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基质掺杂离子对(Y,Rn)2O2S∶Sm3+,Ti4+,Mg2+(Rn=La,Gd,Lu,Ga,Al)红色长余辉材料余辉性能的影响

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采用高温固相法制备了基质掺杂的(Y,Rn)2O2S:Sm3+,Ti4+,Mg2+(Rn=La,Gd,Lu,Ga,Al)红色长余辉材料,主峰均为4G5/2→6H7/2跃迁的红橙色光发射,不受基质掺杂的影响.余辉性能测试表明掺杂离子半径对余辉性能具有重要的影响:单掺时,与Y3+半径相近并略小时样品的余辉时间有正增长;双离子共掺时均为小半径的掺杂对余辉性能有显著的提高,其中之一半径较大时即具有负效应.并对可能存在的机理进行了初步探讨.
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D0I:10.13374/1.issm100103.2008.0L.0B 第30卷第1期 北京科技大学学报 Vol.30 No.1 2008年1月 Journal of University of Science and Technology Beijing Jan.2008 基质掺杂离子对(Y,Rn)2O2SSm3+,T4+,Mg2+(Rn= La,Gd,Lu,Ga,A)红色长余辉材料余辉性能的影响 张栌丹王明文刘世香张飞飞李文军 北京科技大学应用科学学院,北京100083 摘要采用高温固相法制备了基质掺杂的(Y,Rn)202SSm3+,Ti4+,Mg2+(Rn=La,Gd,Lu,Ga,A)红色长余辉材料,主峰 均为G52→H72跃迁的红橙色光发射,不受基质掺杂的影响.余辉性能测试表明掺杂离子半径对余辉性能具有重要的影响: 单掺时,与Y3+半径相近并略小时样品的余辉时间有正增长;双离子共掺时均为小半径的掺杂对余辉性能有显著的提高,其 中之一半径较大时即具有负效应·并对可能存在的机理进行了初步探讨· 关键词红色长余辉材料:基质掺杂;离子半径:余辉时间 分类号TN104.3:0482.3 Effect of host-doping ions on the afterglow property of (Y,Rn)2OS:Sm,Ti, Mg(Rn=La,Gd,Lu,Ga.Al)red phosphors ZHA NG Ludan,WANG Mingwen,LIU Shixiang.ZHA NG Feifei,LI Wenjun School of Applied Science.University of Science and Technology Beijing.Beijing 100083.China ABSTRACT Host doped (Y.Rn)202S :Sm3.Ti,Mg2(Rn=La,Gd.Lu.Ga.Al)red phosphors were prepared by solid state method.Their chief emission peaks are in the red-orange range coming from the energy transition ofG5/2H7/2 and host-doping has little effluence on the emitting spectra.Afterglow results show that the semi diameter of doped ions has some effect on the long" lasting property.When the doped ion is a litte smaller than Y,the afterglow time will increase.When two ions are doped.wo smaller ions doping will promote the long lasting property:if one ion is larger than Y,it will shorten the long-lasting time.The presumable mechanism was also discussed. KEY WORDS red phosphor:host doped:ionic semi diameter:decay time 长余辉发光材料属于光致发光材料的一种,具 优良的耐热性、耐水性和抗辐射性等特点,2004年 有优良的光谱性能和特有的长余辉特性,因而日益 雷炳富等报道了Y202SSm3+,Ti+,Mg2+红色 受到人们的广泛关注和研究山.其中稀土离子激活 长余辉材料,该磷光体经紫外和可见光的激发都有 的长余辉材料技术逐渐成熟,被广泛应用于交通安 较好的长余辉发光.本文对Yz0s:Sm3+,Ti+, 全标志、紧急突发事件的照明设施、CRT荧光粉、发 Mg2材料的基质掺杂进行了系统的研究,重点考察 光陶瓷、工艺美术涂料等众多领域),而三价稀土 了掺杂基质离子半径对产物余辉性能的影响, 离子激活的硫氧化物是性能较好的长余辉材 1实验部分 料3 1999年Murazaki等[6]报道了Eu3+激活的硫氧 1.1试剂和仪器 Y203(99.99%,质量分数,下同),Sm203 化钇长余辉发光材料,具有高亮度长余辉,尤其具有 (99.99%),Lu203(99.99%),Gdz03(99.99%), 收稿日期:2006-10-15修回日期:2006-12-01 La203(光谱纯),Ga203(光谱纯),A203(分析纯), 基金项目:北京科技大学校基金资助项目(Na.00009003) 其余试剂均为分析纯, 作者简介:张栌丹(1981一),女,硕士研究生:王明文(1970一),男, 1.2样品制备 副教授,博士 采用高温固相法制备样品(Y,Rn)z02S:Sm3+

基质掺杂离子对(Y‚Rn)2O2S∶Sm 3+ ‚Ti 4+ ‚Mg 2+(Rn= La‚Gd‚Lu‚Ga‚Al)红色长余辉材料余辉性能的影响 张栌丹 王明文 刘世香 张飞飞 李文军 北京科技大学应用科学学院‚北京100083 摘 要 采用高温固相法制备了基质掺杂的(Y‚Rn)2O2S∶Sm 3+‚Ti 4+‚Mg 2+(Rn=La‚Gd‚Lu‚Ga‚Al)红色长余辉材料‚主峰 均为4G5/2→6H7/2跃迁的红橙色光发射‚不受基质掺杂的影响.余辉性能测试表明掺杂离子半径对余辉性能具有重要的影响: 单掺时‚与 Y 3+半径相近并略小时样品的余辉时间有正增长;双离子共掺时均为小半径的掺杂对余辉性能有显著的提高‚其 中之一半径较大时即具有负效应.并对可能存在的机理进行了初步探讨. 关键词 红色长余辉材料;基质掺杂;离子半径;余辉时间 分类号 T N104∙3;O482∙3 Effect of host-doping ions on the afterglow property of (Y‚Rn)2O2S∶Sm 3+‚Ti 4+‚ Mg 2+ (Rn=La‚Gd‚Lu‚Ga‚Al) red phosphors ZHA NG L udan‚W A NG Mingwen‚LIU Shixiang‚ZHA NG Feifei‚LI Wenjun School of Applied Science‚University of Science and Technology Beijing‚Beijing100083‚China ABSTRACT Host doped (Y‚Rn)2O2S∶Sm 3+‚Ti 4+‚Mg 2+ (Rn=La‚Gd‚Lu‚Ga‚Al) red phosphors were prepared by solid state method.T heir chief emission peaks are in the red-orange range coming from the energy transition of 4G5/2→6H7/2 and host-doping has little effluence on the emitting spectra.Afterglow results show that the semi diameter of doped ions has some effect on the long￾lasting property.When the doped ion is a little smaller than Y 3+‚the afterglow time will increase.When two ions are doped‚two smaller ions doping will promote the long-lasting property;if one ion is larger than Y 3+‚it will shorten the long-lasting time.T he presumable mechanism was also discussed. KEY WORDS red phosphor;host doped;ionic semi diameter;decay time 收稿日期:2006-10-15 修回日期:2006-12-01 基金项目:北京科技大学校基金资助项目(No.00009003) 作者简介:张栌丹(1981—)‚女‚硕士研究生;王明文(1970—)‚男‚ 副教授‚博士 长余辉发光材料属于光致发光材料的一种‚具 有优良的光谱性能和特有的长余辉特性‚因而日益 受到人们的广泛关注和研究[1].其中稀土离子激活 的长余辉材料技术逐渐成熟‚被广泛应用于交通安 全标志、紧急突发事件的照明设施、CRT 荧光粉、发 光陶瓷、工艺美术涂料等众多领域[2]‚而三价稀土 离 子 激 活 的 硫 氧 化 物 是 性 能 较 好 的 长 余 辉 材 料[3—5]. 1999年 Murazaki 等[6]报道了 Eu 3+激活的硫氧 化钇长余辉发光材料‚具有高亮度长余辉‚尤其具有 优良的耐热性、耐水性和抗辐射性等特点.2004年 雷炳富等[7] 报道了 Y2O2S∶Sm 3+‚Ti 4+‚Mg 2+ 红色 长余辉材料‚该磷光体经紫外和可见光的激发都有 较好的长余辉发光.本文对 Y2O2S∶Sm 3+‚Ti 4+‚ Mg 2+材料的基质掺杂进行了系统的研究‚重点考察 了掺杂基质离子半径对产物余辉性能的影响. 1 实验部分 1∙1 试剂和仪器 Y2O3 (99∙99%‚质 量 分 数‚下 同)‚Sm2O3 (99∙99%)‚Lu2O3(99∙99%)‚Gd2O3(99∙99%)‚ La2O3(光谱纯)‚Ga2O3(光谱纯)‚Al2O3(分析纯)‚ 其余试剂均为分析纯. 1∙2 样品制备 采用高温固相法制备样品(Y‚Rn)2O2S∶Sm 3+‚ 第30卷 第1期 2008年 1月 北 京 科 技 大 学 学 报 Journal of University of Science and Technology Beijing Vol.30No.1 Jan.2008 DOI:10.13374/j.issn1001-053x.2008.01.003

·50 北京科技大学学报 第30卷 Ti4+,Mg2+(Rn=La,Gd,L,Ga,Al)按化学计量 计在365nm紫外光激发2min后测量产物的余辉衰 比称取一定量的Yz03和R203为基质,摩尔分数 减曲线及余辉时间, 1%的Sm203为激活剂,质量分数30%的升华硫和 30%的NazC03,摩尔分数2%的Ti02与4%的 2结果与讨论 Mg(OH)24MgC036H20于玛瑙研钵中充分研磨 2.1产物物相分析 混匀,放入5mL刚玉坩埚中,上层铺上适量的升华 根据产物Yz02S:Sm3+,Ti+,Mg2+和 硫,加盖,在此坩埚外套上一个50mL大刚玉坩埚, Y1.6Rno.402S :Sm3+,Ti+,Mg2+(Rn La,Gd. 两坩埚之间填充适量的活性炭粉末然后加盖,置于 Lu,Ga,AI)的X射线衍射谱图,计算的晶胞参数列 马弗炉中于1200℃反应3h.冷却至室温,用2%稀 于表1.将所得的衍射峰数据与标准JCPDS卡片 盐酸热洗,过滤,用热的去离子水洗至中性,于80℃ (No.24-1424)对照,证实除掺A1样品外均为纯相 烘干,得到粉末状固体 六方晶系晶体,表明大半径基质掺杂与半径较基质 采用Rigaku D/max-RB-l2KW型X射线粉末 稍小的基质掺杂对晶体结构无明显影响,且随着掺 衍射仪进行产物的物相分析,Cintra GB10e紫外可 杂离子的半径的增大,其晶胞参数整体呈增大趋势, 见分光光度计测量样品的吸收光谱,Hitachi F一4500 说明掺杂离子半径对晶格参数有正影响,由于A1 荧光光谱仪测量样品的激发光谱、发射光谱及余辉 的离子半径过小,比较难掺入Y202S晶格,掺入比 衰减曲线.以北京师范大学SP一90OPM微弱光光度 例相对较小,所以与标准值相差较大 表1Y1.6Ra.02SSm3+,Ti+,Mg2+(Rn=La,Gd,Y,Ln,Ga,Al)样品的晶胞参数 Table 1 Constants of crystal lattice in the samples of Y1.6Rno.402S'Sm,Ti,Mg2 (Rn=La,Gd.Y,Lu.Ga.Al) 晶胞参数 标准值 实验值 20%A1 20%Ga 20%Lu 20%Gd 20%La a,b/nm 0.3784 0.3786 0.33380 0.37870 0.35119 0.38016 0.38121 c/nm 0.6589 0.6590 0.65892 0.65915 0.59044 0.66103 0.66375 2.2产物的吸收光谱 他离子的样品发射光谱图与此类似.掺傢的样品与 Y1.6 Rno.4 O2S Sm3 Ti,Mg2+(Rn=La. 不掺的样品的发射光谱峰位几乎一致,说明产物的 Gd,Lu,Ga,Al)的吸收光谱受基质掺杂离子的影 发射光谱基本不受基质掺杂的影响,发射光谱由 响很小.图1为掺L山样品的吸收光谱.可见在 567,604和655nm处的三组发射峰组成,分别对应 200~450nm范围内有一较宽的吸收带,最高峰值 4G52→5H5/2.72.9/2的能级跃迁,是Sm3+离子的特征 位于242nm,这对于短波长可见光的能量利用具有 发射峰,其中最高峰位于604nm处,说明该磷光体 潜在的意义 发红橙色光 2500F 2000 YO.S 0. 1500 0.3 1000H 0.2 500 0.1 500 550 600 650 700 200300400500600700800 波长nm 波长mm 图1Y1.6L.402SSm3+,Ti+,Mg2+的吸收光谱 图2(Y,Rm)20sSm3+,T+,Mg2+的发射光谱 Fig-1 Optical absorption spectrum of Y1.6Luo.402:Sm,Ti Fig-2 Emission spectra of (Y.Rn)20:SmTi,Mg+ Mg2+ 2.4不同半径的离子的掺杂对余辉性能的影响 2.3产物的发射光谱 2.4.1单离子掺杂 图2为Yz02s:Sm3+,Ti4+,Mg2+和(Y, 在基质中分别掺入摩尔分数20%的La、Gd、 0.2Ga)202SSm3+,Ti+,Mg2+的发射光谱,掺杂其 Lu、Ga和Al,与不进行掺杂的样品相比较,采用H出-

Ti 4+‚Mg 2+(Rn=La‚Gd‚Lu‚Ga‚Al).按化学计量 比称取一定量的 Y2O3 和 Rn2O3 为基质‚摩尔分数 1%的 Sm2O3 为激活剂‚质量分数30%的升华硫和 30%的 Na2CO3‚摩尔分数 2% 的 TiO2 与 4% 的 Mg(OH)2·4MgCO3·6H2O 于玛瑙研钵中充分研磨 混匀‚放入5mL 刚玉坩埚中‚上层铺上适量的升华 硫‚加盖‚在此坩埚外套上一个50mL 大刚玉坩埚‚ 两坩埚之间填充适量的活性炭粉末然后加盖.置于 马弗炉中于1200℃反应3h.冷却至室温‚用2%稀 盐酸热洗‚过滤‚用热的去离子水洗至中性.于80℃ 烘干‚得到粉末状固体. 采用 Rigaku D/max—RB—12KW 型 X 射线粉末 衍射仪进行产物的物相分析‚Cintra GB10e 紫外可 见分光光度计测量样品的吸收光谱‚Hitachi F—4500 荧光光谱仪测量样品的激发光谱、发射光谱及余辉 衰减曲线.以北京师范大学 SP—900PM 微弱光光度 计在365nm 紫外光激发2min 后测量产物的余辉衰 减曲线及余辉时间. 2 结果与讨论 2∙1 产物物相分析 根 据 产 物 Y2O2S ∶ Sm 3+‚Ti 4+‚Mg 2+ 和 Y1∙6Rn0.4O2S∶Sm 3+‚Ti 4+‚Mg 2+ (Rn = La‚Gd‚ Lu‚Ga‚Al)的 X 射线衍射谱图‚计算的晶胞参数列 于表1.将所得的衍射峰数据与标准 JCPDS 卡片 (No.24—1424)对照‚证实除掺 Al 样品外均为纯相 六方晶系晶体‚表明大半径基质掺杂与半径较基质 稍小的基质掺杂对晶体结构无明显影响‚且随着掺 杂离子的半径的增大‚其晶胞参数整体呈增大趋势‚ 说明掺杂离子半径对晶格参数有正影响.由于 Al 的离子半径过小‚比较难掺入 Y2O2S 晶格‚掺入比 例相对较小‚所以与标准值相差较大. 表1 Y1.6Rn0.4O2S∶Sm 3+‚Ti 4+‚Mg 2+(Rn=La‚Gd‚Y‚Lu‚Ga‚Al)样品的晶胞参数 Table1 Constants of crystal lattice in the samples of Y1.6Rn0.4O2S∶Sm 3+‚Ti 4+‚Mg 2+(Rn=La‚Gd‚Y‚Lu‚Ga‚Al) 晶胞参数 标准值 实验值 20% Al 20% Ga 20% Lu 20% Gd 20% La a‚b/nm 0.3784 0.3786 0.33380 0.37870 0.35119 0.38016 0.38121 c/nm 0.6589 0.6590 0.65892 0.65915 0.59044 0.66103 0.66375 2∙2 产物的吸收光谱 Y1.6Rn0.4O2S∶Sm 3+‚Ti 4+‚Mg 2+ (Rn = La‚ Gd‚Lu‚Ga‚Al)的吸收光谱受基质掺杂离子的影 响很小.图1为掺 Lu 样品的吸收光谱.可见在 200~450nm 范围内有一较宽的吸收带‚最高峰值 位于242nm‚这对于短波长可见光的能量利用具有 潜在的意义. 图1 Y1.6Lu0.4O2S∶Sm 3+‚Ti 4+‚Mg 2+的吸收光谱 Fig.1 Optical absorption spectrum of Y1.6Lu0.4O2S∶Sm 3+‚Ti 4+‚ Mg 2+ 2∙3 产物的发射光谱 图 2 为 Y2O2S∶Sm 3+‚Ti 4+‚Mg 2+ 和 ( Y‚ 0∙2Ga)2O2S∶Sm 3+‚Ti 4+‚Mg 2+的发射光谱‚掺杂其 他离子的样品发射光谱图与此类似.掺镓的样品与 不掺的样品的发射光谱峰位几乎一致‚说明产物的 发射光谱基本不受基质掺杂的影响.发射光谱由 567‚604和655nm 处的三组发射峰组成‚分别对应 4G5/2→6H5/2‚7/2‚9/2的能级跃迁‚是 Sm 3+离子的特征 发射峰‚其中最高峰位于604nm 处‚说明该磷光体 发红橙色光. 图2 (Y‚Rn)2O2S∶Sm 3+‚Ti 4+‚Mg 2+的发射光谱 Fig.2 Emission spectra of (Y‚Rn)2O2S∶Sm 3+‚Ti 4+‚Mg 2+ 2∙4 不同半径的离子的掺杂对余辉性能的影响 2∙4∙1 单离子掺杂 在基质中分别掺入摩尔分数20%的 La、Gd、 Lu、Ga 和 Al‚与不进行掺杂的样品相比较‚采用 Hi- ·50· 北 京 科 技 大 学 学 报 第30卷

第1期张栌丹等:基质掺杂离子对(Y,km)zO2S:Sm3+,n+,Mg2+(Rn=La,Gd,L,Ga,A)红色长余辉材料余辉性能的影响,51, tachi F-4500荧光光谱仪测得的余辉时间(Xe灯照 作为基质的离子La3+、Gd3+、Y3+、Lu3+、Ga3+和 射60s,关闭光源,从关闭光源到相对光强减弱至 A3+,其离子半径依序减小.掺杂大半径离子La3+ 100的时间间隔为余辉时间),并以不掺样品的余辉 (0.115nm)的样品余辉性能几近消失.与Y3+ 时间121s为100%计算其余样品的相对余辉时间, (0.0930nm)半径相近的离子Gd3+(0.0938nm)和 以掺杂离子半径为纵坐标,以样品的相对余辉时间 Lm3+(0.0848nm)的掺杂均具有较好的余辉性能, 和为横坐标,如图3所示. 半径略大的Gd3+掺杂对余辉性能有一定的负作用, 150 而半径较小的L:3+掺杂表现出明显的余辉增强效 140 120 果,余辉时间较Y0S:Sm3+,Ti+,Mg2+提高了 120 90 38.3%.对于半径更小的Ga3+(0.062nm)、A3+ 100 (0.050nm)的掺杂,仍然具有一定的余辉性能,但相 80 等 对于未掺杂样品有较大幅度的降低, 60 o 2.4.2双离子共掺 La Gd>Y Lu Ga Ap J40 选择不同半径的离子组合进行双离子基质共掺 摻杂离子 杂,掺杂总量为20%(摩尔分数),以Y1.6L0.402S: Sm3+,Ti+,Mg2+样品的余辉时间为100%计算相 图3单离子掺杂对产物余辉时间的影响图 对余辉时间如表2所示 Fig.3 Effects of semi diameter on the decay time of the samples 表2双离子共掺对产物余辉时间的影响 Table 2 Effects of twoion-doping on the decay time 基质掺杂离子组成20%Lu10%Lm,10%La10%L,10%Gd10%Lu,10%Ga5%Lu,15%Ga10%Lu,10%A110%Ga,10%A1 余辉时间/s 130 9 122 179 259 114.8 288 相对余辉时间/%100 6.9 93.8 137.7 199.2 88.3 221.5 当掺杂离子之一半径较Y3+大时余辉时间即减 1000 少,当均为小半径共掺时(如LGa、Ga一Al)样品余 -0.15Ga0.5Lu -0.10Ga0.10A1 辉时间大为增加,组成为Y1.6Luo.1Ga0.302SSm3+, 100 T,Mg2+Y16Gao.2Alo.2O2S:SmTi,Mg2+ 的样品余辉时间分别达到259s和288s,这与单离 子基质掺杂的结论是一致的, 2.4.3余辉衰减曲线 采用北京师范大学SP一9OOPM微弱光光度计 0.1 100 1000 10000 余辉衰减时间/s 测试基质掺杂5%Lu一15%Ga与10%Ga-10%Al 的样品(均为摩尔分数)的余辉时间(在365nm紫外 图4Y1.6Lu0.1Ga0.302S与Y1.6Ga0.2Alo.202S的样品的余辉衰减 光激发2min后,移去光源,从移走光源至光衰减到 曲线图 肉眼可见程度0.32mcdm-3之间的时间间隔定义 Fig.4 Decay curves of phosphors of Y1.6 Luo.1 Gao.3 O2S and 为余辉时间),结果如图4所示. Y1.6Ga0.2Al0.202S Y1.6Lu.1Ga0.302S:Sm3+,Ti4+,Mg2+、 2.5机理探讨 Y1.6Ga0.2Alo.202SSm3+,Ti4+,Mg2+样品余辉时间 此类长余辉的发光机理可参见文献[9-10].推 分别为2.01h和1.61h,与Hitachi F-4500荧光光 (Y.0.2Rn)2O2S Sm3+,Ti+,Mg2+(Rn=La, 谱仪测试结果相反,根据Ictˉ"(n为双对数图中 Gd,Lu,Ga,Al)可能的能级状态如图5所示. 曲线的斜率)对余辉曲线进行拟合[8]可得,二者的n YS20:Sm3+,Ti,Mg2+体材料的禁带宽度为 值分别等于0.08049和0.10057.可见LGa共掺 4.6eV,余辉性质一般认为是由Ti4+,Mg2+所形成 样品余辉衰减得较Ga一Al共掺的样品略慢,故而可 的缺陷能级(A能级)产生的,大半径离子La3+的 以获得较长的余辉时间. 掺入导致晶胞增大不利于缺陷能级的形成,因而产 生了严重的余辉衰减,半径略大的离子Gd3+产生的

tachi F—4500荧光光谱仪测得的余辉时间(Xe 灯照 射60s‚关闭光源‚从关闭光源到相对光强减弱至 100的时间间隔为余辉时间)‚并以不掺样品的余辉 时间121s 为100%计算其余样品的相对余辉时间‚ 以掺杂离子半径为纵坐标‚以样品的相对余辉时间 和为横坐标‚如图3所示. 图3 单离子掺杂对产物余辉时间的影响图 Fig.3 Effects of semi diameter on the decay time of the samples 作为基质的离子 La 3+、Gd 3+、Y 3+、Lu 3+、Ga 3+ 和 Al 3+‚其离子半径依序减小.掺杂大半径离子 La 3+ (0∙115nm) 的样品余辉性能几近消失.与 Y 3+ (0∙0930nm)半径相近的离子 Gd 3+(0∙0938nm)和 Lu 3+(0∙0848nm)的掺杂均具有较好的余辉性能‚ 半径略大的 Gd 3+掺杂对余辉性能有一定的负作用‚ 而半径较小的 Lu 3+掺杂表现出明显的余辉增强效 果‚余辉时间较 Y2O2S∶Sm 3+‚Ti 4+‚Mg 2+ 提高了 38∙3%.对于半径更小的 Ga 3+ (0∙062nm)、Al 3+ (0∙050nm)的掺杂‚仍然具有一定的余辉性能‚但相 对于未掺杂样品有较大幅度的降低. 2∙4∙2 双离子共掺 选择不同半径的离子组合进行双离子基质共掺 杂‚掺杂总量为20%(摩尔分数)‚以 Y1.6Lu0.4O2S∶ Sm 3+‚Ti 4+‚Mg 2+样品的余辉时间为100%计算相 对余辉时间如表2所示. 表2 双离子共掺对产物余辉时间的影响 Table2 Effects of two-ion-doping on the decay time 基质掺杂离子组成 20%Lu 10%Lu‚10%La 10%Lu‚10%Gd 10%Lu‚10%Ga 5%Lu‚15%Ga 10%Lu‚10%Al 10%Ga‚10%Al 余辉时间/s 130 9 122 179 259 114.8 288 相对余辉时间/% 100 6.9 93.8 137.7 199.2 88.3 221.5 当掺杂离子之一半径较 Y 3+大时余辉时间即减 少‚当均为小半径共掺时(如 Lu—Ga、Ga—Al)样品余 辉时间大为增加‚组成为 Y1.6Lu0.1Ga0.3O2S∶Sm 3+‚ Ti 4+‚Mg 2+、Y1.6Ga0.2Al0.2O2S∶Sm 3+‚Ti 4+‚Mg 2+ 的样品余辉时间分别达到259s 和288s.这与单离 子基质掺杂的结论是一致的. 2∙4∙3 余辉衰减曲线 采用北京师范大学 SP—900PM 微弱光光度计 测试基质掺杂5%Lu—15%Ga 与10%Ga—10%Al 的样品(均为摩尔分数)的余辉时间(在365nm 紫外 光激发2min 后‚移去光源‚从移走光源至光衰减到 肉眼可见程度0∙32mcd·m —3之间的时间间隔定义 为余辉时间)‚结果如图4所示. Y1.6 Lu0.1 Ga0.3 O2S ∶ Sm 3+‚Ti 4+‚Mg 2+、 Y1.6Ga0.2Al0.2O2S∶Sm 3+‚Ti 4+‚Mg 2+样品余辉时间 分别为2∙01h 和1∙61h‚与 Hitachi F—4500荧光光 谱仪测试结果相反.根据 I∝ t — n ( n 为双对数图中 曲线的斜率)对余辉曲线进行拟合[8]可得‚二者的 n 值分别等于0∙08049和0∙10057.可见 Lu—Ga 共掺 样品余辉衰减得较 Ga—Al 共掺的样品略慢‚故而可 以获得较长的余辉时间. 图4 Y1.6Lu0.1Ga0.3O2S 与 Y1.6Ga0.2Al0.2O2S 的样品的余辉衰减 曲线图 Fig.4 Decay curves of phosphors of Y1.6 Lu0.1 Ga0.3 O2S and Y1.6Ga0.2Al0.2O2S 2∙5 机理探讨 此类长余辉的发光机理可参见文献[9—10].推 断(Y‚0∙2Rn)2O2S∶Sm 3+‚Ti 4+‚Mg 2+ (Rn =La‚ Gd‚Lu‚Ga‚Al) 可能的能级状态如图5所示. Y2S2O∶Sm 3+‚Ti 4+‚Mg 2+ 体材料的禁带宽度为 4∙6eV‚余辉性质一般认为是由 Ti 4+、Mg 2+所形成 的缺陷能级(A 能级)产生的.大半径离子 La 3+ 的 掺入导致晶胞增大不利于缺陷能级的形成‚因而产 生了严重的余辉衰减‚半径略大的离子 Gd 3+产生的 第1期 张栌丹等: 基质掺杂离子对(Y‚Rn)2O2S:Sm 3+‚Ti 4+‚Mg 2+(Rn=La‚Gd‚Lu‚Ga‚Al)红色长余辉材料余辉性能的影响 ·51·

.52. 北京科技大学学报 第30卷 余辉衰减相对较小,半径较小的L3+的掺入可以 参考文献 产生较深的能级陷阱(C能级),具有较长的余辉时 [1]Zeng Q X.Li Y C.Feng C G.et al.Progress of the study on 间.当掺入更小半径的A3时,晶格畸变严重,产生 long persistence phosphors.New Chem Mater.2000.28:25 浅陷阱能级(B能级),余辉时间较短,这与Ga一Al (曾庆轩,李咏春,冯长根,等,长余辉发光材料研究进展.化 工新型材料,2000,28.25) 共掺样品所表现的余辉衰减较快一致、另外,由于 [2]Qiu J,Kawasaki M,Tanaka K.Phenomenon and mechanism of Ga3+、A3+的半径甚至比Ti+(0.068nm)和Mg2+ long lasting phosphorescence in Eu-doped aluminosilicate glass. (0.065nm)的半径还小,可能影响Ti4+、Mg2+的掺 J Phys Chem Solids.1998,59:1521 入,不利于陷阱能级的产生, [3]Yang Z P.Guo Z.Wang W J.et al.Synthesis of Y202S:Eu Mg2.Ti red phosphor by flux fusion Method and its charac- 激发态 teristic.Chin J Lumin.2004.25:183 B能级 (杨志平,郭智,王文杰,等.Y202sEm3+,Mg2+,Ti什红色材 ·A能级 C能级 料的制备和长余辉性能.发光学报,2004,25:183) [4]Song C Y,Wang X H.Liu Y L.et al.Synthesis of the new or- 基态 angered long afterglow phosphor Gd2o2:Sm.Chemistry. 2004(5):373 5 (Y.0.2Rn)202S :Sm3+,Ti,Mg2+(Rn=La,Gd.Lu.Ga. (宋春燕,王晓华,刘应亮,等。新型橙红色长余辉发光材料 AI)能级状态图 Gd202sSm3+的合成,化学通报,2004(5):373) Fig-5 Energy trap of (Y.0.2Rn)202S :Sm3,Ti+,Mg2+(Rn= [5]Lo C L.Duh JG.Chiou B S.Synthesis of Eu2+-activated yttri- La,Gd,Lu.Ga.Al) um oxysulfide red phosphor by flux fusion method.J Mater Chem Ph8,2001,71:179 3结论 [6]Murazaki Y,Arak K,Ichinomiya K.A new long persistence red phosphor.Rare Earths Jpn:1999.35:41 采用高温固相法制备了基质摻杂的(Y, [7]Lei B F.Liu Y L.Tang G B.Spectra and long lasting properties Rn)202SSm3+(Rn=La,Gd,Lu,Ga,Al)红色长 of Sm3+-doped yttrium oxysulfide phosphor.I Mater Chem 余辉材料,掺杂离子半径是影响产品余辉性能的重 Phs,2004,87.227 要因素:小半径离子的掺杂有利于余辉性能的提高, [8]Kodama N.Sasaki N.Yamaga M.et al.Long lasting phospho 单离子掺杂时半径略小的L3+具有一定的余辉延 rescence of Eu in melilite.JLumin,2001.19:94 [9]Liu Y L,Ding H.Research developments of long lasting phos 长作用:双离子共掺二者半径均小时具有显著的余 phorescent materials.Chin J Inorg Chem.2001,17:181 辉增强作用.LGa共掺样品(Y1.6Lu0.1Ga0.302S: (刘应亮,丁红,长余辉发光材料研究进展.无机化学学报, Sm3+,Ti4+,Mg2+)余辉时间可达2.01h,Ga一Al共 2001,17:181) 掺样品(Y1.6Ga0.2Al.202SSm3+,Ti+,Mg2+)余辉 [10]Yuan S L.Yang Y X.XuZZ.et al.Effect of Dopants on long afterglow properties of Y202Si Eu phosphor and its long after 时间为1.61h,在余辉性能降低不大的情况下,摩 glow mechanism.JInorg Mater.2004.19:525 尔分数10%的A1掺入可显著降低产物的成本,具 (袁双龙,杨云霞,徐志珍,等.掺杂对Y202sEu长余辉特性 有一定的经济效益, 的影响及长余辉发光机理.无机材料学报,2004,19:525)

余辉衰减相对较小.半径较小的 Lu 3+ 的掺入可以 产生较深的能级陷阱(C 能级)‚具有较长的余辉时 间.当掺入更小半径的 Al 3+时‚晶格畸变严重‚产生 浅陷阱能级(B 能级)‚余辉时间较短‚这与 Ga—Al 共掺样品所表现的余辉衰减较快一致.另外‚由于 Ga 3+、Al 3+的半径甚至比 Ti 4+(0∙068nm)和 Mg 2+ (0∙065nm)的半径还小‚可能影响 Ti 4+、Mg 2+的掺 入‚不利于陷阱能级的产生. 图5 (Y‚0∙2Rn)2O2S∶Sm 3+‚Ti 4+‚Mg 2+(Rn=La‚Gd‚Lu‚Ga‚ Al)能级状态图 Fig.5 Energy trap of (Y‚0∙2Rn)2O2S∶Sm 3+‚Ti 4+‚Mg 2+(Rn= La‚Gd‚Lu‚Ga‚Al) 3 结论 采用 高 温 固 相 法 制 备 了 基 质 掺 杂 的 (Y‚ Rn)2O2S∶Sm 3+(Rn=La‚Gd‚Lu‚Ga‚Al)红色长 余辉材料‚掺杂离子半径是影响产品余辉性能的重 要因素:小半径离子的掺杂有利于余辉性能的提高. 单离子掺杂时半径略小的 Lu 3+具有一定的余辉延 长作用;双离子共掺二者半径均小时具有显著的余 辉增强作用.Lu—Ga 共掺样品(Y1∙6Lu0.1Ga0.3O2S∶ Sm 3+‚Ti 4+‚Mg 2+)余辉时间可达2∙01h‚Ga—Al 共 掺样品(Y1.6Ga0.2Al0.2O2S∶Sm 3+‚Ti 4+‚Mg 2+)余辉 时间为1∙61h.在余辉性能降低不大的情况下‚摩 尔分数10%的 Al 掺入可显著降低产物的成本‚具 有一定的经济效益. 参 考 文 献 [1] Zeng Q X‚Li Y C‚Feng C G‚et al.Progress of the study on long persistence phosphors.New Chem Mater‚2000‚28:25 (曾庆轩‚李咏春‚冯长根‚等.长余辉发光材料研究进展.化 工新型材料‚2000‚28:25) [2] Qiu J‚Kawasaki M‚Tanaka K.Phenomenon and mechanism of long-lasting phosphorescence in Eu 2+-doped aluminosilicate glass. J Phys Chem Solids‚1998‚59:1521 [3] Yang Z P‚Guo Z‚Wang W J‚et al.Synthesis of Y2O2S∶Eu 3+‚ Mg 2+‚Ti 4+ red phosphor by flux fusion Method and its charac￾teristic.Chin J L umin‚2004‚25:183 (杨志平‚郭智‚王文杰‚等.Y2O2S∶Eu 3+‚Mg 2+‚Ti 4+红色材 料的制备和长余辉性能.发光学报‚2004‚25:183) [4] Song C Y‚Wang X H‚Liu Y L‚et al.Synthesis of the new or￾ange-red long afterglow phosphor Gd2O2S∶Sm 3+. Chemistry‚ 2004(5):373 (宋春燕‚王晓华‚刘应亮‚等.新型橙红色长余辉发光材料 Gd2O2S∶Sm 3+的合成.化学通报‚2004(5):373) [5] Lo C L‚Duh J G‚Chiou B S.Synthesis of Eu 2+-activated yttri￾um oxysulfide red phosphor by flux fusion method.J Mater Chem Phys‚2001‚71:179 [6] Murazaki Y‚Arak K‚Ichinomiya K.A new long persistence red phosphor.Rare Earths Jpn‚1999‚35:41 [7] Lei B F‚Liu Y L‚Tang G B.Spectra and long-lasting properties of Sm 3+-doped yttrium oxysulfide phosphor. J Mater Chem Phys‚2004‚87:227 [8] Kodama N‚Sasaki N‚Yamaga M‚et al.Long-lasting phospho￾rescence of Eu 2+ in melilite.J L umin‚2001‚19:94 [9] Liu Y L‚Ding H.Research developments of long lasting phos￾phorescent materials.Chin J Inorg Chem‚2001‚17:181 (刘应亮‚丁红.长余辉发光材料研究进展.无机化学学报‚ 2001‚17:181) [10] Yuan S L‚Yang Y X‚Xu Z Z‚et al.Effect of Dopants on long afterglow properties of Y2O2S∶Eu phosphor and its long after￾glow mechanism.J Inorg Mater‚2004‚19:525 (袁双龙‚杨云霞‚徐志珍‚等.掺杂对 Y2O2S∶Eu 长余辉特性 的影响及长余辉发光机理.无机材料学报‚2004‚19:525) ·52· 北 京 科 技 大 学 学 报 第30卷

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