
第八章扫描电子显微分析 第八章扫描电子显微镜(SEM) 1)成像物理信号 1.工作原理与构造 2)构造 2.像衬原理* 3)SEM主要性能 3.应用 思考:扫描电镜、透射电镜,电子探针能做哪些工 作,各自适用范围?
1 第八章 扫描电子显微分析 第八章 扫描电子显微镜(SEM) 1. 工作原理与构造 2.像衬原理* 3.应用 1)成像物理信号 2)构造 3)SEM主要性能 思考:扫描电镜、透射电镜,电子探针能做哪些工 作,各自适用范围?

比较SEM和TEM 1)从接收的成像物理信号 2)从构造角度 3)从主要性能(适用范围) 4)从样品要求和制备 厚度 原子序数 100nm 透射电镜照片(TEM)
2 1)从接收的成像物理信号 2)从构造角度 3)从主要性能(适用范围) 4)从样品要求和制备 比较SEM和TEM 厚度 原子序数 透射电镜照片(TEM)

透射电镜(TEM) 质厚衬度:非晶样品衬度的 振幅衬度 主要来源 衍射衬度:晶体样品衬度的 主要来源 相位衬度:高分辨透射电子显微像
3 衍射衬度:晶体样品衬度的 主要来源 相位衬度:高分辨透射电子显微像 质厚衬度:非晶样品衬度的 主要来源 透射电镜 (TEM)

200nm
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第八章扫描电子显微镜(SEM) 1)成像物理信号 1.工作原理与构造 2)构造 2.像衬原理* 3)SEM主要性能 3.应用 SEM的特点和工作原理 ◆1965年第一台商用SEM问世; ◆SEM能弥补透射电镜样品制备要求很高的缺点; ◆景深大: ◆放大倍数连续调节范围大: ◆分辨本领比较高
5 第八章 扫描电子显微镜(SEM) 1. 工作原理与构造 2.像衬原理* 3.应用 1)成像物理信号 2)构造 3)SEM主要性能 SEM的特点和工作原理 ◆ 1965年第一台商用SEM问世; ◆ SEM能弥补透射电镜样品制备要求很高的缺点; ◆ 景深大; ◆ 放大倍数连续调节范围大; ◆ 分辨本领比较高

扫描电镜 1)成像物理信号 1.原理与构造 1)成像物理信号 2)构造 一定能量的电子,入 背散射电子 3)主要性能 射固体样品时,与样品 俄歌电子 特征X射线 2.像衬原理 内原子核和核外电子发 )表面形貌 2)原子序数 生弹性和非弹性散射过 吸收电手 3.应用 程,激发固体样品产生 样品 多种物理信号。 透射电子 扫描电镜 1)成像物理信号 1.原理与构造 1)成像物理信号 背散射电子: 2)构造 背散射电子 3)主要性能 歌电子 特征X射线 弹性背散射电子 2.像衬原理 非弹性背散射电子 )表面形貌 2)原子序数 、吸收电子 3.应用 样品 透射电子
6 1)成像物理信号 一定能量的电子,入 射固体样品时,与样品 内原子核和核外电子发 生弹性和非弹性散射过 程,激发固体样品产生 多种物理信号。 特征X射线 扫描电镜 1.原理与构造 1)成像物理信号 2)构造 3)主要性能 2.像衬原理 1)表面形貌 2)原子序数 3.应用 特征X射线 背散射电子: 弹性背散射电子 非弹性背散射电子 扫描电镜 1)成像物理信号 1.原理与构造 1)成像物理信号 2)构造 3)主要性能 2.像衬原理 1)表面形貌 2)原子序数 3.应用

成分分析 扫描电镜 1)成像物理信号 e 1.原理与构造 背散射电子:o° )成像物理信号 弹性背散射电子 2)构造 非弹性背散射电子 3)主要性能 2.像衬原理 >能量高 1)表面形貌 >来自样品表层几百纳米的 2)原子序数 深度 3.应用 >与原子序数有关 扫描电镜 1)成像物理信号 1.原理与构造 )成像物理信号 2)构造 二次电子日电 背散射电子 二次电子: 3)主要性能 俄歌电子 特征X射线 (真)二次电子 2.像衬原理 1)表面形貌 和俄歇电子 2)原子序数 吸收电子 3.应用 样品 透射电子
7 e 背散射电子: 弹性背散射电子 非弹性背散射电子 Ø能量高 Ø来自样品表层几百纳米的 深度 Ø与原子序数有关 成分分析 扫描电镜 1)成像物理信号 1.原理与构造 1)成像物理信号 2)构造 3)主要性能 2.像衬原理 1)表面形貌 2)原子序数 3.应用 特征X射线 二次电子: (真)二次电子 和俄歇电子 扫描电镜 1)成像物理信号 1.原理与构造 1)成像物理信号 2)构造 3)主要性能 2.像衬原理 1)表面形貌 2)原子序数 3.应用

形貌分 扫描电镜 1)成像物理信号 析 .od 1.原理与构造 e 1)成像物理信号 (真)二次电子: 2)构造 3)主要性能 >样品核外电子 2.像衬原理 >样品表层几纳米深度 )表面形貌 2)原子序数 >能量小 3.应用 >产额与原子序数无关 Y 扫描电镜 1)成像物理信号 成分分 析 1.原理与构造 od 1)成像物理信号 2)构造 三次电子日电 背散射电子 吸收电子 3)主要性能 歌电子 束 特征X射线 2.像衬原理 原子序数衬度 )表面形貌 2)原子序数 吸收电子 样品 3.应用 透射电子
8 (真)二次电子: Ø样品核外电子 Ø样品表层几纳米深度 Ø能量小 Ø产额与原子序数无关 形貌分 析 e 扫描电镜 1)成像物理信号 1.原理与构造 1)成像物理信号 2)构造 3)主要性能 2.像衬原理 1)表面形貌 2)原子序数 3.应用 特征X射线 成分分 析 吸收电子 原子序数衬度 扫描电镜 1)成像物理信号 1.原理与构造 1)成像物理信号 2)构造 3)主要性能 2.像衬原理 1)表面形貌 2)原子序数 3.应用

1)成像物理信号 扫描电镜 成分分 析 1.原理与构造 )成像物理信号 二次电子 背散射电子 透射电子: 2)构造 3)主要性能 俄歇电子 特征X射线 仅取决于样品微区的成 2.像衬原理 分、厚度、晶体结构及 1)表面形貌 吸收电子 位向等。 2)原子序数 样品 3.应用 透射电子 扫描电镜 保持电平衡 1.原理与构造 1)成像物理信号 二次电子 背散射电子 in=ibti,ti。tir 2)构造 3)主要性能 俄歇电子 特征X射线 ,是入射电子强度: 2.像衬原理 6是背散射电子强度; 1)表面形貌 吸收电子 i,是二次电子强度; 2)原子序数 样品 3.应用 i是吸收电子强度; 透射电子 i,是透射电子强度
9 特征X射线 成分分 析 透射电子: 仅取决于样品微区的成 分、厚度、晶体结构及 位向等。 1)成像物理信号 扫描电镜 1.原理与构造 1)成像物理信号 2)构造 3)主要性能 2.像衬原理 1)表面形貌 2)原子序数 3.应用 特征X射线 保持电平衡 ip=ib+is+ia+it ip 是入射电子强度; ib 是背散射电子强度; is 是二次电子强度; ia 是吸收电子强度; it 是透射电子强度。 扫描电镜 1.原理与构造 1)成像物理信号 2)构造 3)主要性能 2.像衬原理 1)表面形貌 2)原子序数 3.应用

扫描电镜 1)成像物理信号 1.原理与构造 8 两边同除以ip,得 1)成像物理信号 射电子 背散射电子 +8+a+T=1 2)构造 特征X射线 3)主要性能 我歇电子 n=wp,背散射系数; 2.像衬原理 )表面形貌 吸收电子=,p,二次电子发射系数: 2)原子序数 样品 3.应用 a=i,/ip,吸收系数; 透射电子 T=iWip,透射系数。 二次电子 初次背散射电子 多次非弹性散射 单次非弹性散射 弹性散射 俄歇电子 ~50ev 电子能量 电子能谐 10
10 特征X射线 两边同除以ip,得 η+δ+a+T=1 η= ib /ip,背散射系数; δ= is/ip,二次电子发射系数; a = ia /ip,吸收系数; T = it/ip,透射系数。 1)成像物理信号 扫描电镜 1.原理与构造 1)成像物理信号 2)构造 3)主要性能 2.像衬原理 1)表面形貌 2)原子序数 3.应用 初次背散射电子 多次非弹性散射 单次非弹性散射 弹性散射 俄歇电子 二次电子 电子能量