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中国科学技术大学:《束流光学》课程教学资源(PPT课件讲稿)第四章 非轴对称电子光学器件

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• 有关像差的基本概念 • 4.1 偏转系统 • 4.2 四极透镜 • 4.3 静电柱面透镜
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第4章非轴对称电子光学器件 ·有关像差的基本概念 ·4.1偏转系统 ·4.2四极透镜 ·4.3静电柱面透镜 2

2 第4章 非轴对称电子光学器件 • 有关像差的基本概念 • 4.1 偏转系统 • 4.2 四极透镜 • 4.3 静电柱面透镜

回顾 轴对称透镜静电透镜 圆孔 浸没 浸没 类别: 膜片 透镜 及变种,如)单透镜(及变种,如)物镜 结构: 可能的 1 轴上 场分布 等 等

3 回顾

回顾 轴对称透镜磁透镜 类别: 长磁透镜 空心线圈透镜短磁透镜强短磁透镜永磁透镜 结构: 铁 可能的 轴上 场分布 B.(

4 回顾

轴对称透镜 回顾 径向轨迹方程 ('+子(W+2B)r=0 2m 在电子光学中,对于静电透镜(B.=0),则有 六≈为: f。=VVf fi=Vif" 在静电透镜中定义函数R(),R=Vr“简正焦距”F =0长a: 而对于磁透镜(设V=常数),则有 子≈Q:=8Bd:。=f=f=Wf 然后根据轴对称透镜的电磁场分布求的其焦距

5 回顾 然后根据轴对称透镜的电磁场分布求的其焦距

有关像差的基本概念(简单介绍) 前两章介绍了高斯轨迹方程和满足此类方程的粒子轨迹的 “理想”成像特性,结果堪称美妙.但实际生活往往与理想存在差 3.1像差概述此种差异. 像差即指任何不满足理想成像条件的因素造成的差异,或曰 实际轨迹与高斯轨迹的差异.此词亦来自光学,特指成像时“光线” (轨迹)与像平面的交点和高斯像点之差.显然,此种差异可能造 成:图像模糊— 这种交点不是一点,而是在理想像点四周均布的 许多点,又称分辨率下降;形状失真—许多交点向同一方向偏离 理想像点,又称畸变 按原因分,像差(Aberrations)可分为5类,下面依次列出各 类的中英文名称、所不满足的基本假设和可能的造成该种像差“凸 显”的直接原因:

6 有关像差的基本概念(简单介绍)

(1)几何像差(Geometric Aberration):不满足小量假设或旁 轴条件,运动方程有高阶项一 可能束流截面尺寸较大, (2)色差(Chromatism):不满足与纵向运动无耦合的假设 电子初始动量有明显不同(或加速电压波动)」 (3)机械误差(Mechanic Error):不满足“理想场”假设 可能因制造、安装误差或外场干扰 (4)空间电荷误差(Space Charge Effect):不满足“单粒子” 假设,束流电子间有相互作用—可能电流密度较大 (5)衍射像差(Diffraction):不满足非波动性假设,电子固有 其波动性 可能因图像像素或膜孔孔径甚小 各类像差在一定条件下可以忽略,有些则可以克服.但多数像 差只能设法减少或加以补偿,不能完全消除,因为其“原因”是人力 无法消灭的客观存在.实测到的像差常是不止一类像差的综合表 现.在某些条件下,一类或少数像差可能凸显出来,成为“主要矛 盾”或“元凶首恶”.设计电子光学系统时,应有针对性地加以抑制 或补偿.像差大小是判断系统设计制造优劣得失的一个重要指标, 像差及如何对付的问题是电子光学深入研究的前沿课题之一】

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第4章非轴对称电子光学器件 第4章和第5章将研究以其他方式不同于轴对称场高斯轨迹 的电子运动 本章介绍的几种电子光学器件产生的电磁场不是轴对称的, 但一般有平面对称.很自然地,本章采用直角坐标系,仍以之轴为 “前进方向”,以x,y轴分别指向水平、垂直(或任意的)两个横向 设其中至少一个轴与之轴共同确定的平面是场的对称面.这种平 面对称型的场及适用的坐标系将在束流传输理论部分再仔细讨 论.好在直角坐标系是一种最简单、直观的坐标系,下文谈到的场 型仍各有“理想的”简化模型,故处理起来并无困难.一般而言,描 述平面对称型场,只有场的沿轴分布(如轴上电位及对之的各阶微 商)是不够的,至少还需要场对一个横向(x或y)的微商的沿轴分 布,后者仍在植上,例如兴 ,仅是之的函数;而场在另一横 t.V 向上的变化率由拉普拉斯方程和对称条件限定

8 第4章 非轴对称电子光学器件

4.1偏转系统 本节新谈的偏转系统与束流传输理论中将重点介绍的“弯转” 有所不同,在某种意义上属于轴对称电子光学系统的“附属系统”, 目的在于使束流在一个不大的范围内被偏移,以进行扫描或形成 图像,其最大偏转角很有限.故称为偏转,意指其具有“有限性”和 某种“临时性”.所以,本节中仍将之轴固定在该偏转系统“不工作” 时的理想粒子直线前进方向,于是x,y坐标随之的变化(即轨迹) 就描述了偏转的效果—】 此时它们并非“不理想”程度的标志.这 当然不同于束流传输中粒子理想轨道“弯转”,坐标系随之的情况 此种偏转的功能容易想像.在示波管、显像管、扫描电子显微 镜以及许多束流加工装置和粒子加速器的应用中,临时但要准确、 高质量的束流偏转举足轻重,不可或缺。 9 示波管

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显橡管原理示意图 电子枪 ✉☒E名 电子束 0 荧光屏 偏转线圈 行偏转线圈 偏转线圈是套在显像管 磁环 场偏转线园 颈部的部件,偏转线圈分为 中心调节环 行偏转线圈和场偏转线圈。 行偏转线圈产生的磁 场是垂直的,使显像管内的 电子束作水平方向偏转,把 线圈分为上下两部分,如图 (b)所示,其目的是为了获 得比较均匀的磁场。 场偏转线圈也分为两 ( (b) 个绕组,它们分别绕在铁氧 体磁环的左右两侧。如图(c) 所示。场偏转线圈产生水平 方向的磁场,使电子束作垂 直方向偏转。 行偏转线圈 场偏转线圈 e) (d) 10

10 偏转线圈是套在显像管 颈部的部件,偏转线圈分为 行偏转线圈和场偏转线圈。 行偏转线圈产生的磁 场是垂直的,使显像管内的 电子束作水平方向偏转,把 线圈分为上下两部分,如图 (b)所示,其目的是为了获 得比较均匀的磁场。 场偏转线圈也分为两 个绕组,它们分别绕在铁氧 体磁环的左右两侧。如图(c) 所示。场偏转线圈产生水平 方向的磁场,使电子束作垂 直方向偏转

定义“屏上”偏转位移量与偏转信号之比为偏转灵敏度.所 谓“好”的偏转系统,应该:偏转灵敏度较高,不用太强的信号即可 得到足够的位移:k与信号大小无关,此称为良好的偏转线性:k与 轨迹初始条件无关,故聚焦情况即“光斑”的形状大小不随偏转量 变化.后两项要求若未予满足,将分别造成偏转畸变(偏转线性不 良)或偏转散焦,二者统称为偏转像差.其分类与研究手段和前一 章相仿,本节略加讨论.其存在一般不可避免,“好”的偏转系统只 要求它足够小 示波管 11

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