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伪半固态触变成形制备SiCp/Al电子封装材料的组织与性能

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采用伪半固态触变成形工艺制备了40%、56%和63%三种不同SiC体积分数颗粒增强Al基电子封装材料,并借助光学显微镜和扫描电镜分析了材料中Al和SiC的形态分布及其断口形貌,测定了材料的密度、致密度、热导率、热膨胀系数、抗压强度和抗弯强度.结果表明,通过伪半固态触变成形工艺可制备出的不同SiC体积分数Al基电子封装材料,其致密度高,热膨胀系数可控,材料中Al基体相互连接构成网状,SiC颗粒均匀镶嵌分布于Al基体中.随着SiC颗粒体积分数的增加,电子封装材料密度和室温下的热导率稍有增加,热膨胀系数逐渐减小,室温下的抗压强度和抗弯强度逐渐增加.SiC/Al电子封装材料的断裂方式为SiC的脆性断裂,同时伴随着Al基体的韧性断裂.
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第36卷第4期 北京科技大学学报 Vol.36 No.4 2014年4月 Journal of University of Science and Technology Beijing Apr.2014 伪半固态触变成形制备SiCp/Al电子封装材料的组织 与性能 郭明海,刘俊友”,贾成厂”,果世驹”,李艳霞》,周洪宇 1)北京科技大学材料科学与工程学院,北京1000832)北华航天工业学院材料系,廊坊065000 ☒通信作者,E-mail:qifeng_guo(@126.com 摘要采用伪半固态触变成形工艺制备了40%、56%和63%三种不同SiC体积分数颗粒增强A1基电子封装材料,并借助 光学显微镜和扫描电镜分析了材料中A!和Si汇的形态分布及其断口形貌,测定了材料的密度、致密度、热导率、热膨胀系数、 抗压强度和抗弯强度.结果表明,通过伪半固态触变成形工艺可制备出的不同SC体积分数A!基电子封装材料,其致密度 高,热膨胀系数可控,材料中A1基体相互连接构成网状,SC颗粒均匀镶嵌分布于A1基体中.随着SC颗粒体积分数的增加, 电子封装材料密度和室温下的热导率稍有增加,热膨胀系数逐渐减小,室温下的抗压强度和抗弯强度逐渐增加.SC/A1电子 封装材料的断裂方式为SiC的脆性断裂,同时伴随着A!基体的韧性断裂. 关键词电子封装;颗粒增强复合材料:触变成形;热导率;热膨胀:材料强度 分类号TN405 Microstructure and properties of SiCp/Al electronic packaging materials fabricated by pseudo-semi-solid thixoforming GUO Ming-hai,LIU Jun-you,JIA Cheng-chang",GUO Shi-ju,LI Yan-xia,ZHOU Hong-yu) 1)School of Materials Science and Engineering,University of Science and Technology Beijing,Beijing 100083,China 2)Department of Materials,North China Institute of Aerospace Engineering,Langfang 065000,China Corresponding author,E-mail:qifeng_guo@126.com ABSTRACT SiC particles reinforced Al matrix composites with three different SiC volume fractions of 40%,56%and 63%for elec- tronic packaging were prepared by pseudo-semi-solid thixoforming.The Al and SiC distribution and the fractographs of the SiCp/Al electronic packaging materials were examined by optical microscopy and scanning electron microscopy.The density,relative density, thermal conductivity (TC),coefficient of thermal expansion (CTE),compressive strength and bending strength of the SiCp/Al elec- tronic packaging materials were tested.It is found that the SiCp/Al electronic packaging materials have controllable coefficients of ther- mal expansion and high relative density.The Al matrix is connected into a network,and SiC particles are uniformly distributed in the Al matrix.When the SiC volume fraction increases,the density and thermal conductivity at room temperature lightly increase,the coef- ficient of thermal expansion gradually decreases,and the compressive strength and bending strength increase.The main fracture mode of the SiC/Al electronic packaging materials is brittle fracture of SiC particles accompanied by ductile fracture of the Al matrix at the same time. KEY WORDS electronic packaging:particle reinforced composites:thixoforming:thermal conductivity:thermal expansion:strength of materials 半导体集成电路的速度和集成度提高,导致芯元件的失效率与其工作温度呈指数关系,功能则与 片发热率增加,电路工作温度上升.实验证明,单个 其成反比口,因而如何提高芯片的散热效率,使得 收稿日期:201304-一17 DOI:10.13374/j.issn1001-053x.2014.04.011:http:/jourals.ustb.edu.cn

第 36 卷 第 4 期 2014 年 4 月 北京科技大学学报 Journal of University of Science and Technology Beijing Vol. 36 No. 4 Apr. 2014 伪半固态触变成形制备 SiCp /Al 电子封装材料的组织 与性能 郭明海1) ,刘俊友1) ,贾成厂1) ,果世驹1) ,李艳霞2) ,周洪宇1) 1) 北京科技大学材料科学与工程学院,北京 100083 2) 北华航天工业学院材料系,廊坊 065000  通信作者,E-mail: qifeng_guo@ 126. com 摘 要 采用伪半固态触变成形工艺制备了 40% 、56% 和 63% 三种不同 SiC 体积分数颗粒增强 Al 基电子封装材料,并借助 光学显微镜和扫描电镜分析了材料中 Al 和 SiC 的形态分布及其断口形貌,测定了材料的密度、致密度、热导率、热膨胀系数、 抗压强度和抗弯强度. 结果表明,通过伪半固态触变成形工艺可制备出的不同 SiC 体积分数 Al 基电子封装材料,其致密度 高,热膨胀系数可控,材料中 Al 基体相互连接构成网状,SiC 颗粒均匀镶嵌分布于 Al 基体中. 随着 SiC 颗粒体积分数的增加, 电子封装材料密度和室温下的热导率稍有增加,热膨胀系数逐渐减小,室温下的抗压强度和抗弯强度逐渐增加. SiC/Al 电子 封装材料的断裂方式为 SiC 的脆性断裂,同时伴随着 Al 基体的韧性断裂. 关键词 电子封装; 颗粒增强复合材料; 触变成形; 热导率; 热膨胀; 材料强度 分类号 TN405 Microstructure and properties of SiCp /Al electronic packaging materials fabricated by pseudo-semi-solid thixoforming GUO Ming-hai 1)  ,LIU Jun-you1) ,JIA Cheng-chang1) ,GUO Shi-ju1) ,LI Yan-xia2) ,ZHOU Hong-yu1) 1) School of Materials Science and Engineering,University of Science and Technology Beijing,Beijing 100083,China 2) Department of Materials,North China Institute of Aerospace Engineering,Langfang 065000,China  Corresponding author,E-mail: qifeng_guo@ 126. com ABSTRACT SiC particles reinforced Al matrix composites with three different SiC volume fractions of 40% ,56% and 63% for elec￾tronic packaging were prepared by pseudo-semi-solid thixoforming. The Al and SiC distribution and the fractographs of the SiCp /Al electronic packaging materials were examined by optical microscopy and scanning electron microscopy. The density,relative density, thermal conductivity ( TC) ,coefficient of thermal expansion ( CTE) ,compressive strength and bending strength of the SiCp /Al elec￾tronic packaging materials were tested. It is found that the SiCp /Al electronic packaging materials have controllable coefficients of ther￾mal expansion and high relative density. The Al matrix is connected into a network,and SiC particles are uniformly distributed in the Al matrix. When the SiC volume fraction increases,the density and thermal conductivity at room temperature lightly increase,the coef￾ficient of thermal expansion gradually decreases,and the compressive strength and bending strength increase. The main fracture mode of the SiC/Al electronic packaging materials is brittle fracture of SiC particles accompanied by ductile fracture of the Al matrix at the same time. KEY WORDS electronic packaging; particle reinforced composites; thixoforming; thermal conductivity; thermal expansion; strength of materials 收稿日期: 2013--04--17 DOI: 10. 13374 /j. issn1001--053x. 2014. 04. 011; http: / /journals. ustb. edu. cn 半导体集成电路的速度和集成度提高,导致芯 片发热率增加,电路工作温度上升. 实验证明,单个 元件的失效率与其工作温度呈指数关系,功能则与 其成反比[1],因而如何提高芯片的散热效率,使得

·490· 北京科技大学学报 第36卷 电路在正常温度下工作就显得尤为重要.与此同 法.其成形理论为:当处于液、固两相共存的混合体 时,电子封装也正不断向小型化、高性能、高可靠性 系受到外力作用时,材料内部的液相和固相就会出 和低成本方向发展,封装对系统性能的影响已变得 现分别流动,一般液相流动的倾向大于固相:当外力 和芯片同等重要,从而引起与之相匹配的电子封装 增加到一定程度时,液相就会加剧流动,导致液、固 材料的飞速发展 两相产生分离,液相从固相颗粒的间隙中压出,流向 作为一种理想的电子封装材料,必须满足以下 无约束的自由表面,而固相颗粒则发生聚集) 几个基本要求回:一是材料的导热性能要好,能够 运用此法来制备SiC颗粒增强A!基电子封装 将半导体芯片在工作时所产生的热量及时地散发出 材料具有以下优势:(1)通过控制SiC的体积分数 去;二是材料的热膨胀系数(CTE)要与Si或GaAs 可调整电子封装材料的热膨胀系数.改变滤液槽的 等芯片相匹配,以避免芯片的热应力损坏:三是材料 大小可控制电子封装材料中SC的体积分数,从而 要有足够的强度和刚度,对芯片起到支承和保护的 得到不同热膨胀系数的电子封装材料,也即通过此 作用:四是材料的成本要尽可能低,以满足大规模商 法可调整电子封装材料的热膨胀系数:(2)可得到 业化应用的要求.在某些特殊的场合,还要求材料 高SiC体积分数和高致密度的电子封装材料.SiC 的密度尽可能地小(主要是指航空航天设备和移动 颗粒的体积分数通过伪半固态挤压触变,可达 计算/通信设备),或者要求材料具有电磁屏蔽和射 63%~75%,其体积分数和复合材料的致密度都超 频屏蔽的特性. 过了粉末治金:(3)可实现产品的净成形或近净 传统的电子封装材料,如Kovar合金(Fe-Ni-Co 成形. 合金)、Invar合金(Fe-Ni合金)、WICu合金等由于 成本高、密度大等缺点已不能满足发展要求B,从 1实验材料 而出现了各种新型的电子封装材料,如A1/Si电子 实验材料为SiC颗粒增强A!基复合材料冷压 封装材料B-和A1/SiC电子封装材料m.其中A1/ 坯.其中SiC颗粒(其化学成分如表1)体积分数为 SiC电子封装材料结合了A1基体的低密度、高导热 30%,平均粒度为47μm;基体材料采用平均粒度为 性及SC的低膨胀、高强度性,具有轻质、高导热、低 64m纯工业铝粉,牌号A99.70A,其化学成分 热膨胀以及高比强度、比刚度、弹性模量等性能优 列于表2. 点,而且可通过SiC体积分数来调整膨胀系数,实现 表1SiC颗粒化学成分(质量分数) 与GaAs芯片和氧化铝基板的热匹配,可近净成形 Table 1 Chemical composition of SiC particles % 形状复杂的构件,因此生产成本也较低,使其在微波 SiC Fe 游离Si 0 Ca 集成电路、功率模块和微处器盖板及散热板等领域 得到广泛应用 97.25 <1.18 <0.98 <0.33 <0.26 A/SiC作为第三代电子封装材料回,常用来制 表2基体材料的化学成分(质量分数) 备其方法的有粉末治金法(PM)、无压或挤压浸渗 Table 2 Chemical composition of the matrix material% 法、喷射沉积法、搅拌混合技术等.但是,目前这些 Al Fe Cu 制备方法生产AI/SiC电子封装材料存在一系列问 99.81 0.1071 0.0702 0.0005 题:粉末治金法工艺程序多、周期长、制件的大小和 形状受到一定限制且致密度低:浸渗法所需设备复 2 实验方法 杂、成本较高且所制材料的残余应力也较大、孔隙率 也较高:喷射沉积技术所需设备昂贵、孔隙率高、原 首先,采用粉末治金的方法将体积分数30% 材料损失大等缺陷;搅拌混合技术SC增强颗粒的 SiC颗粒和70%A!粉进行机械混粉,后经冷压制坯 体积分数受到限制,一般不超过20%.本文首次采 (见图1)和高温烧结、伪半固态触变成形等工序制 用伪半固态触变成形法制备SiCp/Al电子封装材 成不同SiC体积分数A山基电子封装材料(直径 料,利用伪半固态金属触变时液固易分离的特点,开 50mm圆饼).其中,在冷压制坯阶段,为了将铝粉表 发了一种新型短流程、易操控且低成本的材料制备 面的氧化膜充分破碎,建立粉末间的塑性粘接和原 工艺,并制备出三种不同SiC体积分数A1基电子封 子扩散结合,并获得较高的致密度以阻止后续加热 装材料 过程中坯料的内部氧化,采用195MPa较高的压制 伪半固态触变成形法是一种新型的材料成形方 压强:烧结阶段,为了使冷压坯料加热均匀,采用

北 京 科 技 大 学 学 报 第 36 卷 电路在正常温度下工作就显得尤为重要. 与此同 时,电子封装也正不断向小型化、高性能、高可靠性 和低成本方向发展,封装对系统性能的影响已变得 和芯片同等重要,从而引起与之相匹配的电子封装 材料的飞速发展. 作为一种理想的电子封装材料,必须满足以下 几个基本要求[2]: 一是材料的导热性能要好,能够 将半导体芯片在工作时所产生的热量及时地散发出 去; 二是材料的热膨胀系数( CTE) 要与 Si 或 GaAs 等芯片相匹配,以避免芯片的热应力损坏; 三是材料 要有足够的强度和刚度,对芯片起到支承和保护的 作用; 四是材料的成本要尽可能低,以满足大规模商 业化应用的要求. 在某些特殊的场合,还要求材料 的密度尽可能地小( 主要是指航空航天设备和移动 计算/通信设备) ,或者要求材料具有电磁屏蔽和射 频屏蔽的特性. 传统的电子封装材料,如 Kovar 合金( Fe--Ni--Co 合金) 、Invar 合金( Fe--Ni 合金) 、W/Cu 合金等由于 成本高、密度大等缺点已不能满足发展要求[3--4],从 而出现了各种新型的电子封装材料,如 Al /Si 电子 封装材料[5--6]和 Al /SiC 电子封装材料[7]. 其中 Al / SiC 电子封装材料结合了 Al 基体的低密度、高导热 性及 SiC 的低膨胀、高强度性,具有轻质、高导热、低 热膨胀以及高比强度、比刚度、弹性模量等性能优 点,而且可通过 SiC 体积分数来调整膨胀系数,实现 与 GaAs 芯片和氧化铝基板的热匹配,可近净成形 形状复杂的构件,因此生产成本也较低,使其在微波 集成电路、功率模块和微处器盖板及散热板等领域 得到广泛应用[8--11]. Al /SiC 作为第三代电子封装材料[12],常用来制 备其方法的有粉末冶金法( PM) 、无压或挤压浸渗 法、喷射沉积法、搅拌混合技术等. 但是,目前这些 制备方法生产 Al /SiC 电子封装材料存在一系列问 题: 粉末冶金法工艺程序多、周期长、制件的大小和 形状受到一定限制且致密度低; 浸渗法所需设备复 杂、成本较高且所制材料的残余应力也较大、孔隙率 也较高; 喷射沉积技术所需设备昂贵、孔隙率高、原 材料损失大等缺陷; 搅拌混合技术 SiC 增强颗粒的 体积分数受到限制,一般不超过 20% . 本文首次采 用伪半固态触变成形法制备 SiCp /Al 电子封装材 料,利用伪半固态金属触变时液固易分离的特点,开 发了一种新型短流程、易操控且低成本的材料制备 工艺,并制备出三种不同 SiC 体积分数 Al 基电子封 装材料. 伪半固态触变成形法是一种新型的材料成形方 法. 其成形理论为: 当处于液、固两相共存的混合体 系受到外力作用时,材料内部的液相和固相就会出 现分别流动,一般液相流动的倾向大于固相; 当外力 增加到一定程度时,液相就会加剧流动,导致液、固 两相产生分离,液相从固相颗粒的间隙中压出,流向 无约束的自由表面,而固相颗粒则发生聚集[13]. 运用此法来制备 SiC 颗粒增强 Al 基电子封装 材料具有以下优势: ( 1) 通过控制 SiC 的体积分数 可调整电子封装材料的热膨胀系数. 改变滤液槽的 大小可控制电子封装材料中 SiC 的体积分数,从而 得到不同热膨胀系数的电子封装材料,也即通过此 法可调整电子封装材料的热膨胀系数; ( 2) 可得到 高 SiC 体积分数和高致密度的电子封装材料. SiC 颗粒的体积分数通过伪半固态挤压触变,可 达 63% ~ 75% ,其体积分数和复合材料的致密度都超 过了粉末冶金; ( 3) 可实现产品的净成形或近净 成形. 1 实验材料 实验材料为 SiC 颗粒增强 Al 基复合材料冷压 坯. 其中 SiC 颗粒( 其化学成分如表 1) 体积分数为 30% ,平均粒度为 47 μm; 基体材料采用平均粒度为 64 μm 纯工业铝粉,牌号 Al99. 70A[14],其化学成分 列于表 2. 表 1 SiC 颗粒化学成分( 质量分数) Table 1 Chemical composition of SiC particles % SiC Fe 游离 Si O Ca 97. 25 < 1. 18 < 0. 98 < 0. 33 < 0. 26 表 2 基体材料的化学成分( 质量分数) Table 2 Chemical composition of the matrix material % Al Fe Si Cu 99. 81 0. 1071 0. 0702 0. 0005 2 实验方法 首先,采用粉末冶金的方法将体积分数 30% SiC 颗粒和 70% Al 粉进行机械混粉,后经冷压制坯 ( 见图 1) 和高温烧结、伪半固态触变成形等工序制 成不同 SiC 体 积 分 数 Al 基 电 子 封 装 材 料 ( 直 径 50 mm圆饼) . 其中,在冷压制坯阶段,为了将铝粉表 面的氧化膜充分破碎,建立粉末间的塑性粘接和原 子扩散结合,并获得较高的致密度以阻止后续加热 过程中坯料的内部氧化,采用 195 MPa 较高的压制 压强; 烧结阶段,为了使冷压坯料加热均匀,采用 ·490·

第4期 郭明海等:伪半固态触变成形制备SCp/A!电子封装材料的组织与性能 ·491· 450℃,10min+600℃,1h的烧结方式;伪半固态 为2.5℃·min-1.JR-3激光导热仪测定室温下的热 触变成形在自制的模具系统及压力机下进行,成形 导率(TC),试样尺寸中10mm×4mm.复合材料的 时坯料的温度为760℃,压强125MPa,其成形原理 密度用Archimedes排水法原理测定,抗压强度在 示意见图2.冷压坯质量不变,通过改变滤液槽的大 HS-3001B试验机上测定,试样尺寸5mm× 小,可得到不同SiC体积分数Al基电子封装材料. 15mm,抗弯强度采用三点弯曲试验在RG3000A电 子万能试验机上测定,试样尺寸2mm×4mm× 36mm. 1一SC颗粒:2一模具;3一从缝隙分离出的滤液 1一上模冲:2一阴模:3一混合粉末:4一下模冲 图2伪半固态触变成形示意图 图1单向冷压制坯示意图 Fig.2 Schematic diagram of semi-solid thixoforming Fig.I Schematic diagram of blanks by unidirectional cool pressing 采用NEOPHOT21型号光学显微镜(OM)进行 3实验结果 组织观察、LE0-1450型扫描电子显微镜(SEM)观 察SiC的分布形态及断口组织形貌,JEOL JXA8230 3.1复合材料显微组织 型能谱仪(EDS)测定材料中Si元素质量分数,再将 图3(a)为30%SiCp/Al原始坯料仅热压不过 C元素配入,计算出SiC质量分数和体积分数.选用 滤的组织.从图中可以看出,SC颗粒弥散分布在 NETZSCH DIL402P℃热膨胀仪测定室温至200℃ A1基体中,但SiC颗粒在基体中并非完全均匀分布 的热膨胀系数,试样尺寸b5mm×25mm,升温速度 且存在颗粒的团聚现象 50 50 um 图3SiCp/A复合材料光学显微组织.SiC体积分数:(a)30%:(b)40%:(c)56%:(d)63% Fig.3 Optical micrographs of SiCp/Al composites with different volume fraction SiC:(a)30%:(b)40%:(e)56%:(d)63%

第 4 期 郭明海等: 伪半固态触变成形制备 SiCp/Al 电子封装材料的组织与性能 450 ℃,10 min + 600 ℃,1 h 的烧结方式; 伪半固态 触变成形在自制的模具系统及压力机下进行,成形 时坯料的温度为 760 ℃,压强 125 MPa,其成形原理 示意见图 2. 冷压坯质量不变,通过改变滤液槽的大 小,可得到不同 SiC 体积分数 Al 基电子封装材料. 1—上模冲; 2—阴模; 3—混合粉末; 4—下模冲 图 1 单向冷压制坯示意图 Fig. 1 Schematic diagram of blanks by unidirectional cool pressing 图 3 SiCp /Al 复合材料光学显微组织. SiC 体积分数: ( a) 30% ; ( b) 40% ; ( c) 56% ; ( d) 63% Fig. 3 Optical micrographs of SiCp /Al composites with different volume fraction SiC: ( a) 30% ; ( b) 40% ; ( c) 56% ; ( d) 63% 采用 NEOPHOT21 型号光学显微镜( OM) 进行 组织观察、LEO--1450 型扫描电子显微镜( SEM) 观 察 SiC 的分布形态及断口组织形貌,JEOL JXA--8230 型能谱仪( EDS) 测定材料中 Si 元素质量分数,再将 C 元素配入,计算出 SiC 质量分数和体积分数. 选用 NETZSCH DIL 402 PC 热膨胀仪测定室温至 200 ℃ 的热膨胀系数,试样尺寸 5 mm × 25 mm,升温速度 为 2. 5 ℃·min - 1 . JR--3 激光导热仪测定室温下的热 导率( TC) ,试样尺寸 10 mm × 4 mm. 复合材料的 密度用 Archimedes 排水法原理测定,抗压强度在 HS--3001B 试 验 机 上 测 定,试 样 尺 寸 5 mm × 15 mm,抗弯强度采用三点弯曲试验在 RG3000A 电 子万能试验机上测定,试 样 尺 寸 2 mm × 4 mm × 36 mm. 1 "SiC 颗粒; 2 "模具; 3 "从缝隙分离出的滤液 图 2 伪半固态触变成形示意图 Fig. 2 Schematic diagram of semi-solid thixoforming 3 实验结果 3. 1 复合材料显微组织 图 3( a) 为 30% SiCp /Al 原始坯料仅热压不过 滤的组织. 从图中可以看出,SiC 颗粒弥散分布在 Al 基体中,但 SiC 颗粒在基体中并非完全均匀分布 且存在颗粒的团聚现象. ·491·

·492· 北京科技大学学报 第36卷 Ganguly和Pol、Tszeng及Mishnaevsky 44.2%、60.1%和66.9% 等切的研究表明,在颗粒的团簇区有较大的内 图3(d)中的黑色部分为孔隙,主要存在于碳 应力,容易引起复合材料的破坏,颗粒的团簇会 化硅颗粒的团聚区.烧结坯在760℃伪半固态触变 降低复合材料的失效应变,所以应尽量避免颗粒 时,碳化硅还是固相,起骨架的作用:而铝已经熔化, 的团聚现象.一般来说,颗粒分布越均匀,材料的 挤压过程可使铝液渗到碳化硅骨架中并与之结合 失效应变也越高,为使SiC颗粒在基体中分布均 在碳化硅颗粒的团聚区,颗粒的间隙很小,铝液很难 匀并提高其含量,还需后道工序一伪半固态触 渗透其中,因而出现了个别孔隙 变成形. 图4为SiC体积分数分别为40%、56%、63%的 经伪半固态触变后,获得不同SC含量的电子 SiCp/Al电子封装材料经三点弯曲试验断裂后的断 封装材料,其组织典型形貌如图3(b)~(d)所示. 口形貌.从图中可以看出,断口中存在A1基体断裂 可见SiC颗粒均匀、分散分布在Al基体中.采用定时引起的韧窝和SiC断裂时产生的解离台阶,其主 量金相法测定SiC颗粒的体积分数分别达40%、 要断裂方式为SiC颗粒的穿晶脆性断裂,同时伴随 56%和63%,能谱测定SiC的质量分数分别为 有A!基体的韧性断裂 图4SiCp/A1复合材料断口组织形貌.SiC体积分数:(a)40%:(b)56%:(c)63%:(d)图(b)局部放大 Fig.4 Fractographs of SiCp/Al composites with the different volume fraction SiC:(a)40%(b)56%:(c)63%:(d)enlargement of Fig.4(b) 3.2复合材料性能 表3SiCp/A1复合材料的实测密度和相对密度 Table 3 Practical density and relative density of SiCp/Al composites 从电子封装材料上取样进行性能测定 SiC体积 实测密度/ 理论密度/ 用Archimedes排水法原理测定复合材料的密 致密度 分数/% (g"em-3) (g"cm-3) 度,由复合法计算出其理论密度见表3.随着SiC体 40 2.89 2.900 0.997 积分数的增加,复合材料的密度逐渐增加,致密度基 56 2.94 2.980 0.987 本不变(99%). 63 2.97 3.015 0.985 测得复合材料的抗压强度和抗弯强度见图5. 随着SC颗粒体积分数的增加,复合材料室温下的 用R-3激光导热仪测得室温下热扩散系数, 抗压强度和抗弯强度逐渐增加.颗粒形状对材料的 然后计算出其热导率,材料的热导率入与密度P、比 力学性能有着重要影响图,材料制备前,SiC颗粒应 热容c,和热扩散系数a的关系为入=cp. 钝化处理 采用复合法则得出该复合材料的比热容,并计

北 京 科 技 大 学 学 报 第 36 卷 Ganguly 和 Pool [15]、Tszeng [16] 及 Mishnaevsky 等[17]的研究 表 明,在颗粒的团簇区有较大的内 应力,容易引起复合材料的破坏,颗粒的团簇会 降低复合材料的失效应变,所以应尽量避免颗粒 的团聚现象. 一般来说,颗粒分布越均匀,材料的 失效应变也越高,为使 SiC 颗粒在基体中分布均 匀并提高其含量,还需后道工序———伪半固态触 变成形. 经伪半固态触变后,获得不同 SiC 含量的电子 封装材料,其组织典型形貌如图 3( b) ~ ( d) 所示. 可见 SiC 颗粒均匀、分散分布在 Al 基体中. 采用定 量金相法测定 SiC 颗粒的体积分数分别达 40% 、 56% 和 63% ,能 谱 测 定 SiC 的 质 量 分 数 分 别 为 44. 2% 、60. 1% 和 66. 9% . 图 3( d) 中的黑色部分为孔隙,主要存在于碳 化硅颗粒的团聚区. 烧结坯在 760 ℃ 伪半固态触变 时,碳化硅还是固相,起骨架的作用; 而铝已经熔化, 挤压过程可使铝液渗到碳化硅骨架中并与之结合. 在碳化硅颗粒的团聚区,颗粒的间隙很小,铝液很难 渗透其中,因而出现了个别孔隙. 图 4 为 SiC 体积分数分别为 40% 、56% 、63% 的 SiCp /Al 电子封装材料经三点弯曲试验断裂后的断 口形貌. 从图中可以看出,断口中存在 Al 基体断裂 时引起的韧窝和 SiC 断裂时产生的解离台阶,其主 要断裂方式为 SiC 颗粒的穿晶脆性断裂,同时伴随 有 Al 基体的韧性断裂. 图 4 SiCp /Al 复合材料断口组织形貌. SiC 体积分数: ( a) 40% ; ( b) 56% ; ( c) 63% ; ( d) 图( b) 局部放大 Fig. 4 Fractographs of SiCp /Al composites with the different volume fraction SiC: ( a) 40% ; ( b) 56% ; ( c) 63% ; ( d) enlargement of Fig. 4( b) 3. 2 复合材料性能 从电子封装材料上取样进行性能测定. 用 Archimedes 排水法原理测定复合材料的密 度,由复合法计算出其理论密度见表 3. 随着 SiC 体 积分数的增加,复合材料的密度逐渐增加,致密度基 本不变( 99% ) . 测得复合材料的抗压强度和抗弯强度见图 5. 随着 SiC 颗粒体积分数的增加,复合材料室温下的 抗压强度和抗弯强度逐渐增加. 颗粒形状对材料的 力学性能有着重要影响[18],材料制备前,SiC 颗粒应 钝化处理. 表 3 SiCp /Al 复合材料的实测密度和相对密度 Table 3 Practical density and relative density of SiCp /Al composites SiC 体积 分数/% 实测密度/ ( g·cm - 3 ) 理论密度/ ( g·cm - 3 ) 致密度 40 2. 89 2. 900 0. 997 56 2. 94 2. 980 0. 987 63 2. 97 3. 015 0. 985 用 JR--3 激光导热仪测得室温下热扩散系数, 然后计算出其热导率,材料的热导率 λ 与密度 ρ、比 热容 cp 和热扩散系数 α 的关系为 λ = cpαρ. 采用复合法则得出该复合材料的比热容,并计 ·492·

第4期 郭明海等:伪半固态触变成形制备SCp/A!电子封装材料的组织与性能 ·493· 700 685.1 热导率降低.因此,降低孔隙率可以有效提高其热 ·一抗压强度 650 ·一抗弯强度 导率. 600 不规则形态的颗粒,在相同体积分数下其表面 美50 496.2 积大于规则形态的颗粒,不利于导热.近球形的颗 粒与之相比具有较小的表面积,有助于热导率的提 450 470 401.6 400 高四.采用SiC颗粒A粉末混合、冷压制坯、高温 350.1 350 345 烧结和伪半固态触变成形制备的SiCp/A复合材料 300 40 455055 60 65 中,SC颗粒消除了过小的尖角,均匀分布,降低了 SiC体积分数/% 界面热阻,使材料具有良好的导热性能 图5SiCp/A!复合材料的抗压和抗弯强度 伪半固态触变成形实验中,冷压坯质量不变,通 Fig.5 Compressive strength and bending strength of SiCp/Al com- 过改变滤液槽的大小,可得到不同SiC体积分数A! posites 基电子封装材料,其室温至200℃时热膨胀系数值 算得复合材料的热导率见图6.随着SiC颗粒体积 如表4所示.从表中可以看出,随着SiC颗粒体积 分数的增加,复合材料室温下的热导率逐渐增加. 分数的增加,材料热膨胀系数逐渐减小.伪半固态 这是由于SiC的热导率(280W·m1·K-1)高于A1 触变成形工艺制备的高SC体积分数电子封装材料 的热导率(237Wm1·K-),材料中加入导热性能 的热膨胀系数值与CPS公司采用Quickcast工艺 更好的SiC颗粒,提高了其导热性能.虽然在SiC体 制备的相同SC体积分数电子封装材料的热膨胀系 积分数提高的同时,材料内部带来了更多的界面和 相近,通过控制SiC的体积分数可得到不同的热膨 产生了更多的界面热阻,但更高体积分数的SiC颗 胀系数复合材料成品 粒加入到复合材料中,抵消了界面热阻增大对降低 表4SiCp/Al电子封装材料200℃时的热膨胀系数值 材料导热性能的负面影响,从而使材料的导热性能 Table 4 Coefficient of thermal expansion of SiCp/Al materials at 200 C 有所提高.这与Molina等g的研究结果是相符合 SiC体积 热膨胀系数/(10-6K1) 的.比Ceramics Process Systems(简称CPS)公司制 分数/% 伪半固态触变成形工艺 QuickeastT工艺 备的相同SiC体积分数复合材料的热导率(180W· 40 12.60 11.50 m1.K1)0稍低,但是已远超过100W·m1.K-1 56 9.25 10.56 电子封装材料的基本要求 63 8.21 8.75 180 178 178 电子封装材料的热膨胀系数首先应与Si等芯 176 片材料相匹配.图7为56%SiCp/Al电子封装材料 174 热膨胀系数和芯片材料硅回热膨胀系数及其比值 172 170 随温度的变化曲线。从图中可以看出:两种材料在 168 室温至400℃范围内的热膨胀系数变化趋势相同: 166 16 两种材料热膨胀系数比值随着温度的升高在1.8至 164 162 2.8的范围内变化.可见,所制备封装材料与硅芯片 40 455055 60 65 SiC体积分数/修 材料的热膨胀系数在该温度段相匹配,从而降低了 封装材料与芯片间的热应力,提高了半导体器件的 图6SiCp/Al复合材料的热导率 Fig.6 Thermal conductivity of SiCp/Al composites 安全性及其尺寸的稳定性. 固体材料的导热主要包括电子导热、声子导热 4结论 和光子导热,金属基复合材料中电子和声子的作用 (1)以SiC和Al混合冷压、高温烧结为坯料, 增强。碳化硅铝复合材料中,当热传导的载体电子 采用伪半固态触变成形工艺成功制备出不同SC体 和声子运动遇到SiC/A!界面或界面上的缺陷时,将 积分数A基电子封装材料,其致密度高,热膨胀系 会发生散射阻碍热传导的进行.界面面积、缺陷密 数可控. 度增加,均会加剧散射,阻碍热传导,使热导率降低, (2)通过伪半固态触变成形工艺制备的SiCp/ 材料中的孔隙也对声子会产生严重的散射,从而使 Al电子封装材料,其Al基体相互连接构成网状,SiC

第 4 期 郭明海等: 伪半固态触变成形制备 SiCp/Al 电子封装材料的组织与性能 图 5 SiCp /Al 复合材料的抗压和抗弯强度 Fig. 5 Compressive strength and bending strength of SiCp /Al com￾posites 算得复合材料的热导率见图 6. 随着 SiC 颗粒体积 分数的增加,复合材料室温下的热导率逐渐增加. 这是由于 SiC 的热导率( 280 W·m - 1 ·K - 1 ) 高于 Al 的热导率( 237 W·m - 1 ·K - 1 ) ,材料中加入导热性能 更好的 SiC 颗粒,提高了其导热性能. 虽然在 SiC 体 积分数提高的同时,材料内部带来了更多的界面和 产生了更多的界面热阻,但更高体积分数的 SiC 颗 粒加入到复合材料中,抵消了界面热阻增大对降低 材料导热性能的负面影响,从而使材料的导热性能 有所提高. 这与 Molina 等[19]的研究结果是相符合 的. 比 Ceramics Process Systems ( 简称 CPS) 公司制 备的相同 SiC 体积分数复合材料的热导率( 180 W· m - 1 ·K - 1 ) [20]稍低,但是已远超过 100 W·m - 1 ·K - 1 电子封装材料的基本要求. 图 6 SiCp /Al 复合材料的热导率 Fig. 6 Thermal conductivity of SiCp /Al composites 固体材料的导热主要包括电子导热、声子导热 和光子导热,金属基复合材料中电子和声子的作用 增强. 碳化硅铝复合材料中,当热传导的载体电子 和声子运动遇到 SiC /Al 界面或界面上的缺陷时,将 会发生散射阻碍热传导的进行. 界面面积、缺陷密 度增加,均会加剧散射,阻碍热传导,使热导率降低, 材料中的孔隙也对声子会产生严重的散射,从而使 热导率降低. 因此,降低孔隙率可以有效提高其热 导率. 不规则形态的颗粒,在相同体积分数下其表面 积大于规则形态的颗粒,不利于导热. 近球形的颗 粒与之相比具有较小的表面积,有助于热导率的提 高[21]. 采用 SiC 颗粒 Al 粉末混合、冷压制坯、高温 烧结和伪半固态触变成形制备的 SiCp /Al 复合材料 中,SiC 颗粒消除了过小的尖角,均匀分布,降低了 界面热阻,使材料具有良好的导热性能. 伪半固态触变成形实验中,冷压坯质量不变,通 过改变滤液槽的大小,可得到不同 SiC 体积分数 Al 基电子封装材料,其室温至 200 ℃ 时热膨胀系数值 如表 4 所示. 从表中可以看出,随着 SiC 颗粒体积 分数的增加,材料热膨胀系数逐渐减小. 伪半固态 触变成形工艺制备的高 SiC 体积分数电子封装材料 的热膨胀系数值与 CPS 公司采用 Quickcast TM 工艺 制备的相同 SiC 体积分数电子封装材料的热膨胀系 相近,通过控制 SiC 的体积分数可得到不同的热膨 胀系数复合材料成品. 表 4 SiCp /Al 电子封装材料 200 ℃时的热膨胀系数值 Table 4 Coefficient of thermal expansion of SiCp /Al materials at 200 ℃ SiC 体积 分数/% 热膨胀系数/( 10 - 6 K - 1 ) 伪半固态触变成形工艺 Quickcast TM工艺 40 12. 60 11. 50 56 9. 25 10. 56 63 8. 21 8. 75 电子封装材料的热膨胀系数首先应与 Si 等芯 片材料相匹配. 图 7 为 56% SiCp /Al 电子封装材料 热膨胀系数和芯片材料硅[22]热膨胀系数及其比值 随温度的变化曲线. 从图中可以看出: 两种材料在 室温至 400 ℃范围内的热膨胀系数变化趋势相同; 两种材料热膨胀系数比值随着温度的升高在 1. 8 至 2. 8 的范围内变化. 可见,所制备封装材料与硅芯片 材料的热膨胀系数在该温度段相匹配,从而降低了 封装材料与芯片间的热应力,提高了半导体器件的 安全性及其尺寸的稳定性. 4 结论 ( 1) 以 SiC 和 Al 混合冷压、高温烧结为坯料, 采用伪半固态触变成形工艺成功制备出不同 SiC 体 积分数 Al 基电子封装材料,其致密度高,热膨胀系 数可控. ( 2) 通过伪半固态触变成形工艺制备的 SiCp / Al 电子封装材料,其 Al 基体相互连接构成网状,SiC ·493·

·494· 北京科技大学学报 第36卷 16- 14 -0-Si -o-56%SiCp/Al 0 -- 0 100 200 300 400 100 200300400 温度℃ 温度℃ 图756%SiCp/A电子封装材料与芯片材料S:的热膨胀系数(a)及其比值()随温度的变化曲线 Fig.7 Dependence of CTE (a)and CTE ratio (b)on temperature of 56%SiCp/Al composites and Si 颗粒均匀镶嵌分布于铝基体之中, thermal management solutions /Proceedings of SPIE-The In- (3)SiCp/Al电子封装材料的断裂方式为SiC ternational Society for Optical Engineering,2000,4217:55 颗粒的脆性穿晶断裂,同时伴随着A!基体的韧性 [8]Bugeau J,Coughlin W,Priolo M,et al.Advanced MMIC T/R module for 6 to 18 GHz multifunction arrays /Microuave and Mil- 断裂 limeter-ave Monolithic Circuits Symposium.Albuquerque,1992: (4)随着SiC颗粒体积分数的增加,电子封装 119 材料密度和室温下的热导率稍有增加,热膨胀系数 9]Long S.Microstructure and mechanical properties of a high volume 逐渐减小,室温下的抗压强度和抗弯强度逐渐增加. fraction SiC particle reinforced AlCu4MgAg squeeze casting.Mater SiCp/Al复合材料热稳定性良好,与芯片材料硅的 Sci Eng A,1999,269(1/2):175 [10]Rawal S.Metal-matrix composites for space applications.JOM 热膨胀系数相匹配,性能能够满足电子封装材料的 2001,53(4):14 要求 [11]Occhionero M A,Adams R W,Fennessy K P.A new sub-state for electronics packaging:aluminum-silicon carbide (AlSiC) 参考文献 composites /Proceedings of the Fourth Annual Portable by De- [Xiong D C,Cheng H.Liu X C,et al.Advances in research on sign Conference,Electronies Design,1997:24 aluminum silicon carbide electronie packaging composites and [12]He X B,Ren S B,Qu X H,et al.Preparation of high thermal components.Mater Rev,2006,20(3)111 conductivity metal matrix composites for electronic packaging. (熊德赣,程辉,刘希从,等.ASiC电子封装材料及构件研究 Vacuum Electron,2010 (4):1 进展.材料导报,2006,20(3):111) (何新波,任树彬,曲选辉,等.电子封装用高导热金属基复 Liu ZC,WangZ F,Jiang G S.Advances in metal-matrix material 合材料的研究.真空电子技术,2010(4):1) for electronie packaging.Ordnance Mater Sci Eng,2010,24(2): [13]L G M,Zhi LQ.The current status of research on the constitu- 49 tive relations of semi-solid metal thixoforming.Automot Eng (刘正春,王志法,姜国圣.金属基电子封装材料进展.兵器 2009,31(5):430 材料科学与工程,2010,24(2):49) (路贵民,只立群半固态金属触变成形本构关系的研究现 B]Jin H.Advances in thermal management materials for electronic 状.汽车工程,2009,31(5):430) applications.JOM,1998,50(6):46 04]Zhao Z Y.Instruction Manual of Aluminum and Aluminum 4]Zweben C.Advances in composite materials for thermal manage- Alloys Grade and Metallogrophic Quick Search and Metallographic ment in electronic packaging.JOM,1998,50(6):47 Examination Technology Innovation.Beijing:China Knowledge 5]Nie C Z,Zhao N Q.Review of metal-matrix composite materials Press,2005 for electronic packaging.Heat Treat Met,2003,28(6):1 (赵志远铝和铝合金牌号与金相图谱速用速查及金相检验 (聂存珠,赵乃勤.金属基电子封装复合材料的研究进展.金 技术创新应用指导手册.北京:中国知识出版社,2005) 属热处理,2003,28(6):1) [15]Ganguly P,Pool W J.Influence of reinforcement arrangement on [6]Zhong G.Wu SS,Wan L,et al.Research development of elec- the local reinforcement stresses in composite materials.Mech tronic packaging materials with high SiCp or Si content.Mater Phys Solids,2004,52(6):1355 Rem,2008,22(2):13 06]Tszeng T C.The effects of particle clustering on the mechanical (钟鼓,吴树森,万里,等.高SiCp或高Si含量电子封装材料 behavior of particle reinforced composites.Compos Part B, 研究进展.材料导报,2008,22(2):13) 1998,29(3):299 ]Occhionero M A,Hay R A,Adams R W.Aluminum silicon car- 07]Mishnaevsky L Jr,Derrien K,Baptiste D.Effect of microstruc- bide (AlSiC)microprocessor lids and heat sinks for integrated ture of particle reinforced composites on the damage evolution:

北 京 科 技 大 学 学 报 第 36 卷 图 7 56% SiCp /Al 电子封装材料与芯片材料 Si 的热膨胀系数( a) 及其比值( b) 随温度的变化曲线 Fig. 7 Dependence of CTE ( a) and CTE ratio ( b) on temperature of 56% SiCp /Al composites and Si 颗粒均匀镶嵌分布于铝基体之中. ( 3) SiCp /Al 电子封装材料的断裂方式为 SiC 颗粒的脆性穿晶断裂,同时伴随着 Al 基体的韧性 断裂. ( 4) 随着 SiC 颗粒体积分数的增加,电子封装 材料密度和室温下的热导率稍有增加,热膨胀系数 逐渐减小,室温下的抗压强度和抗弯强度逐渐增加. SiCp /Al 复合材料热稳定性良好,与芯片材料硅的 热膨胀系数相匹配,性能能够满足电子封装材料的 要求. 参 考 文 献 [1] Xiong D G,Cheng H,Liu X C,et al. Advances in research on aluminum silicon carbide electronic packaging composites and components. Mater Rev,2006,20( 3) : 111 ( 熊德赣,程辉,刘希从,等. AlSiC 电子封装材料及构件研究 进展. 材料导报,2006,20( 3) : 111) [2] Liu Z C,Wang Z F,Jiang G S. Advances in metal-matrix material for electronic packaging. Ordnance Mater Sci Eng,2010,24( 2) : 49 ( 刘正春,王志法,姜国圣. 金属基电子封装材料进展. 兵器 材料科学与工程,2010,24( 2) : 49) [3] Jin S H. Advances in thermal management materials for electronic applications. JOM,1998,50( 6) : 46 [4] Zweben C. Advances in composite materials for thermal manage￾ment in electronic packaging. JOM,1998,50( 6) : 47 [5] Nie C Z,Zhao N Q. Review of metal-matrix composite materials for electronic packaging. Heat Treat Met,2003,28( 6) : 1 ( 聂存珠,赵乃勤. 金属基电子封装复合材料的研究进展. 金 属热处理,2003,28( 6) : 1) [6] Zhong G,Wu S S,Wan L,et al. Research development of elec￾tronic packaging materials with high SiCp or Si content. Mater Rev,2008,22( 2) : 13 ( 钟鼓,吴树森,万里,等. 高 SiCp 或高 Si 含量电子封装材料 研究进展. 材料导报,2008,22( 2) : 13) [7] Occhionero M A,Hay R A,Adams R W. Aluminum silicon car￾bide ( AlSiC) microprocessor lids and heat sinks for integrated thermal management solutions / / Proceedings of SPIE ― The In￾ternational Society for Optical Engineering,2000,4217: 55 [8] Bugeau J,Coughlin W,Priolo M,et al. Advanced MMIC T /R module for 6 to 18 GHz multifunction arrays / / Microwave and Mil￾limeter-Wave Monolithic Circuits Symposium. Albuquerque,1992: 119 [9] Long S. Microstructure and mechanical properties of a high volume fraction SiC particle reinforced AlCu4MgAg squeeze casting. Mater Sci Eng A,1999,269( 1 /2) : 175 [10] Rawal S. Metal-matrix composites for space applications. JOM, 2001,53( 4) : 14 [11] Occhionero M A,Adams R W,Fennessy K P. A new sub-state for electronics packaging: aluminum-silicon carbide ( AlSiC ) composites / / Proceedings of the Fourth Annual Portable by De￾sign Conference,Electronics Design,1997: 24 [12] He X B,Ren S B,Qu X H,et al. Preparation of high thermal conductivity metal matrix composites for electronic packaging. Vacuum Electron,2010( 4) : 1 ( 何新波,任树彬,曲选辉,等. 电子封装用高导热金属基复 合材料的研究. 真空电子技术,2010( 4) : 1) [13] Lu G M,Zhi L Q. The current status of research on the constitu￾tive relations of semi-solid metal thixoforming. Automot Eng, 2009,31( 5) : 430 ( 路贵民,只立群. 半固态金属触变成形本构关系的研究现 状. 汽车工程,2009,31( 5) : 430) [14] Zhao Z Y. Instruction Manual of Aluminum and Aluminum Alloys'Grade and Metallographic Quick Search and Metallographic Examination Technology Innovation. Beijing: China Knowledge Press,2005 ( 赵志远. 铝和铝合金牌号与金相图谱速用速查及金相检验 技术创新应用指导手册. 北京: 中国知识出版社,2005) [15] Ganguly P,Pool W J. Influence of reinforcement arrangement on the local reinforcement stresses in composite materials. J Mech Phys Solids,2004,52( 6) : 1355 [16] Tszeng T C. The effects of particle clustering on the mechanical behavior of particle reinforced composites. Compos Part B, 1998,29( 3) : 299 [17] Mishnaevsky L Jr,Derrien K,Baptiste D. Effect of microstruc￾ture of particle reinforced composites on the damage evolution: ·494·

第4期 郭明海等:伪半固态触变成形制备SCp/A!电子封装材料的组织与性能 ·495· probabilistic and numerical analysis.Compos Sci Technol,2004. ic thermal management and packaging designs//Proceedings of 64(12):1805 SPIE-The International Society for Optical Engineering,2003 [8]Qiang H,Xu Z P.Effect of particle geometrical characteristic on International Symposium on Microelectronies,2003,5288:495 mechanical behavior of SiC particle reinforced aluminum matrix 221]Yu Z H,Zhang J Y,Zhou X L.Research and development on composites.Light Alloy Fabr Technol,2008,36 (10):46 thermal conductivity of SiC/Al composites applied to electronic (强华,徐尊平.颗粒几何特征对SiC颗粒增强AI基复合材 packaging.Met Funct Mater,2009,16(1)59 料力学行为的影响.轻合金加工技术,2008,36(10):46) (余志华,张建云,周贤良.电子封装SiCp/Al复合材料导热 [19]Molina J M,Narciso L,Weber A,et al.Thermal conductivity of 性能研究与进展.金属功能材料,2009,16(1):59) Al-SiC composites with monomodal and bimodal particle size dis- 22]Nam T H,Guillermo R,Degischer P.Thermal expansion behav- tribution.Mater Sci Eng A,2008,480(1/2)483 iour of aluminum matrix composites with densely packed SiC par- 20]Occhionero M A,Adams R W,Saums D.AlSiC for optoelectron- ticles.Compos Part A,2008,39(5)856

第 4 期 郭明海等: 伪半固态触变成形制备 SiCp/Al 电子封装材料的组织与性能 probabilistic and numerical analysis. Compos Sci Technol,2004, 64( 12) : 1805 [18] Qiang H,Xu Z P. Effect of particle geometrical characteristic on mechanical behavior of SiC particle reinforced aluminum matrix composites. Light Alloy Fabr Technol,2008,36 ( 10) : 46 ( 强华,徐尊平. 颗粒几何特征对 SiC 颗粒增强 Al 基复合材 料力学行为的影响. 轻合金加工技术,2008,36( 10) : 46) [19] Molina J M,Narciso L,Weber A,et al. Thermal conductivity of Al-SiC composites with monomodal and bimodal particle size dis￾tribution. Mater Sci Eng A,2008,480( 1 /2) : 483 [20] Occhionero M A,Adams R W,Saums D. AlSiC for optoelectron￾ic thermal management and packaging designs / / Proceedings of SPIE ― The International Society for Optical Engineering,2003 International Symposium on Microelectronics,2003,5288: 495 [21] Yu Z H,Zhang J Y,Zhou X L. Research and development on thermal conductivity of SiC /Al composites applied to electronic packaging. Met Funct Mater,2009,16( 1) : 59 ( 余志华,张建云,周贤良. 电子封装 SiCp /Al 复合材料导热 性能研究与进展. 金属功能材料,2009,16( 1) : 59) [22] Nam T H,Guillermo R,Degischer P. Thermal expansion behav￾iour of aluminum matrix composites with densely packed SiC par￾ticles. Compos Part A,2008,39( 5) : 856 ·495·

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