氮化烧成后硅在刚玉氮化硅材料中的赋存形态

D0I:10.13374/i.issn1001-053x.2005.03.015 第27卷第3期 北京科技大学学报 Vol.27 No.3 2005年6月 Journal of University of Science and Technology Beijing Jun,2005 氮化烧成后硅在刚玉氮化硅材料中的赋存形态 涂军波123孙加林》洪彦若》 1)北京科技大学材料科学与工程学院，北京1000832)河北理工大学材料学院，唐山063009 摘要研究了不同温度氮化烧成后，硅在刚玉氮化硅材料中的赋存形态.结果表明：1300℃ 氮化后，硅的外层包裹着絮状的O-Sialon:1400℃时，硅颗粒破裂且内部有氮化硅生成： 1500℃时，已没有残留硅保留下来，硅氮化生成了0'-Sialon和氮化硅：1600℃时，硅氮化完 全，其中的杂质相CaO,Fc,O等富集在一起. 关键词硅；刚玉氨化硅；氨化；赋存形态 分类号T175 过渡塑性相工艺是美国的Barsoum在20世 采用由北京科技大学的新工艺生产的氮化硅，粒 纪90年代初期提出的，称为TPPP(Transient Plastic 度小于74m,化学成分为Si≥55.0%，N≥35.0%， Phase Process)工艺..“软”的过渡塑性相基质+ Fe≤3.0%，0≤3.0%，体积密度≥3.2gcm,主要 反应相一硬基质+增强相，即借助过渡塑性相基 矿物为阝-SiN≥90%；粒度小于74m的金属硅 质的塑性形成塑性成型，提高坯体的密度和强 粉，其成分（质量分数，%）为：Si,9724;Fe0,0.47; 度：热处理过程中，塑性相基质与陶瓷颗粒（反应 Si02,1.28:Ca0,0.56. 相)反应，形成硬基体和强化相，生成非金属强化 12试样制备 相，从而改善了材料的常温性能和高温性能. 确定以下配比（质量分数）为：50%AlO+ 洪彦若等将过渡塑性相工艺的思想应用到 37.5%SiN+12.5%Si.将配合料按球：料：无水 耐火材料中来，提出了金属塑性相复合耐火材料 乙醇=3：1：2的比例在小型球磨机上混合2h,充 的理论.笔者在以往的研究中报道了在刚玉氮 分干燥后，加入适量有机结合剂，机压成型为 化硅材料中加入硅，在氮化炉中硅氮化生成O' 中25mm×20mm的圆柱样，成型压力为100MPa,经 Sialon,从而能促进烧结，提高强度.O'-Sialon是 100℃，24h干燥后，在氮化炉内埋石墨粉在流动 Si,N,O和Al,O,的固溶体，具有与SiN,0相同的结 氮气中分别于1300,1400,1500和1600℃保温2h 构，其晶胞为SiN,O)四面体，属于正交晶系，其 烧成.用X射线衍射法分析物相，用扫描电镜并 分子式为Si2-Al,0N-(0<x≤0.3).由于O'-Sialon 结合能谱分析观察试样的显微结构，着重在于研 中含氧量相对较高，因此在各种Sialon材料中抗 究硅在反应过程中的赋存状态， 氧化性最好.本文对不同温度下氮化后，硅在刚 2结果与讨论 玉氮化硅材料中的赋存形态进行研究，进一步阐 述了硅在刚玉氮化硅材料中的作用， 2.1物相分析 由X光衍射分析可知，1300℃氮化后如 1 实验过程 (图1(a),已经有O'-Sialon生成了，此外还有未反 应完全的金属硅.1400,1500和1600℃氮化后生 11原料 成了O'-Sialon(图lb)(d),但生成O'-Sialon的相 美铝公司生产的牌号为T60的氧化铝，粒度 对峰强有所差异：1500℃最强；1400℃较弱，可能 小于44m,化学成分（质量分数，%）为：Al20, 和0'-Sialon发育不好有关；而1600℃又变弱，可 99.8;Na0,0.08:FezO,0.02;Ca0,0.02:Si02,0.03 能是生成较多SiN4的原因，热力学分析在文献 收稿日期：200404-30修回日期：200409-20 [4中已报道过.没有检测到B-Sialon,这可能和原 基金项目：国家自然科学基金资助项目No.50172007:No.50332010) 作者简介：涂军波(1971一)，男，讲师，博士研究生 料活性小，保温时间短有关系

第 2 7 卷 第 3 期 2 0 0 5 年 ` 月 北 京 科 技 大 学 学 报 oJ u r n a l o f U n iv e “ iyt o f s e ie n e e a n d eT c h n o lo gy B e ij i o g 、勺LZ , N 0 3 J U n 。 2 0 0 5 氮化烧成后硅在刚玉氮化硅材料 中的赋存形态 涂军 波 ’ , , , 孙加林 ” 洪 彦若 ” 1) 北京科 技大 学材 料科学 与工程 学 院 , 北京 10 0 0 83 2) 河 北理工 大学 材料学 院 , 唐 山 0 6 3 0 09 摘 要 研 究 了不 同温度 氮化 烧成 后 , 硅 在 刚玉氮 化硅 材料 中的赋存 形态 . 结 果表 明 : 13 0 ℃ 氮 化后 , 硅 的外 层包 裹着 絮状 的 O 一 S ial on ; 1 4 0 ℃ 时 , 硅 颗 粒破 裂 且 内部有 氮 化硅 生 成 : 1 5 0 0℃ 时 , 己 没有 残 留硅保 留 下来 , 硅氮 化 生成 了 0 七is ia on 和 氮化 硅 ; 1 6 0 ℃ 时 , 硅 氮化 完 全 , 其 中 的杂质 相 C a O , F` 0 3 等 富集 在 一起 . 关键 词 硅 ; 刚玉 氮化 硅 ; 氮 化 ; 赋存 形态 分类 号 T 1 7 5 过 渡 塑性 相 工 艺是 美 国 的 B ar so uln 在 20 世 纪 90 年代 初 期提 出的 , 称 为仰P (P rT an is e in lP as ict P has e rP oc es s) 工 艺 `, · ” . “ 软 ” 的过渡 塑 性相 基 质+ 反应相 ~ 硬基 质 十 增 强相 , 即借助 过 渡塑 性 相基 质 的塑 性 形成 塑 性 成 型 , 提 高坯 体 的密度和 强 度 ; 热 处 理过 程 中 , 塑性 相基 质 与陶 瓷颗 粒 ( 反应 相 ) 反应 , 形 成 硬基 体和 强 化相 , 生成 非金 属 强化 相 , 从 而 改善 了材料 的常温 性 能和 高温性 能 . 洪彦 若 等 `3 ,将 过渡 塑 性相 工艺 的 思想 应用 到 耐火 材料 中来 , 提 出 了金 属 塑性 相复 合耐 火材 料 的理论 . 笔 者 在 以往 的研 究 l4] 中报 道 了在 刚玉氮 化硅 材 料 中加 入硅 , 在 氮 化炉 中硅 氮 化 生成 O ,一 iS al o n , 从 而 能促 进 烧 结 , 提 高强度 . o’ 一is al on 是 is Z N Z O 和 A 胜O , 的 固溶 体 , 具 有 与 iS Z N 2 0 相 同的 结 构 , 其 晶胞 为 iS 佩O ) 四 面体 , 属于 正 交 晶系 , 其 分子 式 为 S儿扒LO , +xN 2一 ( 0勺簇 0 . 3 ) . 由于 0 匕 S i al o n 中含 氧量 相 对 较 高 , 因此 在 各种 Sial on 材 料 中抗 氧 化 性最 好 . 本文 对 不 同温度 下 氮 化后 , 硅在 刚 玉氮化 硅材 料 中 的赋存 形态 进行 研 究 , 进一 步 阐 述 了硅 在 刚 玉氮 化硅 材 料 中 的作 用 . 采用 由北 京科 技 大学 的新 工艺 生产 的氮 化硅 , 粒 度 小于 74 阿 , 化 学成 分 为 is ) 5 . 0% , N ) 35 . 0% , eF 延.3 0% , O ( .3 0% , 体 积 密度 妻 3 . 2 9 · c m 一 , , 主要 矿 物 为卜is3 N 4 ) 90 % ; 粒 度 小 于 74 阿 的金属 硅 粉 , 其 成 分 (质 量分 数 , % )为 : 5 1 , 9 7 . 2 4 ; F e Z o 3 , 0 . 4 7 ; 5 10 2 , 1 . 2 8 : C a o , 0 . 56 . 1 .2 试样 制 备 确 定 以 下 配 比 (质 量 分 数 ) 为 : 50 % 1A 2 q + 37 .5 % is 凡+l .2 5% 51 . 将 配 合 料 按 球 : 料 : 无 水 乙 醇= 3 : 1 : 2 的 比例 在 小型球 磨机 上混 合 Zh , 充 分 干燥 后 , 加 入 适 量 有机 结 合 剂 , 机 压 成 型 为 帜s m m ` 20 ~ 的 圆柱 样 , 成 型压 力 为 10 M P a, 经 10 ℃ , 24 h 干 燥后 , 在 氮 化炉 内埋 石 墨粉在 流 动 氮气 中分别 于 1 3 0 0 , 1 4 0 0 , 15 0 0 和 1 6 0 0 oC 保 温 Z h 烧 成 . 用 X 射 线 衍射法 分 析物 相 , 用 扫 描 电镜 并 结合 能谱 分 析观 察试样 的显微 结构 , 着重在 于研 究硅 在 反应 过 程 中 的赋存 状 态 . 1 实验 过 程 L l 原料 美铝公 司 生产 的牌 号为 6T 0 的氧 化 铝 , 粒度 小 于 4 4 林m , 化 学 成 分 (质 量分 数 , % ) 为 : A 1 2 0 3 , 99 . 8 ; N 灸O , 0 . 0 8 ; F e 2 0 3 , 0 . 0 2 ; C aO , 0 . 0 2 ; 5 1仪 , 0 . 03 . 收稿 日期 : 2 0 4 -() 乍3 0 修回 日期 : 2 0 4刁9 es 2 0 鑫金项 目: 国家 自然科 学基金 资助项 目困 。 ` 50 17 2 0 0 7 ; N o . 5 0 33 2 0 10 ) 作者简介 : 涂 军 波 ( 19 71 一) , 男 , 讲师 , 博士研 究生 2 结 果 与 讨 论 .2 1 物相 分 析 由 X 光 衍 射 分 析 可 知 , 1 3 0 0 oC 氮 化 后 如 ( 图 l( a) ) , 已经 有 ’o 一is al on 生 成 了 , 此外 还 有 未反 应 完全 的金 属硅 . 1 4 0 0 , 1 5 00 和 16 0 0 oC 氮 化后 生 成 了 口一iS al on (图 1伪卜(d) ) , 但 生成 a 一is al o n 的相 对峰强 有所 差异 : 1 5 0 ℃ 最强 ; 1 4 0 ℃ 较弱 , 可 能 和 口一is al on 发 育不 好 有关 ; 而 1 60 ℃ 又 变 弱 , 可 能是生 成较 多 S 如凡 的原 因 . 热 力 学分 析在 文 献 4[ 1中 已报道 过 . 没 有检 测到 卜 S i al on , 这 可 能和 原 料 活性 小 , 保温 时 间短有关系 . DOI: 10. 13374 /j . issn1001 -053x. 2005. 03. 015

318 北京科 技大学学报 2005年第3期 (a) A A—AlO3 (b) A A-Al0, 9 N-B-SiN N-B-SiN. O0'-Sialon 00'-Sialon S—Si 1400℃ A 1300℃ g 9 AA 1020 30405060708090100 10 203040 5060 70 8090100 281() 28/() (c) A A-A01 A-ALO A N一B-Si,N A N-B-SiN. OO'-Sialon O-O'-Sialon 1500℃ A (SiALO.N) 1600℃ A ON N N A N N ANNA ON A N 1020 30 40 506070 8090100 1020.3040 5060 70 8090 281() 201() 图1氯化后试样的XRD图谱 Fig.1 Patterns of XRD for a sample after nitridation at different temperatures 2.2显微结构 体积效应使得硅颗粒内部出现裂纹，同时氨气中 1300℃氯化后，试样的显微结构如图2所示. 的氧气浓度降低到能生成氮化硅的程度，渗入硅 由EDS分析结果并结合XRD分析，可以确定：图 颗粒内部与硅反应生成氮化硅，体积膨胀使得硅 中浅白色物质是残留下来的金属硅，其外形保持 颗粒进一步破裂，依此往复，使得氨化反应能够 完整，其中出现小坑可能是硅蒸汽逸出使然；外 完成. 层包裹的絮状物质是初生的O'-Sialon,亮白色物 氮化后如图4所示：单质硅已不复存在，其外 质是铁. 形不再保持完好，但硅破裂氮化成的氨化硅柱状 1400℃氨化后硅的形貌如图3所示.硅虽然 颗粒清晰可见，图4中B点所示.絮状晶O-Sialon 还能较好的保持外形，但已经部分分解破裂成小 进一步发育长大.硅的熔点是1412℃，当1500℃ 颗粒，且颗粒内部生成氮化硅如A点，外层的絮 氮化时，硅熔化成液相，氮化反应也由固-气(SV) 状O'-Sialon发育长大.可以认为，硅在反应过程 机制转变为液-气LV)机制，使得氨化反应加速， 中，外表面先发生氧氮化生成絮状的O'-Sialon, 硅氨化完全.可见，浅白色物质为残余的金属硅 图21300℃氨化后试样中硅的形态 Fig.2 Morphologies of silicon in a sample after nitridation at 1300C

一 8 1 3 北 京 科 技 大 学 学 报 - 年 第 期 2 5 0 3 伪 一 ) A ^ 1 A A 2 0 , 毓 N 一p 一 Si 3N4 O 一勺 .一 S i a l o n 1 40 0 ℃ A A { …… 。 …袱摄几立太 2 6 / ( o ) 2 8 / (o ) A一 A L0 3 N一 p 一 5 1入 0 一O ,一 5 1日 o n 1 5 0 0 ℃ N ` p 一 5 1召 闷 O ~ 一0 ,一 S i a l o n ( 5 1 ,祷肠 . : 0 : 加 1 . . ) 侧葱韧军 侧毕惠友 A N 醉 A N 、NA“泪尸阳l|’I | . ’妇l|IL.r l .叮lJ A门1店沪les| 1 0 2 0 30 4 0 50 2口 / ( o 9 0 1 00 80 9 0 2 8 / ( O ) 0 口O ù n 7 U 一 )6 图 1 氮 化后 试样 的 X R D 图谱 价g . I aP 血 , . of X R D fo r a s a . P l e “ n e r . i tlr d a幼叨 at d廿卜比 . t 触 m p e ar tU溉 .2 2 显徽结 构 1 3 00℃ 氮化 后 , 试样 的显 微结 构如 图 2所 示 . 由 E D S 分析 结果 并 结合 X RD 分析 , 可 以确 定 : 图 中浅 白色物 质 是残 留下 来 的金 属硅 , 其 外形 保持 完整 , 其 中 出现小 坑可 能 是硅 蒸汽 逸 出使 然 ; 外 层包 裹 的絮 状物 质 是初 生 的 ’o 一 ial o n , 亮 白色物 质 是铁 . 1 4 0 0 ℃ 氮 化 后硅 的形 貌 如 图 3 所示 . 硅 虽然 还 能较好 的保 持外 形 , 但 己经 部分 分解 破裂 成 小 颗粒 , 且颗 粒 内部 生成 氮化 硅 如 A 点 . 外层 的 絮 状 ’O 一 is al o n 发育 长大 . 可 以认 为 , 硅 在 反应 过程 中 , 外 表 面先 发生 氧氮 化 生成 絮状 的 O ,-S i al on , 体积 效应使 得硅 颗粒 内部 出现 裂纹 , 同时氮 气 中 的氧气 浓度 降低到 能生成氮 化硅 的程 度 , 渗 入硅 颗 粒 内部 与硅反 应生 成氮化 硅 , 体 积膨胀 使得硅 颗 粒 进一 步破 裂 , 依此 往 复 , 使得 氮化 反 应 能够 完成 . 氮 化后 如图 4所 示 : 单质硅 已 不复存 在 , 其外 形不 再保持 完好 , 但 硅破 裂氮 化成 的氮化 硅柱 状 颗 粒清 晰 可见 , 图 4 中 B 点所 示 . 絮状 晶O -I is al on 进 一 步发 育长 大 . 硅 的熔 点 是 1 4 12 ℃ , 当 1 5 0 ℃ 氮 化 时 , 硅熔化成 液相 , 氮 化反应 也 由固一气 (s V ) 机 制 转变 为液一气 (口)机制 , 使得 氮化 反应 加速 , 硅 氮化 完全 . 可 见 , 浅 白色 物质 为残 余 的金属硅 . 图 2 1 3 0 ℃ 氮 化 后试样 中硅的 形态 F馆 . 2 M o印卜0 1 0口翻 o f ,川c o n 加 a s a m p le a触 r 目幼d浦 o n a t 1 3 0 ℃

Vol.27No.3 涂军波等：氨化烧成后硅在刚玉氨化硅材料中的赋存形态 ·319· 1600℃氮化后，硅的外形完全破坏，氮化生白色的物质，如图5中C点所示，经能谱分析，其 成O'-Sialon和氮化硅，体积膨胀，填充气孔，能在 中铁、钙的含量较高，可以推断是硅氮化后其中 降低气孔率的同时，使得气孔的孔径分布尺寸也 的杂质氧化铁、氧化钙等富集在一起形成的低 变小：并且在原硅粉所在的颗粒中形成了一些浅 熔物。 图3140℃氨化后试样中硅的形态 Fig.3 Morphologies of silicon in a sample after nitridation at 1 400C 图41500℃氨化后试样中硅的形态 Fig.4 Morphologies of silicon in a sample after nitridation at 1500'C 图51600℃氨化后试样中硅的形态 Fig.5 Morphologies of silicon in a sample after nitridation at 1600C 3结论 Sialon逐渐发育长大，体积膨胀填充气孔. 在硅复合刚玉氮化硅材料中，氮化烧成后硅 参考文献 在1300℃主要以0-Sialon和单质的形态存在， [1]Barsoum M W,Houng B.Transient plastic phase processing of 絮状的O'-Sialon包裹在残留硅的外层；到1400℃ titanium-boron-carbon composites.JAm Ceram Soc,1993,76 (6):1445 时，主要以O-Sialon的形态出现，此外还有硅氮 [2]Barsoum M W.Methods for densifying and strengthening ce 化生成的氮化硅及很少量未反应完全的单质硅； ramic-ceramic composites by transient plastic phase processing. 1500℃时，硅的外形逐渐丧失，硅以O-Sialon和 Compos Part A Appl Sci Manuf,1996,27(2):161 []洪彦若，孙加林，王玺堂，等，非氧化物复合耐火材料北 氮化硅的形态存在：1600℃时，硅完全氮化，以O' 京：冶金工业出版社，2003.1 Sialon和氨化硅的形态存在，同时硅中的杂质相 【4)涂军波，孙加林，洪彦若.硅在刚玉氮化硅材料中的作用 CaO,FeO,等富集在一起.在整个氮化过程中，O' 耐火材料，2004,40(3：165

V b LZ , N o 3 涂 军 波等 : 氮化 烧成 后硅 在刚 玉氮 化硅 材料 中 的赋 存形 态 . 3 19 - 1 6 0 0℃ 氮化 后 , 硅 的外形 完 全破 坏 , 氮 化 生 成 O ,-S ial on 和 氮化硅 , 体 积膨 胀 , 填 充 气孔 , 能在 降低 气 孔率 的同 时 , 使得 气 孔 的孔径 分 布尺 寸也 变 小 ; 并且 在原硅 粉所 在 的颗 粒 中形 成 了一些 浅 白色 的物 质 , 如 图 5 中 C 点所 示 . 经 能谱 分 析 , 其 中铁 、 钙 的含 量较 高 , 可 以推 断是硅 氮 化 后其 中 的 杂质 氧 化 铁 、 氧 化 钙 等 富 集在 一起 形 成 的 低 熔 物 . 图 3 1 40 0 ℃ 氮 化后试 样 中硅的 形态 M o印 h o l o gl es o f s迸 e o . i n a s a . P l e a fet r . it d d a 肚o n a t 1 4 0 0 ℃ 图 4 1 5 0 ℃ 氮 化后试样 中硅 的形 态 M o pr h o l o乡曰 o f s il e o o i n a s a m P l e a ft e r . it ir d a it o n a t 1 5 0 0 ,C 3 结 论 图 5 1`的℃ 氮化 后试样 中硅 的形 态 M o rP h o ol ig es of s il e o . 1 . a s a m P l e a批 r . i tir d a it o . at l 研 0℃ 一iS al on 逐渐 发 育 长大 , 体积 膨胀 填 充气 孔 , .3 峪吮, ) . 嚼.g19 在 硅 复合 刚 玉氮 化 硅材 料 中 , 氮 化烧 成 后硅 在 1 3 0 0 ℃ 主要 以 ’o 一S i al on 和 单质 的 形态 存在 , 絮 状 的 o -l iS al on 包 裹在残 留硅 的外 层 ; 到 1 4 0 ℃ 时 , 主 要 以 O 七iS al o n 的形 态 出现 , 此 外还 有硅 氮 化 生成 的 氮化 硅及 很 少量 未 反应 完全 的 单质硅 : 1 50 0 ℃ 时 , 硅 的外 形 逐渐 丧 失 , 硅 以 口一S ial on 和 氮 化硅 的 形态 存在 ; 1 6 0 ℃ 时 , 硅 完全 氮 化 , 以o’ 一is al on 和 氮化硅 的形 态 存 在 , 同时硅 中 的杂质 相 C ao , F 岛 O , 等 富集 在一 起 . 在整 个氮 化 过程 中 , 0 , 参 考 文 献 11 ] B asr o um M W, H o un g B . 升即 s l e nt Plas ti c P h as e P r o c e s s ign o f ti ant i um 一 b o or n一 e ar b o n e o m Po s it e s . J A m C e ar m os ,c 19 9 3 , 7 6 ( 6 ) : 14 5 2[ 』 B asr o um M W. M het o d s for de ns i fy 吨 即d s tr e n g ht e n 吨 ce - 腼 i c 一 c e’amI i e e o m P o s iet s 妙 廿 a n s i e in P las t i c P b as e P r o c e s s ing . C o m P o s P a rt A A P P I S e i M . n u f, 19 9 6 , 2 7 (2 ) : 16 1 3[] 洪彦若 , 孙 加林 , 王玺堂 , 等 . 非氧 化物复合 耐火材料 . 北 京 : 冶金 工业 出 版 社 , 2 0 03 . 1 4[] 涂 军波 , 孙加 林 , 洪彦若 . 硅 在 刚玉氮化硅材 料 中的作 用 . 耐火 材料 , 2 0 04 , 4 0 ( 3 ) : 16 5

·320· 北京科技大学学报 2005年第3期 Morphology of silicon in corundum silicon-nitride composites after nitridation TU Junbo,SUN Jialin",HONG Yanruo 1)Materials Science and Engineering School,University of Science and Technology Beijing,Beijing 100083,China 2)College of Materials,Hebei Polytechnic University,Tangshan 063009,China ABSTRACT The morphology of silicon was studied in corundum silicon-nitride composites after nitridation at different temperatures.The results showed that silicon was wrapped by flocculant O'-Sialon at 1 300C.Silicon gra- ins were broken and silicon nitride formed inside the grains at 1 400C.All silcon was nitrided into O'-Sialon or sili- con nitride without any silicon left at 1 500C.Impurities from silicon such as Cao,Fe2O,were aggregated at 1600℃. KEY WORDS silicon;corundum-silicon nitride;nitridation;morphology (上接第23页) Fluidity of liquid phase in iron ores during sintering WU Shengli,DU Jiancin,MA Hongbin,TIAN Yunging,XU Haifa Metallurgical and Ecological Engineering School,University of Science and Technology Beijing.Beijing 100083,China ABSTRACT In the sintering process of iron ores,the fluidity of sintering liquid phase created by iron ores reacting with CaO is one of the important indexes that evaluate whether the sintering mixture can consolidate effectively. 10 kinds of imported iron ore fines were used to investigate the fluidity of liquid phase in iron ores and analyze its influential factors by the minitype sintering method and the viscosity evaluation method based on flow area.The ef- fect of the fluidity of liquid phase in iron ores on the realistic sintering process was discussed.The results indicate that different iron ores have different fluidities of liquid phase in sintering conditions due to their inherent charac- teristics. KEY WORDS iron ore;sintering;liquid phase;ore-blending

一 3 20 - 北 京 科 技 大 学 学 报 2 0 5 年 第 3 期 M o rp h o l o g y o f s ili e on in e o mn d切m s ili c o n 一 n iitr d e e o m P o s iet s a ft e r n iitr d iat on 了乙 了 J扮刀 b ol, )z, S UN涌沁 l iln 毛刀口刀 G aY n r ou , , l ) M at e r ial s S c i e n c e an d E n g in e e ir n g S e h o l , U n lv e 口 iyt o f s e i enc e an d eT c bn o 1 0罗 B e ij in g , B e ij ign l 0 0 0 8 3 , C h in a 2 ) C o ll e g e o f M a et ir als , H e be i P o lyt e e ho i c U O l v e sr iyt, 毛 m g s加也 0 6 3 0() 9 , C h ir 以 A B S T R A C T T h e nI o pr h o lo gy of isl ic on ~ s ot d ied in c o 几 nI 山口 is ll e o n . n iitr de c o m Po s iet s 吐e r 川itr d at ion at id 月免r e nt et m pe r a 奴rI e s . hT e er sul st s ho we d ht a t s il con was w n 甲Ped 妙 月加c ul ant o -,S i a】o n at 13 0 ℃ , is icl 叻 g r a - ins w e re b r o ke n an d s ili e on 苗itr de fo n n e d ins id e ht e gr 田n s at 1 4 0 0 oC . lA l s il e on w a s ul itr de d int o 0 ,一 i al on or s ili - c on in itr de w lth o ut an y isl ic on le ft at 1 5 0 ℃ . 加甲诵t i e s fr o m isl c on suc h as C aO , F` q , v e r e a 因歹e g at e d at 1 6 0 0℃ . K E Y W O RD S s ili e on ; e o rL m山 nU 一 s ili e on n iitr de ; n iitr d时ion ; m o pr h o l o gy (上接 第 2 9 3 页 ) F l u idiyt o f liqu i d P h as e i n ior n o er s d u ir gn s in et ir gn 邵U hS e喇1, D U iJ a xn in, 九区 oH妙 i,n 乃叼 N uY qn ign, X U aH扣 M e at l钊l gr l c ia an d玫 o l o gi c al E n g in e血 9 S c h o o ,l U n i v ser iyt o f s e l e n c e an d eT c bn o l o gy B e ij in g , B iej ign l 0 00 83 , C h i n a A B S T R A C T ih hte s in te 山19 P r o e e ss o f 甘 o n o re s , het fl u l d iyt o f s int e irn g 1i qul d Pha s e cer at ed by ir o n oer s er a e t in g iw ht C aO 1 5 oen o f het 加P o rt aJ 吐 i n d e x e s ht at ve a luat e 场七e ht e r het s int e irn g m i x ot er e an c o 幻` o lidat e e fe e it v e .ly 10 ik n ds of im P 0 rt e d i r o n oer 五n e s w er us ed ot ivn e s ti g aet het fl ul d iyt of h qul d hP aS e in ir o n oer s an d an a 1y z e ist in n ue int al fac ostr by het m in i ytP e s int e it n g m e t h o d an d het vi sc o s i yt ve a 地iat on m het od b as ed on ifo w aer a . Th e -ef fe ct of ht e fl u iid yt of il qul d 如as e in ir o n oer s on het er ial ist o s int 留in g P r o ce s w a s id sc us se d . T五e er s ul t s in d i c aet 小a t id fe r e n t ir on oer s h va e d ifl 七r e in fl u iid it es of h俩d P h as e in s in t e irn g 。曲d iit osn du e ot het ir 汕由e r e n t c h田甩 c - t e ir s it e s . K E Y W O RD S i orn oer ; s in et ir n g ; il q ul d 户as ;e oer 一 bl e n d i n g