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大面积金刚石膜生长环境气氛的计算机模拟

建立了直流电弧等离子体喷射CVD大面积金刚石沉积数学模型.对衬底上方等离子体中的化学环境进行了模拟计算,并与在相同条件下对等离子体的光谱结果进行对比,发现计算结果与实验结果基本上吻合.在模拟条件下CH基团可能是促使金刚石生长的主要活化基因.模拟结果显示CH基因沿径向的均匀分布对大面积金刚石膜生长有较大的意义.
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