◼ 邻二卤代烃的消除 ◼ 卤代烃的还原反应 ◼ 卤代烃与金属的反应，有机金属化合物的类型及制法 ◼ Grignard试剂的制备及反应条件， Grignard试剂的主要反应，Grignard试剂在合成上的应用 ◼ 二烷基铜锂试剂的主要反应及在合成上的应用

◼ 卤代烃的消除反应 ◼ 消除反应的E2和E1机理，影响消除反应机理的因素， ◼ 消除的Zaitsev取向和Hofmann取向 ◼ 烯烃的类型及相对稳定性。 ◼ 反合成分析，Williamson醚合成法

◼ 卤代烷的亲核取代，取代产物的类型 ◼ 亲核取代反应的两种机理——SN1和SN2机理 ◼ 碳正离子，碳正离子的稳定性，碳正离子的重排 ◼ 影响亲核取代反应机理和反应速率的因素 ◼ 其它类型化合物的亲核取代

◼ 卤代烷的类型及命名 ◼ 卤代烷的亲核取代，取代产物的类型 ◼ 亲核取代反应的两种机理——SN1和SN2机理 ◼ 碳正离子，碳正离子的稳定性，碳正离子的重排

◆ 生成自由基的其它方法 ◆ 烷烃自由基取代反应机理的进一步讨论 ◆ 环烷烃环的大小对化学性质的影响 ◆ 小环化合物的化学特性

◆ 烷烃的氯代和溴代反应，烷烃卤代的自由基机理 ◆ 自由基链反应的步骤（链引发、链传递和链终止） ◆ 反应的势能变化，反应的过渡态 ◆ 卤代反应的选择性，自由基的稳定性 ◆ Hammond有关过渡态结构假说

➢ 手性化合物的特性——旋光性（旋光度a , 比旋光[a] ，外消旋体和内消旋体） ➢ 构象对映体和构象非对映体 ➢ 描述立体构性的 D / L 体系（手性碳的相对构型） ➢ 外消旋体的拆分

➢ 手性分子和非手性分子，手性碳 ➢ 对映异构体和非对映异构体 ➢ 手性碳的（R/S）构型，手性分子的命名 ➢ 手性碳的数目与立体异构体数目 ➢ 差向异构体的概念

➢ 构象和构象异构体，构象式的表示方式 ➢ 烷烃的构象，几种极限构象式 ➢ 环烷烃的构象 ➢ 环己烷及取代环己烷的构象，环己烷的两种极限构象式

◆ 有机化合物的同分异现象 ◆ 一些常见有机基团，基团的排序方法 ◆ 烷烃的命名（ 主要：IUPAC命名法） ◆ 环烷烃的命名其它化合物的命方法