电子无源充件工艺实验 电子学院 2020
电子无源元件工艺实验 电子学院 2020
课程目的 米 为了满足不同本科教育背景的研究生对材料科学实验操作 的要求,通过电子束蒸发镀膜实验、光刻实验,使学生掌 握基片清洗、金属蒸发、光刻胶涂覆、金属图形刻蚀等实 验过程,使学生掌握电子薄膜实验的基本技能,为研究生 期间的科学研究打下较好的实验基础。根据课程的实际内 容,加入适量的思政元素,积极引导当代学生树立正确的 国家观、民族观、历史观、文化观,从而为社会培养更多 德智体美劳全面发展的人才,为中国特色社会主义事业培 养合格的建设者和可靠的接班人
课程目的 为了满足不同本科教育背景的研究生对材料科学实验操作 的要求,通过电子束蒸发镀膜实验、光刻实验,使学生掌 握基片清洗、金属蒸发、光刻胶涂覆、金属图形刻蚀等实 验过程,使学生掌握电子薄膜实验的基本技能,为研究生 期间的科学研究打下较好的实验基础。根据课程的实际内 容,加入适量的思政元素,积极引导当代学生树立正确的 国家观、民族观、历史观、文化观,从而为社会培养更多 德智体美劳全面发展的人才,为中国特色社会主义事业培 养合格的建设者和可靠的接班人
第一部分 电子束蒸发镀膜实验
第一部分 电子束蒸发镀膜实验
真空蒸发镀膜法:将固体材料置于高真空环境中加热,使之升华或蒸发 并沉积在特定衬底上以获得薄膜的工艺方法 技术分类:依据蒸发源的不同 电阻热蒸发 电子束蒸发 真空蒸发技术 高频感应蒸发 激光束蒸发 反应蒸发
*简单的蒸发系统 00000 载片盘 蒸发金属 坩锅 工艺腔(钟罩) 高真空阀 机械泵 高真空泵
简单的蒸发系统
(1)电阻加热法 原理:让大电流通过蒸发源, 加热待镀材料,使其蒸发的 方法。 对蒸发源材料的基本要求是: 高熔点,低蒸气压,在蒸发 A:O,涂层 温度下不会与膜料发生化学 反应或互溶,具有一定的机 械强度,且高温冷却后脆性 小等。 常用钨、钼、钽等高熔点金 电阻加热蒸发源 属材料
常用蒸发源 900000 加热丝 加热舟 008 坩埚 盒状源(Knudsen Cell)
(2)电子束热蒸发 电子束蒸发:将蒸发材料置于水冷坩埚中,利用电子束直接加热使蒸 发材料汽化并在衬底上凝结形成薄膜 蒸度高熔点薄膜和高纯薄膜的一种主要加热方法 电子枪由电子束聚焦方式的不同分类: 直式电子枪 环枪(电偏转) e形枪(磁偏转)
(2)电子束热蒸发
灯凳 直枪结构示意图(叶志镇2008) 材辰 聚双极 优点:使用方便 阳极 功率变化范围广 聚生线周 易于调节 x输偏转线圈 蒸气流 缺点:设备体积大 y柏偏转浅据 结构复杂 理聘 成本高 易污染 环形枪结构示意图(叶志镇2008) 塞板 优点:不易污染 功率大 灯丝 可蒸发高熔点材料 阴极圈 成膜质量较好 缺点:要求高真空设备成本高 0-15kV 屏极圈 底板 易污染斑点固定易“挖坑” 阳极(圳埚) 功率和效率都不高 冷却水
电子束 坩埚 聚焦极 灯丝 Z☑ 10kV 0500V 阳极 偏转磁场 e形枪结构示意图(叶志镇2008) 电子束蒸发特点: 优点:直接加热,效率高 优点:不易污染 功率大 能量密度大,蒸发高熔点材料 冷坩埚,避免反应和蒸发, 可蒸发高熔点材料成膜质量较好 提高薄膜纯度 缺点:要求高真空 缺点:装置复杂 残余气体和部分蒸气电离 设备成本高 对薄膜性能产生影响