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复旦大学:《有机化学A》课程教学课件(PPT课件讲稿)第6、7章 卤代烃 有机金属化合物亲核取代反应 b-消除反应(3)

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◼ 卤代烃的消除反应 ◼ 消除反应的E2和E1机理,影响消除反应机理的因素, ◼ 消除的Zaitsev取向和Hofmann取向 ◼ 烯烃的类型及相对稳定性。 ◼ 反合成分析,Williamson醚合成法
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第6、7章卤代烃有机金属化合物 亲核取代反应b-消除反应(3) 主要内容 ■卤代烃的消除反应 ■消除反应的E2和E1机理,影响消除反应机理的因素, ■消除的 Zaitsev取向和 Hofmann取向 ■烯烃的类型及相对稳定性。 ■反合成分析, Williamson醚合成法

主要内容 ◼ 卤代烃的消除反应 ◼ 消除反应的E2和E1机理,影响消除反应机理的因素, ◼ 消除的Zaitsev取向和Hofmann取向 ◼ 烯烃的类型及相对稳定性。 ◼ 反合成分析,Williamson醚合成法 第6、7章 卤代烃 有机金属化合物 亲核取代反应 b-消除反应(3)

第二部分卤代烃β-消除反应 卤代烃的消除反应 RC—c-Nu)+X 88+18+ R-C C-X 取代反应,S2orSN1 H N C=C、+X°+(HB 进攻β位氢 进攻α位碳 β-消除反应 一般情况下,消除 (B-Elimination Reaction) 与亲核取代反应同时 存在(竞争) 制备烯烃的方法之

1. 卤代烃的消除反应 ➢ 一般情况下,消除 与亲核取代反应同时 存在(竞争) 制备烯烃的方法之一 b-消除反应 (b -Elimination Reaction) 取代反应,SN2 or SN1 进攻b位氢 进攻a位碳 + X Nu  + C H R C H  + X b a B C R C H b a + X + HB C H R C H Nu b a 第二部分 卤代烃 b-消除反应

●例:一些卤代烷的消除 注意:主要产物的结构 有何特点? 强碱 KOH CH3CH2 CH2 CH2Cl CH3 CH2 CHECH2 EtoH KOH CH3CH2 CHCH3 CH3 CH=CHCH3 CH3CH2 CHECH2 EtoH Cl 主要 次要 KOH CH EtoH CH CH3 CH2 CCH3 弱碱 CH3CHECCH3 CH3CH2C=CH2 Br EtoH 主要 次要

⚫ 例:一些卤代烷的消除 弱碱 强碱 注意:主要产物的结构 有何特点? CH3CH2CH2CH2Cl CH3CH2CH CH2 CH3CH2CHCH3 Cl CH3CH CHCH3 CH3CH2CH CH2 + 主要 次要 CH3CH2CCH3 Br CH3CH CCH3 CH3CH2C CH2 + 主要 次要 CH3 CH3 CH3 b b b' b b' EtOH KOH EtOH KOH EtOH KOH EtOH

·例:1溴-1,2二苯基丙烷的消除反应注意:消除为立 (有二对对映体) 体专一性 Ph Ph H3c H CH3 KOEt H3C../Ph or Br EtoH C Ph Ph Ph 1R,2R 1S,2s Ph Ph H2c H CH3 KOEt H2c h H Br H EtoH Ph Ph H 1S.2R 1R,2S

⚫例:1-溴-1,2-二苯基丙烷的消除反应 (有二对对映体) 注意:消除为立 体专一性 Ph H3C H Br H Ph b a Ph H CH3 H Br Ph b or a KOEt EtOH C C H3C Ph H Ph Ph H3C H H Br Ph b a Ph H CH3 Br H Ph b or a 1R, 2R 1S, 2S 1S, 2R 1R, 2S KOEt EtOH C C H3C Ph Ph H

2.卤代烃的消除反应机理 88+8+ R c-+ B R a H H ●实验证据:存在两种类型的消除反应 动力学证据的立体化学现象 重排 反应类型 反应速率 I|∝[RXB 立体专一性无 双分子机理 E2 II|∝RX 无选择性 单分子机理 有 E1

2. 卤代烃的消除反应机理 动力学证据 反应速率 反应的立体化学 重排 现象 反应类型 I [RX][B:] 立体专一性 无 双分子机理 E2 II [RX] 无选择性 有 单分子机理 E1  + C H R C H  + X b a B C R C H b a + + X + HB ⚫ 实验证据:存在两种类型的消除反应

■E2机理(双分子消除机理) B: H 8δ+ 8+ Camc--c=C+H-B+ x X 五中心过渡态 势能 旧键的解离与新键的形成同时进行 (一步机理) 符合动力学特征Ⅴ=k[RXB] s 反应进程

◼ E2机理(双分子消除机理) ➢旧键的解离与新键的形成同时进行 (一步机理) ➢符合动力学特征 V = k[RX][B:] + + C C H X B C C C C + H B H X B - - + X 五中心过渡态 势 能 反应进程 S P T

E1机理(单分子消除机理) C-C H=B 慢 快 碳正离子中间体 先消除X,再消除H 势能 (分步机理) >第一步是决速步骤,符合动 力学特征Ⅴ=k[RX 反应进程

➢ 先消除 X-,再消除 H+ (分步机理) ➢第一步是决速步骤,符合动 力学特征 V=k[RX] ◼ E1机理(单分子消除机理) C C H X C C H - X B + C C + H B 慢 快 S P T1 T2 M 势 能 反应进程 碳正离子中间体

■影响消除反应机理的一些因素 a)影响E2机理因素 B δ+ cnc H-B X X 有利于E2机理的因素: >R_X:1R-X,烷基位阻小 B(碱):强碱、大浓度有利 溶剂:弱极性溶剂有利(过渡态电荷分散,极性减小)

◼ 影响消除反应机理的一些因素 + + C C H X B C C C C + H B H X B - - + X a) 影响E2机理因素 有利于E2机理的因素: ➢R-X:1 o R-X,烷基位阻小 ➢B(碱):强碱、大浓度有利 ➢溶 剂: 弱极性溶剂有利(过渡态电荷分散,极性减小)

b)影响E1机理因素 C-C 慢 X 过渡态 H-B 快 有利于E1机理的因素: R-一X:3°R-X B(碱):对E1反应影响较小,但弱碱或低浓度碱,可减少E2的竞争 溶剂:大极性溶剂有利(过渡态电荷密度增加,极性加大)

C C H X C C H - X B + C C + H B 慢 快 C C H X - + b) 影响E1机理因素 过渡态 有利于E1机理的因素: ➢R-X:3 o R-X ➢B(碱):对E1反应影响较小,但弱碱或低浓度碱,可减少E2的竞争 ➢溶 剂:大极性溶剂有利(过渡态电荷密度增加,极性加大)

例1:下列消除反应是经过E还是E2? β KOH CH3CH2CHCH3 CH3CH=CHCH3 CH3 CH2 CHECH2 EtoH 主要 次要 20R-X KoH减性较强 是E2机理,有两个P位氢可消除 OH H CHTCHE=CHCH H2O CH3CH-CH--CH2 c CH3 CH2CHECH2 H2O

⚫ 例1:下列消除反应是经过E1还是E2? CH3CH2CHCH3 Cl CH3CH CHCH3 CH3CH2CH CH2 + 主要 次要 b b' EtOH KOH 2 o R-X KOH碱性较强 CH Cl CH3CH CH2 H H a OH b CH3CH CHCH3 CH3CH2CH CH2 a b + H2O + Cl + H2O + Cl 是E2 机理,有两个b位氢可消除

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