自由表面由平缓区和粗糙区组成,两个区域均显现以{112}〈110〉与{111}〈110〉为主导的取向特征,表明表面形貌与晶粒取向的对应性不显著,表面接触状况不同是造成这种形貌差异的主要原因
缓冲层对NiCo薄膜各向异性磁致电阻的影响
文档格式:PDF 文档大小:658.73KB 文档页数:4
用磁控溅射法制备了以NiFeCr和Ta分别为缓冲层的两种NiCo薄膜样品,在不同温度下对两种样品退火.结果表明:在NiCo厚度相同的情况下,以NiFeCr作为缓冲层的样品的各向异性磁致电阻(AMR)值明显高于Ta作为缓冲层的样品.X射线衍射(XRD)的结果表明,NiFeCr/NiCo薄膜的晶粒平均尺寸大于Ta/NiCo薄膜,且两种样品的磁膜/缓冲层界面存在较大差异,这可能是造成两者AMR差异的原因.此外,对样品进行温度适当的热处理可以明显改善薄膜的物理性质
由熔融高炉渣制备微晶玻璃
文档格式:PDF 文档大小:354.33KB 文档页数:5
采用熔融法,由熔融高炉渣制备性能稳定的基础玻璃.通过对基础玻璃的差热分析确定微晶玻璃的热处理工艺制度.结合X射线衍射分析、扫描式电子显微镜观察等现代研究方法,确定了微晶玻璃热处理制度的最佳工艺参数,并研究了微晶玻璃的晶体生长方式.微晶玻璃的热处理最佳工艺参数为:核化温度850℃,保温1.5 h;晶化温度935℃,保温1 h.玻璃首先从表面开始析晶,然后逐步向内部生长.实验所得微晶玻璃的力学性能,如抗折强度、耐酸碱性和硬度,均优于天然大理石
退火后冷却方式对冷轧中锰钢微观组织和力学性能的影响
文档格式:PDF 文档大小:2.74MB 文档页数:6
采用拉伸试验、扫描电镜、电子背散射衍射、透射电镜、X射线衍射等手段,研究了冷轧中锰钢(0.2C-5Mn)退火后不同冷却方式下的微观组织特点和拉伸性能.实验钢冷轧退火后为铁素体加逆转变奥氏体的双相组织.退火后空冷可以获得稳定性较高的逆转变奥氏体,且其体积分数也明显高于退火后炉冷.退火后空冷实验钢中的逆转变奥氏体在变形过程中产生持续的TRIP效应,提高强度的同时获得了较高的塑性,强塑积可达到26.5 GPa·%
La2O3-CeO2-ZrO2粉的制备及性能
文档格式:PDF 文档大小:376.3KB 文档页数:3
利用化学共沉淀法制取锆酸镧(La2Zr2O7,简称LZ)和La2O3-CeO2-ZrO2(简称LCZ)热障涂层喷涂粉,采用电感耦合等离子体光谱仪(ICP-AES)对粉的化学成分进行分析,用X射线衍射仪分析LZ,LCZ的物相组成,用差式扫描量热法研究粉的高温相稳定性.结果表明:LZ,LCZ粉均为烧绿石结构;高温下LZ,LCZ无明显相变
插层沥青基碳纤维的电学性能与结构
文档格式:PDF 文档大小:418.34KB 文档页数:5
采用熔盐法,在CuCl2-KCl系中得得较高电导率的插层沥青基碳纤维.与原始状态相比,插层后的沥青碳纤维x射线衍射图谱上的(002)及(10)衍射线的宽度变小,衍射宽度变小的机制是由于石墨层间化合物的形成,使沥青基碳纤维电导率增加
矿渣胶凝材料固结尾砂的微观实验
文档格式:PDF 文档大小:1.51MB 文档页数:6
用X射线衍射、扫描电镜和热重!差示扫描量热方法表征了矿渣胶凝材料的水化产物和微观结构,研究了矿渣胶凝材料对尾砂固结过程的影响.微观实验结果表明:矿渣胶凝材料的水化产物主要为水化硅酸钙凝胶(C-S-H)、钙矾石(AFt)及少量的帕水钙石(Ca2Al4Si4O15(OH)2·4H2O)和沸石类矿物,随着养护时间的延长,矿渣胶凝材料在水化过程中发生晶体结构重组和重排;尾砂中的方英石、云母和碳酸盐类矿物(方解石、白云石等)是尾砂固结过程中的活性成分,能生成其他晶体矿物和胶凝状矿物,这是导致固结体微观结构不同的主要原因
氢致304L不锈钢晶体结构变化与相变
文档格式:PDF 文档大小:403.26KB 文档页数:5
利用X射线衍射方法,研究了304L不锈钢中电解充氢过程和随后时效过程中的氢致奥氏体结构变化和氢致马氏体相变。结果表明,电解充氢可导致奥氏体晶格膨胀和马氏体相变,α’相和ε相同时出现,并且在室温时效过程中并不能消失
取向硅钢板坯高温抗氧化涂料
文档格式:PDF 文档大小:902.38KB 文档页数:7
为了提高取向硅钢板坯的抗高温氧化性能,采用浆料法制备MgO-Cr2O3系的取向硅钢用高温抗氧化涂料.通过氧化增重、X射线衍射和电子扫描电镜等测试方法,研究涂层保护下的取向硅钢在不同温度下的氧化增重规律以及1400℃下氧化产物截面形貌、元素分布特征.结果表明,该涂料对于取向硅钢具有良好的高温防护功能,且具有宽泛的抗氧化区域
氯化汞触媒的汞挥发速率
文档格式:PDF 文档大小:266.65KB 文档页数:4
采用通量箱、比表面积分析仪、扫描电子显微镜和X射线光电子能谱仪测试了电石法聚氯乙烯(PVC)行业中高汞触媒、低汞触媒和废高汞触媒的汞挥发速率、比表面积、成分及汞形态.研究表明:高汞触媒、低汞触媒和废高汞触媒的汞挥发速率分别为1.04×10-7、5.90×10-8和2.47×10-4mg·g-1·min-1.高汞触媒使用后氯化汞被还原为单质汞,且汞吸附于触媒表面,导致废高汞触媒汞挥发速率远高于新汞触媒
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